JP2010504863A - 高屈折率を有する耐引掻性層を含む被覆生成物 - Google Patents

Abstract

本発明は、基材（Ｓ）および被覆物（Ａ）を含有し、該被覆物（Ａ）は複素屈折率の実数成分ｎが少なくとも１．７０、複素屈折率の虚数成分ｋが０．０１６以下、Ｒａ値としての表面粗さが２０ｎｍ未満および耐引掻性が０．７５μｍ以下の引掻深度であることを特徴とする（ここで、該屈折率の実数成分および虚数成分は４００〜４１０ｎｍの波長で（すなわち、青色レーザーの波長範囲において）測定し、該Ｒａ値としての表面粗さはＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて測定したものであり、また、該耐引掻性を決定するために５０μｍの先端半径を有するダイヤモンド針を１．５ｃｍ／ｓの進行速度にて４０ｇの加重で被覆物上を移動させ、生じる引掻深度を測定した）被覆生成物に関する。本発明はさらに、被覆生成物の製造方法および光データ記憶手段の製造におけるその使用ならびに被覆生成物を製造するために用いるキャスト用溶液に関する。

Description

本発明は、基材（Ｓ）および被覆物（Ａ）を含有し、該被覆物（Ａ）は複素屈折率の実数成分ｎが少なくとも１．７０、複素屈折率の虚数成分ｋが０．０１６以下、Ｒａ値としての表面粗さが２０ｎｍ未満および耐引掻性が０．７５μｍ以下の引掻深度であることを特徴とする（ここで、該屈折率の実数成分および虚数成分は４００〜４１０ｎｍの波長で（すなわち、青色レーザーの波長範囲において）測定し、該Ｒａ値としての表面粗さはＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いて測定したものであり、また、該耐引掻性を決定するために５０μｍの先端半径を有するダイヤモンド針を１．５ｃｍ／ｓの進行速度にて４０ｇの加重で被覆物上を移動させ、生じる引掻深度を測定した）被覆生成物に関する。該被覆物（Ａ）は以下、本明細書においては「高屈折率層」（ＨＲＩ被覆物）とも称する。本発明はさらに、被覆生成物の製造方法および光データ記憶手段の製造におけるその使用ならびに被覆生成物を製造するために用いるキャスト用溶液に関する。

屈折率の実数成分（ｎ）が高い被覆物は、種々の用途、例えば光学レンズ、反射防止被覆物または平面導波管において既知である。高屈折率を有する被覆物は原理上、種々の方法によって製造することができる。単なる物理的方法においては、高屈折率金属酸化物、例えばＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３などをいわゆる「スパッタ工程」においてプラズマプロセスを用いて真空下で付与する。可視波長範囲において２．０を越える屈折率を容易に達成することができるが、該方法は比較的複雑で費用がかかる。

ＥＰ０９６４０１９Ａ１およびＷＯ２００４／００９６５９Ａ１には、従来のポリマーと比べてより高い屈折率を本質的に有し、および従来の被覆法に従って有機溶液から単純方法によって表面に塗布することができる有機ポリマー、例えば硫黄含有ポリマーまたはハロゲン化アクリレート（テトラブロモフェニルアクリレート、Ｐｏｌｙｓｃｉｅｎｃｅ Ｉｎｃ．）が開示されている。しかしながら、屈折率の実数成分（ｎ）は、可視波長範囲において測定された約１．７までの値に限定されている。

ますます重要性が高まりつつあるさらなる異なった方法は、有機またはポリマーのバインダー系に組み込まれる金属酸化物ナノ粒子に基づいている。相当するナノ粒子／ポリマー複合型調製物は、例えばスピンコート法を用いて、簡単におよび安い費用で種々の基材に塗布することができる。屈折率の達成可能な実数成分（ｎ）は通常、最初に述べたスパッタ表面と高屈折率ポリマー層との間にある。ナノ粒子含量が増加するにつれて、達成可能な屈折率は増加する。例えば、ＵＳ２００２／１７６１６９Ａ１には、高屈折率層が金属酸化物、例えば酸化チタン、酸化インジウムまたは酸化錫ならびに例えばアクリレートをベースとするＵＶ架橋性バインダーを有機溶媒中に含有するナノ粒子／アクリレート複合型系の製法が開示されている。スピンコート、蒸発による溶媒の除去およびＵＶ放射の後に、可視波長範囲において測定された１．６０〜１．９５の屈折率の実数成分ｎを有する、相当する被覆物が得られる。

