JP2010511705A - トリチルクロライド回収 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
本出願は、2006年12月5日付で出願された米国仮特許出願第60/873,226号(その明細書全体が参照により本明細書中に援用される)の優先権の利益を主張するものである。
(1)スクロースをトリチル化剤と接触させて、6,1’,6’−トリ−O−トリチルスクロース(「TRIS」)を形成する工程、
(2)TRISをアセチル化して、6,1’,6’−トリ−O−トリチルスクロースペンタアセテート(「TRISPA」)を得る工程、
(3)TRISPAを脱トリチル化して、2,3,4,3’,4’−ペンタ−O−アセチルスクロース(「4−PAS」)を得る工程、
(4)4−PASを異性化して、2,3,6,3',4'−ペンタ−O−アセチルスクロース(「6−PAS」)を得る工程、
(5)6−PASを塩素化して、4,1’,6’−トリクロロ−4,1’,6’−トリデオキシガラクトスクロースペンタアセテート(「TOSPA」)を得る工程、及び
(6)TOSPAを脱アセチル化して、4,1’,6’−トリクロロ−4,1’,6’−トリデオキシガラクトスクロース(「スクラロース」)を形成する工程。
(a)スクロースをアミンの存在下でトリアリールメチル化し、6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロース及びトリアリールメチル化スクロース副生成物を形成する工程、
(b)6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースを、アミンの存在下でアシル化し、6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステル及びトリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を形成する工程、
(c)工程(b)の産出物から、
i)6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステル、並びに
ii)トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び工程(b)のアミンを含む混合物を分離する工程、
(d)工程(c)の混合物ii)を含む第1の副生成物成分を、アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
(e)洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
(f)第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
(g)ハロゲン化トリアリールメチルを工程(f)の産出物から回収する工程を含む。
(a)スクロースをアミンの存在下でトリアリールメチル化して、6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロース及びトリアリールメチル化スクロース副生成物を形成する工程、
(b)6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースをアミンの存在下でアシル化して、6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステル及びトリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を形成する工程、
(c)工程(b)の産出物から、
i)6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステル、並びに
ii)トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び工程(b)のアミンを含む混合物を分離する工程、
(d)工程(c)の混合物ii)を含む第1の副生成物成分を、トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、第1の副生成物成分を、実質的に全ての工程(b)のアミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
(e)脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
(f)第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
(g)ハロゲン化トリアリールメチルを工程(f)の産出物から回収する工程を含む。
(a)
1)スクラロース上に、少なくとも1つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも1つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
2)トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
3)アミンを含む混合物を形成する工程、
(b)工程(a)の産出物から、
i)トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ii)トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程、
(c)工程(b)の混合物ii)を含む第1の副生成物成分を、アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
(d)洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
(e)第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
(f)ハロゲン化トリアリールメチルを工程(e)の産出物から回収する工程を含む。
(a)
1)スクラロース上に、少なくとも1つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも1つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
2)トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
3)アミンを含む混合物を形成する工程、
(b)工程(a)の産出物から、
i)トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ii)トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程、
(c)工程(b)の混合物ii)を含む第1の副生成物成分を、トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、第1の副生成物成分を、実質的に全てのアミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
(d)脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
(e)第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
(f)ハロゲン化トリアリールメチルを工程(e)の産出物から回収する工程を含む。
