JP2010507503A - 汚染を除去した熱可塑性材料のプリフォームから滅菌された容器を製造するための炉及び設備 - Google Patents

Abstract

本発明は、プリフォーム（１２）の本体（１４）の少なくとも外面（２８）を滅菌するための汚染除去を連続して行うために、第１の赤外線（ＩＲ１）加熱手段（３２）と、紫外線（ＵＶ）滅菌手段（７６）と、第２の紫外線（ＩＲ２）加熱手段（３４）とを具備する熱調節のための炉（１０）、及び、ブロー成形又は延伸ブロー成形技術によって、熱可塑性材料の汚染を除去した複数のプリフォーム（１２）から複数の滅菌された容器（６８）を製造するためのこのような炉（１０）を具備する設備（５６）に関する。

Description

本発明は、汚染を除去した（decontaminated）熱可塑性プリフォームから始めて、滅菌された容器を製造するための炉及び設備に関する。

本発明は、一般的に、熱可塑性プリフォームの、特にポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）でできた熱可塑性プリフォームの滅菌（即ち汚染除去）の分野に関する。このような熱可塑性プリフォームは、炉で予め熱調節されたプリフォームのブロー成形又は延伸ブロー成形のプロセスで、ボトル、小瓶のような容器を製造することを意図している。

本発明の一態様は、ブロー成形又は延伸ブロー成形で中空本体の容器を製造することを意図し、複数の熱可塑性プリフォームの熱を調節するための炉であって、複数の熱可塑性プリフォームの搬送のための装置を具備し、これら熱可塑性プリフォームは、熱可塑性プリフォーム自身の軸線を中心として回転され、少なくとも、第１のゾーンと、第２のゾーンと、第３のゾーンとの内部を連続的に搬送され、前記第１のゾーンは、深部加熱（deep-heating）ゾーンと呼ばれることができ、第１の設定値温度に達するまで、各プリフォームの本体を予熱することを意図した赤外線で加熱するための第１の手段を有し、前記第２のゾーンは、中間ゾーンであり、滞留ゾーンと呼ばれることができ、各プリフォームが、加熱ゾーンである第１のゾーンと加熱ゾーンである第３のゾーンとの間の前記プリフォームの経路に介在されたこの第２のゾーンを所定の時間で通過し、前記第３のゾーンは、分散加熱ゾーンと呼ばれることができ、第２の設定値温度に達するまで、所定のヒータープロファイルに従って、各プリフォームの本体を加熱することを意図した赤外線によって加熱するための第２の手段を有する、炉に関する。

同様のモールド成形を目的として同様に熱を調節するために、即ちブロー成形でプリフォームをボトルのような容器に変換するために、特に、赤外線でプリフォームを加熱するタイプの多くの既知の炉がある。このタイプの炉は、製造のための設備に組み込まれ、この炉は、この設備の主要なユニットの１つを構成している。

文献ＥＰ−Ａ−０，６２０，０９９又はＥＰ−Ａ−０，５６４，３５４は、容器の製造を意図したプリフォームの本体の熱を調節するための炉の例を夫々説明している。

このような設備で滅菌された、即ち汚染を除去した容器の製造を意図したプリフォームは、ブロー成形によって容器が得られた後、製造プロセスの終わりでというよりむしろ容器の製造プロセスの始めで、効果的に処理されることが知られている。なぜならば、容器の製造プロセスの始めで処理を行うことにより、使用される滅菌用物質（sterilizing product）の量が減り、この量は、部分的には、汚染が除去される表面積の関数であるからである。

本発明の他の態様は、汚染を除去した熱可塑性プリフォームから始めて、複数の滅菌された容器を製造するための設備であって、一般的に、少なくとも、複数のプリフォームの供給のための装置と、これらプリフォーム自身の軸線を中心として回転され、同様のモールド成形の目的で、各プリフォームを加熱することを意図した少なくとも１つの炉を通って搬送される、複数のプリフォームの搬送のための装置を有する熱を調節するためのユニットと、少なくとも１つのモールドと各プリフォームを中空本体の容器に変換することを意図したブロー成形のための関連装置とを有するモールド成形のためのユニットと、を具備する設備に関する。

例えば化学的方法、特に、過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）溶液のような滅菌溶液に浸すことで汚染が除去される表面を濡らすことによる、このようなプリフォームの滅菌のための手段をさらに具備し、ブロー成形又は延伸ブロー成形でこのタイプの滅菌された容器を製造するための多くの既知の設備がある。

文献ＷＯ−Ａ−９９／０３６６７は、例えば、滅菌された容器を製造するためのプロセスと、このプロセスを動作させるための設備とを説明している。

前記文献の図５に示される設備は、主に、複数のプリフォームの供給のための装置と、 同様のモールド成形を目的として各プリフォームを加熱することを意図した少なくとも１つの炉を通って複数のプリフォームの搬送するための装置を有し、熱を調節するためのユニットと、少なくとも１つのモールドと、各プリフォームを最終的な中空本体の容器に変換することを意図したブロー成形のための関連装置とを有するモールド成形のためのユニットとを有する。

このような装置では、これらプリフォームは、プリフォームの内壁の円筒面の汚染を除去するように、プリフォームの加熱のための炉の上流側で、滅菌のための手段によって処理される。

プリフォームの内壁は、プリフォームから始めて、ブロー成形によって製造されることを意図した中空本体の容器の内壁に相当する。それ故、プリフォームの内壁は、例えばボトル又は小瓶の場合には所定の液体で最終的に充填することを意図した容器の内部の容積を規定している。

前記文献で説明された滅菌のための手段は、特に、過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）溶液のような滅菌用物質を含む。この滅菌用物質は、蒸発により除去される前に、炉を加熱するための手段からの熱で熱活性化される。

この目的のために、前記滅菌のための手段は、「冷たい」、即ち予め加熱されておらず、それ故、液状である滅菌用物質でプリフォームの内部を濡らすことができるスプレーガンにより形成された噴霧器を有する。

前記ガンは、代表的には、滅菌用物質のミストを噴霧するように、プリフォームの経路の上に配置されることができる円形の放射アセンブリを形成している液体のためのノズル及び空気のためのノズルを有する２流体（bifluid）ガンである。

滅菌用物質のミストは、乱流におけるプリフォームの内部の方向に、前記ガンによって放射された小滴の雲から形成される。

プリフォームの内部の滅菌用物質のこのタイプの乱流は、プリフォームの内壁において小滴の非均一な分布を生じることが明らかになってきている。

この理由は、スプレーガンの使用が、特に、滅菌用物質の高い流量により特徴付けられ、このような流量は、約２ないし３バールの圧力に圧縮され、かくして乱流を生じる空気のようなガスの圧縮により得られる。