欧州特許出願公開第０９６４０１９号明細書 国際公開第２００４／００９６５９号パンフレット 米国特許出願公開第２００２／１７６１６９号明細書

本発明によるＨＲＩ被覆物は、光データ記憶手段（ＯＤＳ）の最上層を形成することが可能であり、近接場レンズ（固体含浸レンズ、ＳＩＬ）によるエバネセント場における光のカップリングを光データ記憶手段において可能とする。その結果、情報層または記録層におけるレーザースポットのサイズを回折限界未満に低下させることが可能となり、これによりデータ記憶密度を上昇させることが可能となる。ＨＲＩ被覆物は、２以上の情報層または記録層の間にカップリング層として用いることもできる。記憶密度を可能な限り大きくするためには、ＨＲＩ被覆物の屈折率の実数成分ｎを可能な限り大きくすることが必要である。先行技術から知られている被覆物は屈折率ｎの実数成分（ｎ）が１．４５〜１．６であるため、それから得られるＯＤＳの記憶密度は制限される。かかる状況下、本発明の目的は、高屈折率を有するＨＲＩ被覆物を開発することであった。

エバネセント場は近接場レンズの表面に対して光波長（近接場光）の何分の一かである距離にのみ存在するので、近接場レンズと被覆生成物のＨＲＩ被覆物との間の距離は極めて小さく、典型的には２０〜５０ｎｍの範囲でなければならない。近接場レンズと被覆生成物の表面との間での接触を可能な限り避けるため、ＨＲＩ被覆物の粗さは可能な限り小さくすべきである。近接場レンズとＨＲＩ被覆物との間での接触の際には、一方では近接場レンズは摩耗物質により汚染されてはならず、また他方では、ＨＲＩ被覆物および／またはその真下に位置する層は損傷を受けてはならない。従って、ＨＲＩ被覆物の高耐引掻性は重要である。

ＨＲＩ被覆物により可能な限り効果的にエバネセント光を誘導することを可能とするためには、ＨＲＩ被覆物における光の吸収および／または散乱による損失を可能な限り小さくすべきであり、すなわち、ＨＲＩ被覆物の吸収率を可能な限り小さくすべきである。吸収率の尺度は、複素屈折率ｎ^＊＝ｎ＋ｉ・ｋの虚数成分ｋである。

滑らかな表面は、鋭い吸収限界を有するが故に共振倍率による青色レーザーの波長（４００〜４１０ｎｍ）で高い実数成分ｎの屈折率が生じる被覆物質として染料を用いて製造することができるが、ＨＲＩ被覆物の所要の高耐引掻性は達成されない。

従って、本発明の目的は、４つの特性の所要の組み合わせ、すなわち、複素屈折率の実数成分ｎが大きく、該屈折率の虚数成分ｋが可能な限り小さく、表面粗さが可能な限り小さく、そして耐引掻性が可能な限り高い被覆物（Ａ）を提供することであった。とりわけ、本発明の目的は被覆物（Ａ）を提供することであり、該被覆物（Ａ）は、屈折率の実数成分ｎが少なくとも１．７０であり、屈折率の虚数成分ｋが０．０１６以下であり、Ｒａ値としての表面粗さが２０ｎｍ未満であり、および耐引掻性が０．７５μｍ以下の引掻深度であることを特徴とする。