塩基抽出容器Aにより、トリチル化スクロース副生成物のTRIS−B及びTRISPA−Bが、ピリジン又はトリチル化廃液及びアセチル化廃液(それぞれw1及びw2)の他の塩基構成要素(複数可)から分離される(後の脱トリチル化のために水と混和しない有機溶媒中で無傷なように単離される)。流入水流S1は、水(10で示す)及び市販の34%濃HCl(12で示す)を静的ミキサーM1で合わせることにより生じる希HCl溶液を含む。流入有機流S2は、必要に応じて水と混和しない有機溶媒S12(例えばトルエン)がインラインミキサーM2で適切に補充される、トリチル化廃液及びアセチル化廃液(w1及びw2)を含む。抽出プロセスは典型的には周囲温度で実行されるが、より高いか又は低い温度を同様に使用してもよい。適温の使用により、様々な炭水化物誘導体の酸触媒分解が低温で最小限に抑えられるために、収率及びスループットが向上する傾向がある。
同時に、有機溶媒(典型的には主にトルエン)に溶解し、ピリジン及び/又は他の塩基構成要素(複数可)を実質的に含有しない状態にされた、高度に非極性のトリチル化スクロースを含有する抽出容器Aからの流出有機流S4は、脱トリチル化容器Bに誘導され、ここでトリチル除去工程の大部分が実際に遂行される。廃トリチル物質を様々に生成する多数の試薬、例えば(a)HCl等の酸性水溶液からのトリチルアルコール、(b)アルコール性酸からのトリチルエーテル、及び(c)カルボン酸からのトリチルエステルをこのために適用してもよい。脱トリチル化は多くの種類の酸、例えば鉱酸、ルイス酸、カルボン酸、スルホン酸等により触媒され得る。幾つかの実施形態では、試薬は直接トリチルクロライドを生じさせる無水HClである。他の代替物により、トリチルクロライドへの変換にさらなる化学処理を要する中間誘導体が生成する。例えば、濃HCl水溶液を使用してもよく、それによりトリチルクロライド/トリチルアルコール混合物が生成する。さらに別の代替手法は、トリチル基を水素化により開裂してトリフェニルメタンを形成することである。この場合、トリチルクロライドはトリフェニルメタンをCl2で処理することにより再生することができ、結果として遊離したHClもトリチルアルコールとの反応によって、より多くのトリチルクロライドを形成する。
デカンタ容器Dからの水相S6は、スクロース誘導体廃液タンクT2に誘導される。溢流有機流S7は、脱トリチル化容器B及びデカンタ容器Dにおいて課せられた水性の環境の結果として、必然的にごく一部のトリチルクロライドの加水分解形態であるトリチルアルコールを伴った遊離トリチルクロライドを含有する。この活性の減少は、溢流有機流S7がここで誘導される活性化容器Cにおいて、遊離トリチルアルコールのヒドロキシル基が必要な塩素原子により再置換されることにより回復する。トリチルアルコール、トリチルエステル、トリチルエーテル、及び/又はトリチルクロライドのいずれかを含有し、スクロース誘導体及び/又はその分解生成物を実質的に含有しないw3流を、活性化容器Cの前で全回収システムに任意に導入し、インラインミキサーM5においてS7と組み合わせることによって、複合流S8を発生させてもよい。ルイス酸、酸性水溶液、カルボン酸、及び/又は無水HClを使用して脱トリチル化を実行する実施形態では、w3流はTRISPAの脱トリチル化中の廃液として発生する。代替的には、脱トリチル化スクロース誘導体(複数可)がどの程度存在してもそれを除去するのを助けるために、w3流を脱トリチル化容器Bの排出口の幾らか上流の地点に、又は完全に脱トリチル化容器Bの前に誘導してもよい。
幾つかの実施形態では、アセチル化の前にTRISは精製されず(すなわち、トリチル化スクロース副生成物は除去されない)、生じたトリチル化スクロース不純物は、不正確にトリチル化及び不正確にアセチル化された化合物を含む。しかしながら、他の実施形態では、トリチル化スクロース副生成物はアセチル化の前に除去される。これらは、例えば本明細書中でw1流に関して先に記載されているような、トリチル化スクロース副生成物を含有する成分を形成し得るが、w2流に関して上記に記載されているような精製TRISのアセチル化の結果、トリチル化スクロースエステル副生成物が別に生じる。このような場合、トリチル化スクロース副生成物は必要に応じてトリチル化スクロース不純物成分の一部を形成し得る。
廃トリチル化合物(主にトリチルアルコール、トリチルエーテル、及び/又はトリチルエステル)は、TRISPAの脱トリチル化中にトリチルクロライドと共に生成するが、脱トリチル化は典型的にはTRISPAを、溶媒(典型的にはトルエン)中で無水HClに接触させることにより実行される。典型的には、無水HClを脱トリチル化に使用する場合、トリチル基は主にトリチルクロライドの形態であり、トリチルアルコール、トリチルエーテル、又はトリチルエステルは少量しか寄与しない。廃トリチル化合物及びトリチルクロライドはトルエン溶液中に存在するが、当該溶液は典型的には32wt%HCl水溶液で洗浄され、水溶性成分、例えばスクロース誘導体、及びスクラロース製造プロセスの他の部分からの残留量のアミンが除去される。洗浄には周囲温度が典型的には使用され、約15℃〜約30℃の範囲のどの温度も一般に実行可能であるが、他の温度を使用してもよい。結果として、蒸留又は真空ストリッピングにより濃縮され得る、第2の粗トリチルクロライドのトルエン溶液が生じ、その後これから記載するように、単独で、又は上記に記載されているようにトリチル化スクロース不純物から得られる粗トリチルクロライドと組み合わせて、高純度トリチルクロライドに変換される。
上記に記載されているように(トルエン中の溶液として)調製される粗トリチルクロライドは、次に高純度トリチルクロライドに変換され得る。トリチルクロライドの最終結晶化からの母液も供給量に加えられ得る。幾つかの実施形態では、最初に粗物質を活性炭で処理して、全体の純度を向上することが有益であり得るが、これは必要ではない。高純度トリチルクロライドへの変換は、溶液を濃HCl水溶液(典型的には35wt%〜37wt%)に接触させることにより実行してもよい。無水HClの使用も変換を完了するために利用され得る。生じたトリチルクロライドは典型的には、有機溶媒に溶解して95wt%を超える純度を有する(すなわち、存在するトリチル化物質全体において最大でも5wt%が他のトリチル化合物である)。この溶液をストリッピングにより高温で(典型的には約50℃〜約70℃、且つ典型的には真空下で)約50wt%〜55wt%の濃度に濃縮してもよい。続いて冷却してトリチルクロライドを高純度(典型的には少なくとも98wt%)の結晶として析出させ、これを遠心分離又は濾過により回収してもよい。典型的には、冷却は約0℃〜約20℃の範囲の温度までである。結晶生成物はそのままでも、又は乾燥させて溶媒を除去してから使用してもよく、母液を上述のように再利用してもよい。
(a)
1)スクラロース上に、少なくとも1つのトリチル置換基及び少なくとも1つのアシル置換基を含むトリチル化スクロース誘導体、
2)トリチル化スクロースエステル副生成物、並びに
3)アミンを含む混合物を形成する工程、
(b)工程(a)の産出物から、
i)トリチル化スクロース誘導体、及び
ii)トリチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程を含む方法を提供する。
Claims (44)
- ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
(a)スクロースをアミンの存在下でトリアリールメチル化し、6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロース及びトリアリールメチル化スクロース副生成物を形成する工程、