このように、乱流は、プリフォームの内壁に、滅菌用物質の残留小滴の非均一な堆積を生じる。さらに、加熱中、完全に蒸発されない滅菌用物質の小滴が余分なものとなってしまう。

それ故、第１に、これら滅菌用物質の小滴が、一般的にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）でできたプリフォームの材料に局所的な化学的攻撃を与えて、第２に、これらプリフォームの加熱中、加熱プロセスで使用される熱放射に拡大鏡の効果（magnifying-glass effect）を与えて、このようにして、処理されたプリフォームから生じるボトルのような容器の壁にスポットが現れる。

ボトルの壁におけるこれらスポットの外観は、製品において目に見える欠陥であり、しばしば「オレンジの皮の外観（”orange-peel appearance”）」と称される。

さらに、使用されることができる滅菌溶液の量は、法的義務により、滅菌溶液を除去するように制限されている。絶対最大許容残留量は、容器を充填することを意図した液体に見られる滅菌溶液の量が上述の法的制限を超えないという所定の目的で、滅菌された容器に対してかなり微量の溶液である。

この結果、このようなプロセスにより製造された容器は、十分に満足できるものではなく、さらに、特定の産業的用途に必要な滅菌レベルに対して適切な汚染除去度（degree of decontamination）を有することが確認されていない。

この理由は、このプロセスに係わる設備で動作される汚染除去プロセスが、プリフォームの内壁にのみ関するからである。しかし、プリフォームの本体の外面は、一般的な製造設備と同様に、プリフォーム（又は容器）を汚染する可能性がある微生物、バクテリア又は胞子を同様に含む。

プリフォームの本体の外面に存在する微生物、バクテリア等は、特に、キャリヤとして、炉のプリフォームの周りを通る冷却空気の流れを使用することによって、又は設備のブローユニットのモールドの表面を汚染することにより増殖され得る。

この結果、しばしば「クロス汚染の危険性」と称される汚染の危険性があり、プリフォームの外面に微生物等が存在する限り、最終的な容器、又は１回の処理分の（batch）容器全体の滅菌に影響を与える可能性がある汚染を生じ得る。

これは、各プリフォームの本体の外面の特にかなり有効な汚染除去を果す解決策を捜し求める理由の１つである。

１つの可能な解決策は、内壁に対してと類似するようにして、化学的手法によって、即ち熱を調節するための炉の上流側でプリフォームの本体の外面に過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）溶液のような滅菌溶液を噴霧することによって、プリフォームの本体の外面を処理することである。

しかし、試験は、炉を通る冷却空気の流れが外面に与えられる滅菌溶液の大部分のほぼ系統的かつ即座の除去を与え、これは、滅菌溶液が加熱手段により熱活性化され得る前に与えられることを示した。この結果、かくして、プリフォームの本体の外面に与えられる汚染除去は、一般的に非常に低いレベルであり、それ故、最終的な高い汚染除去度を果すために適切でない。

本発明は、新規な炉を提案することによって、上述の欠点を取り除くことを目的とする。この炉は、特に、内部だけでなく外部も完全に滅菌された、即ち汚染を除去したプリフォームから始めて、プリフォームのブロー成形又は延伸ブロー成形で滅菌された容器を製造するための所定の設備で、プリフォームの滅菌の全体的なプロセスに従って、簡単で、信頼できて、費用対効果に優れた方法で、これら滅菌された容器の製造を果す。

本発明は、特に、しかし限定的ではないが、特にクロス汚染の危険性を限定する目的で、プリフォームの本体の外面の滅菌を、即ち微生物、バクテリア又は胞子によるこの表面の汚染のレベルの減少を目的とする。

この目的のために、本発明は、特に、ブロー成形又は延伸ブロー成形で滅菌された容器を製造するための設備を備えることを意図し、複数の熱可塑性プリフォームの熱を調節するための炉であって、
複数の熱可塑性プリフォームの搬送のための装置を具備し、これら熱可塑性プリフォームは、熱可塑性プリフォーム自身の軸線を中心として回転され、少なくとも、
第１のゾーンと、第２のゾーンと、第３のゾーンとの内部を連続的に搬送され、
前記第１のゾーンは、深部加熱ゾーンと呼ばれることができ、第１の設定値温度に達するまで、前記各プリフォームの本体を予熱することを意図した赤外線で加熱するための第１の手段を有し、
前記第２のゾーンは、中間ゾーンであり、滞留ゾーンと呼ばれることができ、前記各プリフォームが、加熱ゾーンである前記第１のゾーンと、加熱ゾーンである前記第３のゾーンと、の間の前記プリフォームの経路に介在されたこの第２のゾーンを所定の時間で通過し、
前記第３のゾーンは、分散加熱ゾーンと呼ばれることができ、第２の設定値温度に達するまで、所定のヒータープロファイルに従って、前記各プリフォームの前記本体を加熱することを意図した赤外線によって加熱するための第２の手段を有する、炉において、
この炉は、前記プリフォームの前記本体の少なくとも外面を所定の汚染除去度に達するまで滅菌するように、中間滞留ゾーンである前記第２のゾーンに配置された、紫外線（ＵＶ）の放射による滅菌のための手段を具備することを特徴とする炉を提案する。

本発明に係わる炉の他の特徴部分に係われば、この炉は、複数のランプのような紫外線による前記滅菌のための手段に対向して、中間滞留ゾーンである前記第２のゾーンに配置された複数の反射板（reflector）のような反射のための手段を有し、この反射のための手段は、前記滅菌のための手段とこの反射のための手段との間を通る前記複数のプリフォームの方向に放射された紫外線を選択的に反射するように設けられている。また、この炉は、前記複数のプリフォームの周りの空気の流れにより、前記複数のプリフォームを冷却するための装置を具備し、中間滞留ゾーンである前記第２のゾーンの前記滅菌のための手段により放射された紫外線が、前記複数のプリフォームの周りを循環する空気を滅菌することを特徴とする。さらに、前記搬送のための装置は、前記滅菌のための手段により放射された紫外線が、前記プリフォームのネック部を全体に渡って照射するように、このプリフォームの前記ネック部の内部で軸方向に延びた少なくとも１つの内部のコアを有する、前記各プリフォームの前記ネック部を把持するための手段を有することを特徴とする。

また、本発明は、汚染を除去した熱可塑性プリフォームから始めて、以下の滅菌プロセスに従って、滅菌容器を製造するための上述のタイプの設備であって、
第１の設定値温度に達するまで、前記各プリフォームの本体を予熱することによって、このプリフォームの前記本体の少なくとも外面の汚染を除去することを意図した加熱のための第１の手段と、
所定の時間で、放射される紫外線（ＵＶ）に前記プリフォーム（１２）を晒すことによって、このプリフォームの前記本体の少なくとも外面の汚染を除去することを意図した、紫外線の放射による滅菌のための手段と、
前記プリフォームの前記本体の少なくとも外面を所定の汚染除去度に達するまで滅菌するように、第２の設定値温度に達するまで、前記各プリフォームの前記本体を加熱することによって、このプリフォームの前記本体の少なくとも外面を汚染除去することを意図した第２の手段と、を具備する設備を提案する。