驚くべきことに、本発明による目的は、以下の工程：
ｉ）ナノ粒子水性懸濁液中に含まれる水の一部を少なくとも１つの有機溶媒に置き換えて、得られるナノ粒子懸濁液（Ａ１）を含水率５〜５０重量％とする工程、
ｉｉ）少なくとも１つのバインダー（Ａ２）をナノ粒子懸濁液（Ａ１）に添加して、キャスト用溶液（Ａ^＊）を得る工程、
ｉｉｉ）キャスト用溶液（Ａ^＊）を、基材（Ｓ）に、または情報記憶層（Ｂ）に塗布する工程、および
ｉｖ）キャスト用溶液（Ａ^＊）を、熱的または光化学的な方法によって架橋させる工程
によって得られる被覆物（Ａ）によって達成される。

従って、本発明は、以下の工程：
ｉ）ナノ粒子水性懸濁液中に含まれる水の一部を少なくとも１つの有機溶媒に置き換えて、得られるナノ粒子懸濁液（Ａ１）を含水率５〜５０重量％とする工程、
ｉｉ）少なくとも１つのバインダー（Ａ２）をナノ粒子懸濁液（Ａ１）に添加して、キャスト用溶液（Ａ^＊）を得る工程、
ｉｉｉ）キャスト用溶液（Ａ^＊）を基材（Ｓ）または情報記憶層（Ｂ）に適用する工程、および
ｉｖ）キャスト用溶液（Ａ^＊）を熱的または光化学的な方法によって架橋させる工程
によって得られる、基材（Ｓ）および被覆物（Ａ）を含有する被覆生成物を提供する。

好適には、工程ｉｉｉ）の後、キャスト用溶液（Ａ^＊）で湿潤させた基材（Ｓ）から完全または部分的に溶媒を除去し、および／または工程ｉｖ）後に得られた被覆物に熱的後処理を施す。

本発明による被覆生成物は基材（Ｓ）および被覆物（Ａ）を含有し、該被覆物（Ａ）は複素屈折率の実数成分ｎが少なくとも１．７０、好ましくは少なくとも１．８０、特に好ましくは少なくとも１．８５であり、複素屈折率の虚数成分ｋが０．０１６以下、好ましくは０．００８以下であり、Ｒａ値としての表面粗さが２０ｎｍ未満であり、そして耐引掻性が０．７５μｍ以下、好ましくは０．７μｍ以下、特に好適には０．６５μｍ以下の引掻深度であることを特徴とする。

被覆生成物の被覆物（Ａ）の特性は以下のように決定した：複素屈折率の実数成分ｎおよび虚数成分ｋを４００〜４１０ｎｍの波長で（すなわち、青色レーザーの波長範囲において）測定した。表面粗さはＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を用いてＲａ値として測定した。耐引掻性を決定するために、５０μｍの先端半径を有するダイヤモンド針を１．５ｃｍ／ｓの進行速度にて４０ｇの加重で被覆物上を移動させ、得られる引掻深度を測定した。各測定方法の詳細は、生成物および被覆生成物の試験に関する分野において得られる。

被覆物Ａ
被覆物Ａはキャスト用溶液Ａ^＊から得ることが可能であり、該キャスト用溶液Ａ^＊を基材（Ｓ）または情報記憶層（Ｂ）に塗布し、架橋させる。

成分Ａ^＊（キャスト用溶液）
本発明によるキャスト用溶液Ａ^＊は以下の成分を含有する：
Ａ１：ナノ粒子および水と少なくとも１つの有機溶媒との混合物を含有する懸濁液、
Ａ２：バインダー、および
必要に応じて、Ａ３：さらなる添加剤（成分Ａ．３）。

本発明の範囲内においては、ナノ粒子とは１００ｎｍ未満、好適には０．５〜５０ｎｍ、特に好適には１〜４０ｎｍ、極めて特に好適には５〜３０ｎｍの平均粒度（ｄ_５０）を有する粒子であると理解される。好適なナノ粒子は、２００ｎｍ未満、特に１００ｎｍ未満、特に好適には４０ｎｍ未満、極めて特に好適には３０ｎｍ未満のｄ_９０値をさらに有する。好適には、ナノ粒子は懸濁液中において単分散形態である。平均粒度ｄ_５０はその上下に、いずれの場合にも５０重量％の粒子が存在する直径である。ｄ_９０値はその下に９０重量％の粒子が存在する直径である。レーザー光散乱、または好ましくは分析超遠心分離（ＡＵＣ）の使用は、粒度を決定し、単分散度を明確にするのに適している。ＡＵＣは、例えば「粒子特性化」、Ｐａｒｔ．Ｐａｒｔ．Ｓｙｓｔ．Ｃｈａｒａｃｔ．、１９９５年、１２、第１４８〜１５７頁に記載されているように当業者に既知である。