(b)前記6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースを、アミンの存在下でアシル化し、6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステル及びトリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を形成する工程、
(c)前記工程(b)の産出物から、
i)前記6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステル、並びに
ii)前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記工程(b)の前記アミンを含む混合物を分離する工程、
(d)前記工程(c)の前記混合物ii)を含む第1の副生成物成分を、前記アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
(e)前記洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
(f)前記第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
(g)前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程(f)の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。 - 前記工程(b)が前記工程(a)の前記トリアリールメチル化スクロース副生成物の存在下で実行され、且つ該トリアリールメチル化スクロース副生成物がアシル化されて、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物の一部を形成する、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の副生成物成分が前記工程(a)の前記トリアリールメチル化スクロース副生成物をさらに含み、且つ前記工程(d)の接触により、そのトリアリールメチル基がさらに開裂する、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の副生成物成分が前記工程(a)の前記アミンをさらに含み、且つ前記工程(d)の接触により該工程(a)の該アミンを該第1の副生成物成分からさらに除去する、請求項1に記載の方法。
- トリアリールメチルがトリチルである、請求項1に記載の方法。
- 前記6,1',6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステルを、前記トリアリールメチル基をそれから除去するのに十分な条件下で酸と接触させ、それにより2,3,4,3’,4’−ペンタ−O−アシルスクロース、並びにハロゲン化トリアリールメチル並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第2の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに続いて該第2の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を、前記2,3,4,3’,4’−ペンタ−O−アシルスクロースから分離すると共に、それをハロゲン化水素と接触させ、前記1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記酸が無水ハロゲン化水素である、請求項6に記載の方法。
- 前記第2の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分が、前記工程(e)の後且つ前記工程(f)の前に、前記第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分と混合される、請求項6に記載の方法。
- 前記工程(f)の前記ハロゲン化水素が水溶液である、請求項8に記載の方法。
- 前記工程(f)の前記ハロゲン化水素が無水物である、請求項8に記載の方法。
- 前記第2の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分が、前記工程(d)の後、且つ前記工程(e)の前又は該工程(e)中に、前記洗浄副生成物成分と混合される、請求項6に記載の方法。
- 前記工程(f)の前記ハロゲン化水素が水溶液である、請求項11に記載の方法。
- 前記工程(f)の前記ハロゲン化水素が無水物である、請求項11に記載の方法。
- 前記2,3,4,3’,4’−ペンタ−O−アシルスクロースをスクラロースに変換する工程をさらに含む、請求項6に記載の方法。
- ハロゲン化物が塩化物である、請求項1に記載の方法。
- ハロゲン化物が臭化物である、請求項1に記載の方法。
- 前記アシル化する工程がアセチル化を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記アシル化する工程がベンゾイル化を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記アミンが前記工程(a)、前記工程(b)、又はその両方においてピリジンである、請求項1に記載の方法。
- ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
(a)スクロースをアミンの存在下でトリアリールメチル化して、6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロース及びトリアリールメチル化スクロース副生成物を形成する工程、
(b)前記6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースをアミンの存在下でアシル化して、6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステル及びトリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を形成する工程、
(c)前記工程(b)の産出物から、
i)前記6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステル、並びに
ii)前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記工程(b)の前記アミンを含む混合物を分離する工程、
(d)前記工程(c)の前記混合物ii)を含む第1の副生成物成分を、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、該第1の副生成物成分を、実質的に全ての前記工程(b)の前記アミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
(e)前記脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
(f)前記第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
(g)前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程(f)の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。 - 前記工程(b)が前記工程(a)の前記トリアリールメチル化スクロース副生成物の存在下で実行され、且つ該トリアリールメチル化スクロース副生成物がアシル化されて、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物の一部を形成する、請求項20に記載の方法。