この設備は、効果的には、熱を調節するための前記炉の上流側に、前記各プリフォームのネック部のアパチャに向かう滅菌用物質の流れである蒸気ジェットの形態で放射可能な少なくとも１つのノズルが設けられた滅菌用物質の放射のための装置を有する滅菌のためのユニットを具備し、この滅菌のためのユニットの温度は、少なくとも内壁で滅菌することを意図した滅菌用物質のほぼ均一な凝縮フィルムの前記プリフォームの少なくとも内壁に凝縮により堆積させるように、前記滅菌用物質の凝縮温度よりも低い。

効果的には、炉内の前記プリフォームの前記本体の前記第１の予熱温度と、前記第２の温度との少なくとも一方が、加熱により滅菌用物質による前記プリフォームの前記内壁を滅菌するように、滅菌用物質の活性化温度よりも高い、又は等しい。

前記プリフォームの前記本体の前記第１の予熱温度と、前記第２の加熱温度との少なくとも一方が、加熱により活性化された滅菌用物質の蒸発によって除去されるように、滅菌用物質の蒸発温度よりも高いことが効果的である。

一般的な用語では、本発明の目的である分野の範囲内で、プリフォーム、又は容器の滅菌レベルが、微生物、バクテリア又は胞子の数の関数として得られ、それ故、最もよく使用される用語は、得られた汚染除去度であることが思い出されるであろう。

滅菌レベル、即ち汚染除去度は、微生物等の数を数えることによって決定される。これらは、洗浄し、ろ過し、培養した後に数えられる。この数は、一般的に、微生物等の数の対数関数的な減少であり、logで表される。

例えば、汚染除去度が、１０００（１０^３）ユニットの減少に相当するとき、微生物の数の対数関数的な減少は３ log、即ち３Ｄに達すると言える。

もちろん、滅菌レベルは、アプリケーションの関数として決定され、得られるレベルは、微生物等の数の対数関数的な減少に比例する。多くの場合、１ logの汚染除去度は、わずかでありほとんど無視できると考えられる。一方、多くの場合、６ logの汚染除去度は、非常に高いと考えられる。

本発明の他の特徴部分並びに効果が、添付図面を使用して補足され、以下の詳細な説明から明確になるであろう。

図１は、本発明に係わる熱調節のための炉の概略的な平面図である。 図２は、図１の２−２線に沿って、炉の概略的な断面図であり、複数のプリフォームの赤外線加熱及び滅菌のための炉の第１のゾーン及び第３のゾーンを示す図である。 図３は、滞留ゾーンである第２のゾーンの図１の３−３線に沿った炉の概略的な断面図であり、関連する反射板を具備する紫外線により滅菌される手段の配置の例を示す図である。 図４は、プリフォームの両側に配置され、紫外線による滅菌のための手段に係わる一実施の形態を示す図３に類似する図である。 図５は、プリフォームのネック部及び本体の外面の汚染除去のための紫外線による滅菌手段が設けられた本発明に係わる炉を有する滅菌された容器を製造するための設備の平面図であり、炉の上流側に、プリフォームの内壁の汚染除去を同時に果すための滅菌のためのユニットが設けられている。

本明細書において、上流側及び下流側、上側及び下側、内部及び外部のような表現は、限定的な意味として解釈されることなく使用される。また、本明細書中で定義され、図面に示される長手方向、垂直方向及び横手方向は、３次元系（Ｌ，Ｖ，Ｔ）を参照して使用される。

同じ参照符号は、明細書全体に亘って同様の又は同一の部材に対して使用される。

図１は、プリフォーム、特に、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）のプリフォームであるプラスチック又は熱可塑性プリフォームの熱を調節するための炉１０の一実施の形態を示している。

図１は、特に、ブロー成形又は延伸ブロー成形で、例えばボトル、小瓶等の中空本体の容器の製造を意図したプリフォーム１２の詳細を示す図である。

「プリフォーム」という用語は、始めにプラスチックが注入されて、最終的な容器に直接導く単一のブロー成形工程を含む容器の製造プロセスで使用されるプリフォーム、モシクは複数のブロー成形工程を有する複数のプロセスの場合における中間の容器、を示すものとして定義される。

複数のプリフォーム１２は、一般的には、注入モールド成形プロセスに従って果され、例えば容器を製造するための設備の位置以外の所定の位置でモールド成形される。

詳細図からより明らかとなるように、このプリフォーム１２は、一般的に、水平面に対して円筒形の断面形状である全体的なチューブ形の本体１４を有する。この本体１４は、「ネック部下向き」位置と呼ばれることができる主軸線Ａ１に沿って垂直方向に延びている。

前記プリフォーム１２は、ほぼ半球形のベース部１６によって上端側で閉じられている。これは、このプリフォームの本体の上部に相当し、この部分は、容器のベース部を形成することを意図している。

逆に、前記プリフォーム１２は、下端側で開いている。これは、容器のネック部、即ちボトルネックの規定形状を既に有するネック部１８を与えるように形成されている。

前記プリフォーム１２は、ネック部１８を有する本体１４の接合部で、本体１４及びネック部１８を超えて突出し径方向外側に延びた鍔部２０を有する。

前記ネック部１８は、前記軸線Ａ１の中心に配置された環状のアパチャ２２を規定している。このネック部の外面は、例えばキャップ（図示されない）である容器の封止手段を与えることを意図したスレッド２４を有する。

滅菌状態で考えられる前記プリフォーム１２の主要な部分は、ベース部１６からネック部１８の鍔部２０へと垂直に延びた本体１４の内面２６及び外面２８である。

図２に示されるように、炉１０は、上流側から下流側の方向へと連続して前記複数のプリフォーム１２を搬送することを意図し、各プリフォームがプリフォーム自身の垂直方向の軸線Ａ１を中心として回転されるのを確実にする手段を備えた搬送のための装置３０を有する。

かくして、前記複数のプリフォーム１２は、図１に示された矢印ｄの方向に従い、炉１０を入口から出口へと進行する。これらプリフォーム１２は、炉１０に含まれる様々なゾーンを通って上流側から下流側へと、進行速度Ｖで進み、また、各プリフォームが、所定の回転速度でプリフォーム自身の軸を中心として同時に回転する。