成分Ａ１（ナノ粒子および水と少なくとも１つの有機溶媒との混合物を含有する懸濁液）の製造のために、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＳｉＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＮｂＯ_２、ＨｆＯ_２またはＴｉＯ_２のナノ粒子の水性懸濁液は適当であり、ＣｅＯ_２ナノ粒子の水性懸濁液は特に適当である。特に好適には、ナノ粒子の水性懸濁液は１以上の酸、好ましくはカルボン酸ＲＣ（Ｏ）ＯＨを含有し、式中、Ｒは、Ｈ、必要に応じて、ハロゲンで、好ましくは塩素および／または臭素で置換されていてもよいＣ_１−〜Ｃ_１８−アルキル、または必要に応じて、それぞれがＣ_１−〜Ｃ_４−アルキルで、および／またはハロゲン、好ましくは塩素、臭素で置換されていてもよいＣ_５−〜Ｃ_６−シクロアルキル、Ｃ_６−〜Ｃ_２０−アリールまたはＣ_７−〜Ｃ_１２−アラルキルである。Ｒは、好ましくはメチル、エチル、プロピルまたはフェニルであり、特に好適なものはエチルである。ナノ粒子懸濁液は、酸として鉱酸、例えば硝酸、塩化水素酸または硫酸などを含有してもよい。ナノ粒子の水性懸濁液は、酸と水の重量部の合計を基準として好ましくは０．５〜１０重量部、特に好適には１〜５重量部の酸を含有する。例えば、ナノ粒子懸濁液は、Ｎｙａｃｏｌ ＮａｎｏＴｅｃｈｎ．、Ｉｎｃ．、米国製のＮａｎｏＣｅｒｉａ（登録商標） ＣｅＯ_２−ＡＣＴ（酢酸で安定化されたＣｅＯ_２ナノ粒子の水性懸濁液、ｐＨ値＝３．０）およびＣｅＯ_２−ＮＩＴ（硝酸で安定化されたＣｅＯ_２ナノ粒子の水性懸濁液、ｐＨ値＝１．５）が適当である。

これらのナノ粒子の水性懸濁液に由来する水の一部は少なくとも１つの有機溶媒に置き換えられる。この部分的な溶媒交換は、蒸留によって、または膜濾過によって、好ましくは限外濾過によって、例えば「クロスフロー」法に従って行われる。クロスフロー限外濾過は工業規模上での限外濾過の形態であり（Ｍ．Ｍｕｌｄｅｒ：Ｂａｓｉｃ Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ｏｆ Ｍｅｍｂｒａｎｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｋｌｕｗｅｒ Ａｃａｄ．Ｐｕｂｌ．、１９９６年、第１版）、濾過されるべき溶液（供給溶液）は膜によって接線方向に流れる。好ましくは、アルコール、ケトン、ジケトン、環式エーテル、グリコール、グリコールエーテル、グリコールエステル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドおよびプロピレンカーボネートからなる群から選択される少なくとも１つの溶媒を該溶媒交換に用いる。好適には上記の群からの少なくとも２つの溶媒の溶媒混合物を用い、１−メトキシ−２−プロパノールおよびジアセトンアルコールの溶媒混合物を特に好適に用いる。１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＯＰ）およびジアセトンアルコール（ＤＡＡ）の溶媒混合物を、好適には９５：５〜３０：７０、特に好適には９０：１０〜５０：５０の比で用いることは特に好適である。水は、好ましくは２０重量％までの量で、より好ましくは５〜１５重量％の量で、用いる溶媒中に存在させてよい。