- 前記第1の副生成物成分が前記工程(a)の前記トリアリールメチル化スクロース副生成物をさらに含む、請求項20に記載の方法。
- 前記第1の副生成物成分が前記工程(a)の前記アミンをさらに含み、且つ前記工程(d)のストリッピングにより、該工程(a)の該アミンを該第1の副生成物成分からさらに除去する、請求項20に記載の方法。
- トリアリールメチルがトリチルである、請求項20に記載の方法。
- 前記6,1’,6’−トリ−O−トリアリールメチルスクロースペンタエステルを、前記トリアリールメチル基をそれから除去するのに十分な条件下で酸と接触させ、それにより2,3,4,3’,4’−ペンタ−O−アシルスクロース、並びにハロゲン化トリアリールメチル並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第2の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに続いて該第2の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を前記2,3,4,3’,4’−ペンタ−O−アシルスクロースから分離すると共に、それをハロゲン化水素と接触させ、前記1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換する、工程をさらに含む、請求項20に記載の方法。
- 前記酸が無水ハロゲン化水素である、請求項25に記載の方法。
- 前記第2の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分が、前記工程(e)の後且つ前記工程(f)の前に、前記第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分と混合される、請求項25に記載の方法。
- 前記工程(f)の前記ハロゲン化水素が水溶液である、請求項27に記載の方法。
- 前記工程(f)の前記ハロゲン化水素が無水物である、請求項27に記載の方法。
- 前記第2の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分が、前記工程(d)の後、且つ前記工程(e)の前又は該工程(e)中に、前記脱アシル化副生成物成分と混合される、請求項25に記載の方法。
- 前記工程(f)の前記ハロゲン化水素が水溶液である、請求項30に記載の方法。
- 前記工程(f)の前記ハロゲン化水素が無水物である、請求項30に記載の方法。
- 前記2,3,4,3’,4’−ペンタ−O−アシルスクロースをスクラロースに変換する工程をさらに含む、請求項25に記載の方法。
- ハロゲン化物が塩化物である、請求項20に記載の方法。
- ハロゲン化物が臭化物である、請求項20に記載の方法。
- 前記アシル化する工程がアセチル化を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記アシル化する工程がベンゾイル化を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記アミンが前記工程(a)、前記工程(b)、又はその両方においてピリジンである、請求項20に記載の方法。
- 前記工程(c)の前記混合物ii)が溶媒をさらに含有し、且つ前記ストリッピングにより該溶媒の少なくとも一部が除去される、請求項20に記載の方法。
- 前記溶媒がメタノールである、請求項39に記載の方法。
- ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
(a)
1)スクラロース上に、少なくとも1つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも1つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
2)トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
3)アミンを含む混合物を形成する工程、
(b)前記工程(a)の産出物から、
i)前記トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ii)前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記アミンを含む混合物を分離する工程、
(c)前記工程(b)の前記混合物ii)を含む第1の副生成物成分を、前記アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
(d)前記洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
(e)前記第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
(f)前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程(e)の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。 - 前記トリアリールメチル化スクロース誘導体をスクラロースに変換する工程をさらに含む、請求項41に記載の方法。
- ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
(a)
1)スクラロース上に、少なくとも1つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも1つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
2)トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
3)アミンを含む混合物を形成する工程、
(b)前記工程(a)の産出物から、
i)前記トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ii)前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記アミンを含む混合物を分離する工程、
(c)前記工程(b)の前記混合物ii)を含む第1の副生成物成分を、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、前記第1の副生成物成分を、実質的に全ての前記アミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
(d)前記脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記1つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
(e)前記第1の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記1つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
(f)前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程(e)の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。 - 前記トリアリールメチル化スクロース誘導体をスクラロースに変換する工程をさらに含む、請求項43に記載の方法。
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