炉１０は、既知の方法で、深部加熱ゾーンと呼ばれることができる第１のゾーンＡと、中間ゾーンであり、滞留ゾーンと呼ばれることができる第２のゾーンＢと、加熱ゾーンであり、最終加熱ゾーンと呼ばれることができる第３のゾーンとを連続して有する。これらは、図１に破線で夫々示されている。

深部加熱のための第１のゾーンＡは、第１の設定値温度ＴＣ１に達するまで、各プリフォーム１２の本体１４を予熱することを意図した赤外線ＩＲ１を放射する第１の加熱手段３２を有する。

ここでの予熱温度に相当する前記第１の設定値温度ＴＣ１は、好ましくは５０℃ないし８０℃、例えば７０℃である。

中間滞留ゾーンである第２のゾーンＢは、加熱ゾーンである第１のゾーンＡと加熱ゾーンである第３のゾーンＣとの間の前記複数のプリフォーム１２の経路に介在されている。

前記各プリフォーム１２は、所定の時間Δｔで前記第２のゾーンＢを通り、この時間は、特に、前記搬送のための装置３０により搬送される前記複数のプリフォーム１２の進行速度Ｖの関数である。

アプリケーションの機能として、時間Δｔは、例えば、マシンのタイミングに合わせて２ないし１５秒、一般的には５秒のオーダである。

加熱ゾーンである前記第１及び第３のゾーンの間の前記第２のゾーンＢで与えられる滞留時間は、前記第１の加熱手段３２で伝達された熱を本体１４全体の内部に均一に分布させることを意図している。

分散加熱ゾーンである前記第３のゾーンＣは、第２の設定値温度ＴＣ２に達するまで、前記各プリフォーム１２の本体１４を加熱することを意図した赤外線ＩＲ２を放射する第２の手段３４を有する。

ここでの加熱温度に相当する前記第２の設定値温度ＴＣ２は、好ましくは８０℃ないし１３０℃、一般的には９０℃ないし１１０℃のオーダである。

加熱温度は、特に、前記プリフォーム１２の特性、例えば本体１４の材料、厚さ等、及び容器の厚さの関数として定義される。

前記第１の加熱手段３２と前記第２の加熱手段３４との少なくとも一方は、例えば、一般的にチューブ形状である赤外線ランプにより構成されている。これは、加熱ゾーンＡ及びＣ内で長手方向に延び、複数のラック（図示されない）に対して垂直に連続して設置される。

図２に見られるように、前記複数のプリフォーム１２の搬送のための装置３０は、「ネック部下向き」位置に装着された又は上向きに向けられたベース部を有する複数のプリフォーム１２に対する支持手段３６を有する。これは、例えば補助的なＵ型回転トラック４０に装着されたローラを具備するガイド手段３８に設けられている。

搬送のため装置３０の支持手段３６は、好ましくは、各プリフォーム１２のネック部１８を把持するための手段４２を有する。この把持するための手段４２は、効果的には、ネック部１８によって規定されたアパチャ２２の内部に軸線Ａ１に沿って軸方向に延びるように、垂直方向上向きに延びた内部のコア（図示されない）を有する。

炉１０は、例えば障壁（barrier）の形態である保護手段４４を有する。この保護手段４４は、赤外放射線に関して各プリフォーム１２のネック部１８の熱保護を確実にすることを意図した保護領域を形成している。

この理由は、各プリフォーム１２のネック部１８が、ネック部、即ち最終的な容器のボトルネックの規定形状を有し、これは、充填した後、容器のキャップの操作を連続した果すことができる変形の危険性を避けるために、炉の加熱手段３２、３４からの赤外放射線に晒されることから保護しなければならないからである。

前記保護手段４４は、前記支持手段３６を超えて水平に延びており、垂直方向上向きに延びたプリフォーム１２の本体の加熱、また、逆に、下向きに延びた前記ネック部１８の保護を夫々果すようにして調節された通路をこれら保護手段の間に規定している。

前記保護手段４４は、関連する冷却手段（図示されない）によって効果的に冷却される。

炉１０の加熱ゾーンである前記第１のゾーンＡ及び第３のゾーンＣは、ネック部１８の保護手段４４の上方に垂直に延びており、加熱される複数のプリフォーム１２の本体１４の間で、外壁４６と内壁４８との間に、前記装置３０により搬送され続ける。

炉１０の加熱ゾーンＡ及び加熱ゾーンＣの各々では、外壁４６は、好ましくは、垂直に重畳される赤外線加熱ランプ３２、３４と関連した断熱パネルを有する。一方、対向している内壁４８は、これらプリフォームの方向に前記ランプ３２、３４により放射された赤外線を反射できる反射パネルで構成されている。

前記各加熱ランプ３２、３４の横手方向の位置は、前記第２の加熱手段３４の各ランプと、対向位置にあるプリフォーム１２の本体１４及びベース部１６との間の距離を変化させることによって、所定のヒータープロファイルを得るために、好ましくは、横手方向に、特に加熱ゾーンである第３のゾーンＣに、選択的に規制されることができる。

炉１０は、効果的には、前記複数のプリフォーム１２の本体１４の冷却のための装置５０を有し、この装置は、表面冷却装置と呼ばれることができる。これは、図２に矢印で示されるように、これらプリフォームの周りの空気の流れＦの循環によって得られる。

空気の循環を与える冷却のための装置５０は、効果的には、空気を浄化し、微生物等によるプリフォームの汚染を避けるように、炉１０内で循環される冷却のための空気の流れをろ過することを意図したろ過手段５２を有する。

炉１０内で循環される冷却のための空気は、効果的には、滅菌空気、又は高い汚染除去度を有する空気により構成されている。

前記装置５０は、好ましくは、気温のための温度制御手段（図示されない）を有する。

炉１０は、特に、本体１４とベース部１６との外面２８に材料の表層の余分な加熱を与えることなく、プリフォーム１２の全体の厚さ内で均一な加熱を促進することを意図したロータ５４を有する手段によって、空気の流れＦの通路を果す換気孔を備えている。

この理由は、空気が、前記プリフォーム１２を構成している材料の厚さ内で、前記加熱のための手段３２、３４で発生される対流熱を取り除いて、赤外線ＩＲ１、ＩＲ２の透過を促進することを可能にするからである。

図５は、図１に示されるタイプの熱可塑性プリフォーム１２から始めて、ボトルのような滅菌された容器を製造するための設備５６のダイヤグラムである。

このタイプの設備５６は、主に、前記複数のプリフォーム１２の移動方向の上流側から下流側に、供給装置５８と、少なくとも１つの炉１０と搬送のための装置３０とを有する熱を調節するためのユニット６０と、モールド成形のためのユニット６２とを有する。