本発明のさらなる実施態様においては、ナノ粒子の懸濁液を上記有機溶媒の少なくとも１つにおいて溶媒交換によって調製し、次いでさらなる溶媒を添加し、該さらなる溶媒はアルコール、ケトン、ジケトン、環式エーテル、例えばテトラヒドロフランまたはジオキサンなど、グリコール、グリコールエーテル、グリコールエステル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ソルケタール、プロピレンカーボネートおよびアルキルアセテート、例えばブチルアセテートからなる群から選択される。該実施態様においても、水は、好ましくは２０重量％までの量、より好ましくは５〜１５重量％の量で、用いる溶媒中に存在させてよい。

２０００００Ｄ未満、好ましくは１５００００Ｄ未満、特に好適には１０００００Ｄ未満のカットオフを好ましく有する、ポリエーテルポリスルホンから作られた限外濾過膜の使用は好適である。膜のカットオフとは次のように定義する：相当するサイズ（例えば２０００００Ｄ以上）の分子は保持されるが、それより小さいサイズの分子および粒子は透過することが可能である（「Ｂａｓｉｃ Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ｏｆ Ｍｅｍｂｒａｎｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」、Ｍ． Ｍｕｌｄｅｒ、Ｋｌｕｗｅｒ Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、１９９６年、第１版）。こうした限外濾過膜は流量が多い場合でさえナノ粒子を保持するが、溶媒は透過させる。本発明に従えば、溶媒交換は連続的な濾過によって行われ、透過する水は溶媒または溶媒混合物の相当する量によって置き換えられる。ポリマー膜に対する代替として、セラミック膜を溶媒交換の工程段階において用いることも可能である。

本発明による方法は、上記の有機溶媒または溶媒混合物の１つへの水の置き換えが、得られるナノ粒子懸濁液（Ａ１）中に５重量％の制限値未満に低下しないことを特徴とする。好適には、有機溶媒または溶媒混合物への水の置き換えは、得られるナノ粒子懸濁液（Ａ１）が５〜５０重量％、好ましくは７〜３０重量％、特に好適には１０〜２０重量％の含水率を有するように実施する。得られるナノ粒子懸濁液は、好ましくは１〜５０重量％、より好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１５〜３５重量％のナノ粒子を好ましく含有する（以下、ナノ粒子固形分と称する）。

膜気泡でのナノ粒子懸濁液の溶媒交換をより長い間実施する場合には、５重量％未満の含水率が生じ、粒子凝集が生じるため、得られる被覆物が単分散性と高い透明性の条件に適合しない。一方、有機系ナノ粒子懸濁液中における含水率は５０重量％より多く、引き続く工程に用いるべきバインダーはもはや、透明溶液を得るために水含有懸濁液中に溶解させることができず、従ってこれらの両方の場合、すなわち凝集ナノ粒子の場合または透明溶液を得るために溶解しなかったバインダーの場合には、得られる被覆物は高屈折率ｎおよび高透明性のための同時要件を充足しない。

バインダー（Ａ２）として、非反応性で熱乾燥性の熱可塑性プラスチック、例えばポリメチルアクリルメタクリレート（Ｅｌｖａｃｉｔｅ（登録商標）、Ｔｅｎｎａｎｔｓ）またはポリビニルアセテート（Ｍｏｗｉｌｉｔｈ ３０（登録商標）、Ｓｙｎｔｈｏｍｅｒ）、および被覆後、化学反応によってまたは光化学反応によって反応させて、高架橋ポリマーマトリックスを得ることができる反応性モノマー成分はいずれも用いることができる。例えば、架橋はＵＶ放射によってもたらされる。ＵＶ放射による架橋は、耐引掻性の増加の観点から特に好適である。反応性成分は好適には、例えば、Ｐ．Ｇ．Ｇａｒｒａｔｔ、「Ｓｔｒａｈｌｅｎｈａｅｒｔｕｎｇ」１９９６年、Ｃ．Ｖｉｎｃｅｎｔｚ Ｖｌｇ．、ハノーバーに記載されているＵＶ架橋性アクリレート系である。バインダー（Ａ２）は好適には、ポリビニルアセテート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタンおよびアクリレートからなる群の少なくとも１つから選択される。バインダー（Ａ２）は、ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＴＡ）、トリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートおよびヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）からなる群の少なくとも１つから特に好適に選択される。