前記ユニット６０の炉１０は、下流側に位置された前記モールド成形のためのユニット６２と同様のモールド成形を果す目的で、既知の方法で各プリフォームの本体１４を加熱することを意図している。

それ故、前記炉１０の加熱手段３２、３４は、プリフォームを構成している材料の関数であるモールド成形のための温度Ｔｍに達することによって、所定のヒータープロファイルに従って、同様に軟らかくするように、前記プリフォーム１２を加熱することからなる第１の機能を提供する。

ポリエチレンテレフタレート、即ちＰＥＴでできたプリフォームの場合には、モールド成形のための温度Ｔｍは、約１００℃である。

前記第２の加熱手段３４の前記第２の設定値温度ＴＣ２は、モールド成形のための温度Ｔｍ温度に等しい。この温度は、前記プリフォーム１２を構成している材料のガラス転移温度Ｔｇより高い。

モールド成形のためのユニット６２は、中空本体の容器６８に前記プリフォーム１２を変換するために、少なくとも１つのモールド６４と、関連するブロー成形のための装置６６とを有する。ここでは、中空本体の容器６８は、設備５６の前記ユニット６２の出口に、図５に詳しく示されたようなボトルである。

設備５６は、効果的には、各プリフォーム１２をボトル６８に変換するためのブロー成形を使用したモールド成形のためのユニット６２の下流側に、充填するためのユニット及びキャップをするためのユニット（図示されない）を有する。

前記供給装置５８は、入口で設備５６に配置されて、プリフォーム１２の連続した供給を意図している。

このタイプの供給装置５８は、例えば多くのプリフォーム１２が覆されるホッパ（図示されない）を有する。これらプリフォームは、「ネック部上向き」位置で連続していて搬送するために、ホッパの底部で１つずつ引き出される。

この「ネック部上向き」位置での前記プリフォーム１２は、好ましくは、傾斜スライド７０によって、重力により進められる。このスライドは、プリフォーム１２の本体１４の垂直な通路を果すように、互いに所定の間隔で平行な２つのレールにより形成されている。また、各プリフォーム１２は、これらレールに鍔部２０によって支持されている。

各プリフォーム１２を把持可能な把持手段は、夫々、例えば、スライド７０の端部に配置され、ローディングホイール７２によって構成されている。

前記ローディングホイール７２は、熱を調節するための炉１０に、入口へと前記プリフォーム１２を搬送することを意図しており、これらプリフォームは、前記搬送のための装置３０によって得られる。

前記複数のプリフォーム１２は、炉１０を通って、前記搬送のための手段３０によって、対向する「ネック部下向き」位置に効果的に搬送される。また、（図示されない）手段が、前記ホイール７２と、前記装置３０内に内部のコアを有する支持部３６との間で、これらプリフォームを反転（inversion）させるように設けられている。

上で説明されたように、滅菌された容器６８を得るために、前記プリフォーム１２を全ての汚染除去プロセスに晒すことが必要である。

それ故、設備５６は、効果的には、プリフォーム１２及び炉１０の入口での反転のための手段の上流側に、例えば前記ローディングホイール７２の上に配置された滅菌のためのユニット７４を有する。

この滅菌のためのユニット７４（詳細は図示されない）は、好ましくは、前記各プリフォーム１２のネック部１８のアパチャ２２に向かう滅菌用物質の流れである蒸気ジェットの形態で放射可能な少なくとも１つのノズルに与えられる滅菌用物質の放射のための装置を有する。このユニットの温度Ｔ０は、滅菌用物質の凝縮温度Ｔｃよりも低い。

前記放射ユニット７４によって、内壁２６を滅菌することを意図した滅菌用物質のほぼ均一な凝縮フィルムは、プリフォームの少なくとも内壁２６に凝縮により堆積される。

滅菌用物質は、効果的には、過酸化水素Ｈ_２Ｏ_２を含む化合物、又は蒸発された過酸化水素Ｈ_２Ｏ_２の化合物により構成されている。

過酸化水素Ｈ_２Ｏ_２の活性化温度Ｔａは、摂氏約７０度（７０℃）である。

この結果、滅菌用物質Ｈ_２Ｏ_２は、前記プリフォーム１２の入口から、炉１０の予熱ゾーンである前記第１のゾーンＡへと活性化され、かくして、プリフォーム１２の内壁２６が滅菌される。

この理由は、炉１０の赤外線加熱のための第１の手段３２が、第１の設定値温度ＴＣ１に達するまで、前記プリフォーム１２の本体１４を加熱することを意図しているからである。温度ＴＣ１は、効果的には、活性化温度Ｔａよりも高い、又は等しい。

さらに、炉１０の加熱ゾーンである第３のゾーンＣの赤外線加熱の第２の手段３４が、例えばＨ_２Ｏ_２である滅菌用物質の蒸発温度Ｔｅよりも高いモールド成形のための温度Ｔｍ（９０ないし１３０℃）と等しい第２の設定値温度ＴＣ２に前記プリフォーム１２を加熱することを意図している。

この結果、滅菌用物質（Ｈ_２Ｏ_２）は、ゾーンＣでの加熱中、蒸発により自動的に除去される。かくして、得られた最終的な容器６８は、法的必要性に適合した滅菌用物質の微少量のみを含む。

それ故、炉１０の加熱手段３２、３４は、前記プリフォーム１２の少なくとも内壁２６が滅菌されて、予め活性化された滅菌用物質が、滅菌用物質の微少量が最終的な容器６８から除去されるために蒸発により除去されるように、モールド成形の目的で加熱するための第１の代表的な機能のみならず、加熱による滅菌用物質の熱活性化を含む第２の機能を効果的に与える。

前記プリフォーム１２の内壁２６は、効果的には、滅菌用物質の凝縮フィルムに接触して、凝縮により効果的に堆積されて、内部の汚染除去と呼ばれることができる所定の時間でプリフォームが第１のゾーンＡを連続して通るように、少なくとも所定の時間に相当する時間で、入口から炉１０へと活性化される。

温度の関数として、内壁２６の汚染除去は、前記第３のゾーンＣでの滅菌用物質のフィルムの累進的な蒸発の前に、中間ゾーンである第２のゾーンＢの全て又は一部で続けることができる。

前記プリフォーム１２の内壁２６の滅菌が、上で説明された方法で化学的ルートにより効果的に果されると、次に、高い汚染除去度を有する滅菌された容器を製造するために、プリフォーム１２の外面２８の滅菌を続けることが必要である。

この理由は、上で説明したように、プリフォーム１２の本体１４の外面２８の、及び好ましくはネック部１８のさらなる滅菌が、プリフォームの外部に存在する微生物、バクテリア又は胞子等が、特に、ブロー成形動作中、モールド６２に対するユニット内を循環する空気によって、特に、プリフォーム１２の内部に再び取り入れられることができることに従って、クロス汚染の危険性を低減させる又は除去することができるなど唯一の方法であるからである。

本発明に係われば、炉１０は、前記プリフォーム１２の本体１４の少なくとも外面２８が所定の汚染除去度に達するまで滅菌されるように、前記加熱のための第１の手段３２と、中間滞留ゾーンである第２のゾーンＢに配置され、紫外線（ＵＶ）放射が可能な滅菌のための手段７６と、前記加熱のための第２の手段３４とを有する。

本発明に係わる炉１０で果される滅菌のためのプロセスは、効果的には、所定の汚染除去度に達するまで前記プリフォーム１２の本体１４の少なくとも外面２８を滅菌することが可能である。

この理由は、本発明に係わる炉１０で果される滅菌のためのプロセスが、少なくとも以下の連続した工程を具備するからである。この工程は、
前記プリフォーム１２の本体１４が、前記第１の設定値温度ＴＣ１に達するまで、前記加熱のための第１の手段３２により予熱される過程で、加熱により汚染除去するための第１の工程と、
前記プリフォーム１２の本体１４の少なくとも外面２８が、所定の時間Δｔで、滅菌手段７６により放射された紫外線（ＵＶ）に晒される過程の間、紫外線（ＵＶ）放射により汚染を除去するための第２の工程と、
前記プリフォーム１２の本体１４が、第２の設定値温度ＴＣ２に達するまで、前記加熱するための第２の手段３４により加熱される過程の間、加熱により滅菌するための第３の工程と、を具備する。

かくして、滅菌のためのこのタイプのプロセスは、効果的には、ブロー成形又は延伸ブロー成形による変換を意図した熱可塑性プリフォーム１２から始めて、滅菌された容器を製造するための設備５６の熱を調節するためのユニット６０の炉１０のような炉１０で果されることが可能である。

本発明に係わる炉１０では、以下の連続した３つの工程によって、プリフォーム１２の本体１４の少なくとも外面２８の滅菌を果す。この工程は、
汚染除去のための第１の所定の温度に相当する第１の設定値温度ＴＣ１に達するまで、前記プリフォーム１２の本体１４を加熱又は予熱する工程と、
所定の時間で、紫外線（ＵＶ）放射によってプリフォーム１２の少なくとも本体１４を照射する工程と、
汚染除去のための第２の所定の温度に相当する第２の設定値温度ＴＣ２に達するまで、前記プリフォーム１２の本体１４を加熱する工程と、を具備する。

中間滞留ゾーンである第２のゾーンＢ内の滅菌のための手段７６により放射された紫外線（ＵＶ）は、複数のプリフォーム１２の周りを循環しながら冷却するための空気の流れで空気を効果的に滅菌する。

図３に示される一実施の形態に係われば、炉１０は、紫外線（ＵＶ）と、例えば反射板である反射のための関連する手段８０とを与える複数のランプ７８を構成している紫外線（ＵＶ）による滅菌のための手段７６を有する。

前記複数の反射板は、複数のプリフォーム１２の向きに放射された紫外線（ＵＶ）を選択的に反射するように、紫外線（ＵＶ）放射を与える複数のランプ７８に対向して、炉１０の内部に効果的に配置される。

紫外線（ＵＶ）を与える複数のランプ７８と、反射のための手段８０とによって発生される紫外線による滅菌のための手段７６のここでの全体的な構成は、第２のゾーンＢのプリフォーム１２の経路に沿った「馬蹄（”horseshoe”）」形状であり、これら自身の軸線を中心として回転する間、複数のＵＶランプ７８と複数の反射板８０との間に、速度Ｖで進む後者の両側にある。

図４に示される一実施の形態に係われば、炉１０の中間滞留ゾーンである第２のゾーンＢが、複数のプリフォーム１２を滅菌するために、紫外線（ＵＶ）の放射のための補助的手段を有するように、内部に配置された複数の反射板８０が、複数の紫外線ランプ７８が設けられた壁に置き換えられる。

このタイプの実施の形態は、プリフォーム１２の進行と同じ速度Ｖに対して最終的な汚染除去度を増加させるように、放射された紫外線（ＵＶ）の量を、かくして、本体１４の外面２８及びプリフォーム１２のネック部１８で受けた放射線量を全体的に増加させる。

さらに、この実施の形態に係われば、時間Δｔが比較的速い速度Ｖで減少したときでさえも、滅菌のための手段７６が高い汚染除去度を維持する。

この理由は、時間Δｔが本体１４の外面２８及びプリフォーム１２のネック部１８を紫外線（ＵＶ）に晒す時間に相当するからである。

滞留ゾーンである第２のゾーンＢの平均温度は、４０ないし５０℃のオーダである。かくして、ネック部１８の保護のための手段４４は、効果的には、ここで取り除かれる。

例えば複数のランプ７８と複数の反射板８０との少なくとも一方である前記滅菌のための手段７６は、ネック部１８もまた紫外線（ＵＶ）で照射されるように、効果的に配置されている。

前記滅菌のための手段７６の複数のランプ７８は、例えばチューブの形態である標準的なタイプの複数のランプにより構成されており、中間ゾーンである第２のゾーンＢで、５０℃のオーダの周囲温度で、標準的な寿命で信頼できるように機能する。

前記搬送のための装置３０は、効果的には、各プリフォーム１２のネック部１８を把持するための手段４２を有する。これら手段は、前記プリフォーム１２のネック部１８の外面が滅菌のための手段７６により放射された紫外線（ＵＶ）により完全に照射されるように、前記プリフォーム１２のネック部１８のアパチャ２２の内部に対して軸方向に延びた内部のコアを備えている。

かくして、前記プリフォーム１２のネック部１８の外面の汚染除去度は、少なくとも２．５logと等しい。

最終的な汚染除去度を決定するために、参照としてここに使用される細菌胞子である”Atrophaeus 9372” により汚染されたプリフォーム１２を用いて試験が行われた。

この理由は、この細菌胞子は、ＦＤＡ等の機関のみならず、特にアグロフードのような分野における産業で、滅菌レベル、即ち無菌状態の決定のために世界的に参照されると考えられるからである。

行われた唯一のプロセスが、炉１０を赤外線放射で加熱することによるプリフォーム１２の本体１４の外面２８の加熱滅菌工程であれば、得られる汚染除去度は、相対的にわずかであり、一般に０．５ log以下である。

同様に、行われた唯一のプロセスが、所定の時間で、紫外線（ＵＶ）放射によるプリフォーム１２の本体１４の外面２８の滅菌のための動作であれば、得られる汚染除去度は、２ logないし３ log、例えば２.５ logのオーダである。

紫外線（ＵＶ）による複数のプリフォーム１２の照射の時間は、効果的には、所定の炉の来週ゾーンである前記第２のゾーンＢを通るように、各プリフォーム１２によって受けた所定の時間Δｔに相当する。各プリフォーム１２は、このようなタイプの炉及びアプリケーションの機能である所定の進行速度Ｖで、前記搬送のための装置３０によって炉１０を通って搬送される。

比較すると、このようにして行われた試験は、紫外線（ＵＶ）放射による滅菌のための工程と、赤外線により加熱滅菌するための工程、又は逆に赤外線により加熱滅菌するための工程と、紫外線（ＵＶ）により滅菌するための工程と、を連続して行ったとき、得られた全体的な汚染除去度は、紫外線（ＵＶ）により滅菌するための単一工程で予め得られたものと同様のまま、即ち２.５ logのオーダであったことが明らかとなった。

かくして、得られた結果は、特に赤外線で加熱することによって滅菌するための単一工程が、紫外線（ＵＶ）放射によって単に滅菌することで得られた程度を超えた汚染除去度まで増加させることができないことを明確に示している。

しかし、驚いたことに、本発明に係わる炉１０で果された３つの連続した工程の組み合わせは、予期せず、特に高い汚染除去度を得る。

比較すると、これら試験により、５ logないし６ logのオーダの最終的な汚染除去度が得られた。即ち、プリフォーム１２の本体１４の外面２８の滅菌レベルは、赤外線加熱と紫外線放射とによって、又は逆によって、滅菌のための２つの工程のみを連続して行うプロセスによって、予め得られるよりも２倍以上である。

滅菌のための手段７６を含む、本発明に係わる炉１０のプロセスの実行は、プリフォーム１２の本体１４の少なくとも外壁２８を滅菌するために、上で説明された汚染除去のための連続した工程に少なくとも従って行われる。

また、この結果、炉１０を加熱するための手段３２、３４は、特に高い最終的な汚染除去度を得るために、紫外線（ＵＶ）放射で赤外線加熱と照射との滅菌効果を組み合わせることによって、プリフォーム１２の汚染除去を促進する第３の機能を与える。

前記本体１４の外面２８の最終的な汚染除去度は、効果的には、連続して行われる滅菌のためのこれら３つの工程の組合せによってのみ得られ、プリフォーム１２の本体の外面に存在する微生物、バクテリア又は胞子等の少なくとも主要なものを連続して除去する。これらは、赤外線ＩＲ１からの熱によって、破壊又は損傷される。そして、少なくともかなり弱められた状態で、他のさらなる微生物等を紫外線（ＵＶ）によって弱められ、破壊又は損傷される。そして、プリフォーム１２の本体１４の外面２８に留まる主な微生物等が、赤外線ＩＲ２の強力な熱により破壊される。

特に、特定の微生物、バクテリア又は胞子等が、第２のゾーンＢから出口でプリフォーム１２の本体１４の外面２８に存在し、この段階によって損傷されないので、汚染除去度が不可逆であることを保証することができない。これら有機物の不可逆的な破壊は、第３のゾーンＣを通って通路の後まで、赤外線ＩＲ２に晒されるために得られない。

滅菌のためのプロセスは、効果的には、プリフォーム１２の内壁２６の滅菌のための予備工程を含み、この予備工程は、予熱のための第１の工程に続き、各プリフォーム１２のネック部１８のアパチャ２２に向かう滅菌用物質の流れである蒸気ジェットの形態での放射を含む。このときの温度Ｔ０は、滅菌用物質のほぼ均一な凝縮フィルムのプリフォーム１２の内壁２６に凝縮により堆積されるように、滅菌用物質の凝縮温度Ｔｃよりも低い。

凝縮した滅菌用物質の均一な凝縮フィルムは、炉の第１の加熱手段３２によって熱活性化されて、第２の加熱手段３４により蒸発されることによって除去され、少なくとも３ logの汚染除去度で前記内壁２６の滅菌を果す。

本発明によって、本発明に係わる炉１０内で滅菌され熱調節されるプリフォーム１２から始めて、このプリフォーム１２の内壁２６だけでなく、プリフォーム１２の本体１４の外面２８でも、特に最終的な高い汚染除去度を有する滅菌された容器を製造することが可能である。

この理由は、炉１０の加熱のための手段３２、３４の第２の機能が、熱活性化され、凝縮で堆積された滅菌用物質の蒸発により除去されるからである。

それ故、予熱のための第１の温度ＴＣ１は、効果的には、プリフォーム１２の内壁２６が滅菌されるように、滅菌用物質の活性化温度Ｔａの温度よりも高い、又は等しい。一方、加熱のための第２の温度ＴＣ２は、効果的には、予め熱活性化された滅菌用物質が蒸発により除去されるように、滅菌用物質の蒸発温度Ｔｅよりも高い。

本発明に係る滅菌のためのプロセスは、特に簡単で、信頼でき、費用対効果に優れ、特に滅菌された容器を製造するための設備で、図５に説明され、示されたタイプである設備であるように、効果的に果されることができる。

特に、本発明に関して、上で説明された教示に係わる調節のための炉１０は、
第１のゾーンＡと、第２のゾーンＢと、第３のゾーンＣとを連続して具備し、
前記第１のゾーンＡは、深部加熱ゾーンと呼ばれることができ、第１の設定値温度ＴＣ１に達するまで、前記各プリフォーム１２の本体１４を予熱することを意図した赤外線ＩＲ１で加熱するための第１の手段３２を有し、
前記第２のゾーンＢは、中間ゾーンであり、滞留ゾーンと呼ばれることができ、前記各プリフォームが、加熱ゾーンである前記第１のゾーンと、加熱ゾーンである前記第３のゾーンと、の間の前記プリフォームの経路に介在されたこの第２のゾーンを所定の時間Δｔで通過し、
前記第３のゾーンＣは、分散加熱ゾーンと呼ばれることができ、第２の設定値温度ＴＣ２に達するまで、所定のヒータープロファイルに従って、前記各プリフォーム１２の本体１４を加熱することを意図した赤外線ＩＲ２で加熱するための第２の手段３４を有する。

かくして、炉内に紫外線（ＵＶ）による滅菌のための手段７６を設置するために、このタイプの既存の炉１０に与えられる構造上の変更は、わずかであり、滞留ゾーンである第２のゾーンＢにのみ位置される。

前記加熱のための第１の手段３２及び第２の手段３４の赤外線は、効果的には、３重作用を奏する。即ち、ブロー成形又は延伸ブロー成形で、滅菌された中空本体の容器に同様に変換する目的でプリフォーム１２を加熱することと、滅菌用物質の活性化及び蒸発により前記内壁２６を滅菌（即ち汚染除去）することと、本体１４の外面２８への紫外線（ＵＶ）放射と滅菌とを組み合わせること（滅滅菌と呼ばれることができる）との作用を奏する。

Claims (8)

1. 滅菌された複数の容器を製造するための設備を備えることを特に意図し、複数の熱可塑性プリフォームの熱を調節するための炉（１０）であって、
   前記複数の熱可塑性プリフォーム（１２）の搬送のための装置（３０）を具備し、これら熱可塑性プリフォームは、熱可塑性プリフォーム自身の軸線を中心として回転され、少なくとも、
   第１のゾーンＡと、
   第２のゾーンＢと、
   第３のゾーンＣとの内部を連続して搬送され、
   前記第１のゾーンＡは、深部加熱ゾーンと呼ばれることができ、第１の設定値温度（ＴＣ１）に達するまで、前記各プリフォーム（１２）の本体（１４）を予熱することを意図した赤外線（ＩＲ１）で加熱するための第１の手段（３２）を有し、
   前記第２のゾーンＢは、中間ゾーンであり、滞留ゾーンと呼ばれることができ、前記各プリフォーム（１２）が、加熱ゾーンである前記第１のゾーンと、加熱ゾーンである前記第３のゾーンと、の間の前記プリフォーム（１２）の経路に介在されたこの第２のゾーンを所定の時間（Δｔ）で通過し、
   前記第３のゾーンＣは、分散加熱ゾーンと呼ばれることができ、第２の設定値温度（ＴＣ２）に達するまで、所定のヒータープロファイルに従って、前記各プリフォーム（１２）の前記本体（１４）を加熱することを意図した赤外線（ＩＲ２）で加熱するための第２の手段（３４）を有する、炉（１０）において、
   この炉（１０）は、前記プリフォーム（１２）の前記本体（１４）の少なくとも外面（２８）を所定の汚染除去度に達するまで滅菌するように、中間滞留ゾーンである前記第２のゾーンＢに配置された、紫外線（ＵＶ）の放射による滅菌のための手段（７６、７８、８０）を具備することを特徴とする炉（１０）。
2. 複数のランプ（７８）のような紫外線（ＵＶ）による前記滅菌のための手段（７６）に対向して、中間滞留ゾーンである前記第２のゾーンＢに配置された複数の反射板のような反射のための手段（８０）を有し、
   この反射のための手段（８０）は、前記滅菌のための手段（７６）とこの反射のための手段（８０）との間を通る前記複数のプリフォーム（１２）の方向に放射された紫外線（ＵＶ）を選択的に反射するように設けられていることを特徴とする請求項１の炉。
3. 前記複数のプリフォーム（１２）の周りの空気の流れ（Ｆ）により、前記複数のプリフォーム（１２）を冷却するための装置（５０）を具備し、
   中間滞留ゾーンである前記第２のゾーンＢの前記滅菌のための手段（７６）により放射された紫外線（ＵＶ）が、前記複数のプリフォーム（１２）の周りを循環する空気を滅菌することを特徴とする請求項１又は２の炉。
4. 前記搬送のための装置（３０）は、前記滅菌のための手段（７６）により放射された紫外線（ＵＶ）が、前記プリフォーム（１２）のネック部（１８）を全体に渡って照射するように、このプリフォーム（１２）の前記ネック部（１８）の内部で軸方向に延びた少なくとも１つの内部のコアを有する、前記各プリフォーム（１２）の前記ネック部（１８）を把持するための手段（４２）を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１の炉。
5. 汚染を除去した熱可塑性プリフォーム（１２）から始めて、複数の滅菌された容器（６８）を製造するための設備（５６）であって、少なくとも、
   複数のプリフォーム（１２）の供給のための装置（５８）と、
   同様のモールド成形の目的で、各プリフォーム（１２）を加熱することを意図した少なくとも１つの炉（１０）を通って前記複数のプリフォームの搬送のための装置（３０）を有する熱調節のためのユニット（６０）と、
   前記各プリフォーム（１２）を中空本体の容器（６８）に変換することを意図したモールド成形のためのユニット（６２）と、を具備する設備（５６）において、
   熱調節のための前記炉（１０）は、
   第１の設定値温度（ＴＣ１）に達するまで、前記各プリフォーム（１２）の本体（１４）を予熱することによって、このプリフォーム（１２）の前記本体（１４）の少なくとも外面（２８）の汚染を除去することを意図した加熱のための第１の手段（３２）と、
   所定の時間（Δｔ）で、放射される紫外線（ＵＶ）に前記プリフォーム（１２）を晒すことによって、このプリフォーム（１２）の前記本体（１４）の少なくとも外面（２８）の汚染を除去することを意図した、紫外線（ＵＶ）の放射による滅菌のための手段（７６）と、
   前記プリフォーム（１２）の前記本体（１４）の少なくとも外面（２８）を所定の汚染除去度に達するまで滅菌するように、第２の設定値温度（ＴＣ２）に達するまで、前記各プリフォーム（１２）の前記本体（１４）を加熱することによって、このプリフォーム（１２）の前記本体（１４）少なくとも外面（２８）の汚染を除去することを意図した加熱のための第２の手段（３４）と、を具備する設備（５６）。
6. 熱を調節するための前記炉（１０）の上流側に、
   前記各プリフォーム（１２）のネック部（１８）のアパチャ（２２）に向かう滅菌用物質の流れである蒸気ジェットの形態で放射可能な少なくとも１つのノズルに与えられる滅菌用物質の放射のための装置を有する滅菌のためのユニット（７４）を具備し、
   この滅菌のためのユニットの温度（Ｔ０）は、少なくとも内壁（２６）で滅菌することを意図した滅菌用物質のほぼ均一な凝縮フィルムの前記プリフォーム（１２）の少なくとも内壁（２６）に凝縮により堆積させるように、滅菌用物質の凝縮温度（Ｔｃ）よりも低いことを特徴とする請求項５の設備（５６）。
7. 前記炉（１０）内の前記プリフォーム（１２）の前記本体（１４）の前記第１の予熱温度（ＴＣ１）と前記第２の加熱温度（ＴＣ２）との少なくとも一方が、加熱による滅菌用物質の活性化により前記プリフォーム（１２）の前記内壁（２６）を滅菌するように、滅菌用物質の活性化温度（Ｔａ）よりも高い、又は等しいことを特徴とする請求項６の設備（５６）。
8. 前記炉（１０）において、前記プリフォーム（１２）の前記本体の前記第１の予熱温度（ＴＣ１）と前記第２の加熱温度（ＴＣ２）との少なくとも一方が、加熱により活性化された滅菌用物質の蒸発によって除去されるように、滅菌用物質の蒸発温度（Ｔｅ）よりも高いことを特徴とする請求項７の設備（５６）。

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