キャスト用溶液中にさらなる添加剤（Ａ３）として用いる成分は好適には、光開始剤および熱開始剤からなる群から選択される少なくとも１つの添加剤である。キャスト用溶液の成分の重量部の合計を基準として３重量部まで、好ましくは０．０５〜１重量部、特に好適には０．１〜０．５重量部の添加剤（Ａ３）を用いる。典型的な光開始剤（ＵＶ開始剤）は、α−ヒドロキシケトン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） １８４、Ｃｉｂａ）またはモノアシルホスフィン（Ｄａｒｏｃｕｒｅ（登録商標） ＴＰＯ、Ｃｉｂａ）である。ＵＶ重合を開始するために必要なエネルギー（ＵＶ放射のエネルギー）の量は、被覆表面の約０．５〜４Ｊ／ｃｍ^２の範囲、特に好ましくは２．０〜３．０Ｊ／ｃｍ^２の範囲である。例えば、名称ＢＹＫとしてＢｙｋ／Ａｌｔａｎａ（４６４８３ ウェーゼル、独国）によって供給される、いわゆる被覆添加剤、例えばＢＹＲ ３４４（登録商標）はさらなる添加剤として適当である。

本発明による高屈折率被覆物用のキャスト用溶液Ａ^＊は、有機溶媒または溶媒混合物中に少なくとも１つのバインダー（Ａ２）、および必要に応じてさらなる添加剤（Ａ３）を溶解させることによって製造され、これは水を含有していてよい。得られる溶液（以下、バインダー溶液と称する）は成分Ａ１と混合し、必要に応じて濾過および脱気する。好適な実施態様においては、成分Ａ１は、バインダーと同一の有機溶媒または溶媒混合物を含有する。

キャスト用溶液Ａ^＊は、以下の組成物を好ましく有する：
１２〜３０重量部、好ましくは１３〜２５重量部、特に好ましくは１４〜１９重量部のナノ粒子固形分、
２〜８重量部、好ましくは２．５〜５重量部のバインダー、
０〜３重量部、好ましくは０．０５〜１重量部、特に好ましくは０．１〜５重量部のさらなる添加剤（Ａ３）、
７〜２８重量部、好ましくは１５〜２７重量部、特に好ましくは２０〜２６重量部の水、および
３２〜７９重量部、好ましくは４２〜７０重量部、特に好ましくは５０〜６３重量部の有機溶媒、
該成分の重量部の合計は１００に規格化される。

キャスト用溶液Ａ^＊は概して、固形分が１０〜５０重量％、好ましくは１４〜２８重量％である。キャスト用溶液Ａ^＊の固形分は、成分Ａ２、成分Ａ３およびナノ粒子固形分の合計である。キャスト用溶液中のバインダー（Ａ２）とナノ粒子固形分の比は、好ましくは４０：６０〜７：９３であり、特に好適には、該比は２６：７４〜１２：８８である。

被覆物Ａの層厚さは、５０ｎｍ〜１００００ｎｍ、好ましくは１００ｎｍ〜２０００ｎｍ、特に好適には１５０ｎｍ〜９００ｎｍである。該層厚さは、特にスピンコート法の場合には、キャスト用溶液の固形分によって調節することができる。被覆物の所望の層厚さが高い場合には、高固形分のキャスト用溶液を用いる；所望の被覆物がより薄い場合には、低固形分のキャスト用溶液を用いる。

基材Ｓ
基材（Ｓ）はガラス、石英、ケイ素および有機ポリマーからなる群の少なくとも１つから選択される。用いる有機ポリマーは、好ましくはポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリエステル、シクロオレフィンポリマー、エポキシ樹脂およびＵＶ硬化性樹脂である。基材は、好ましくはポリカーボネートを含有する基材、特に、ポリカーボネート型Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標） ＤＰ１−１２６５またはＯＤ ２０１５を含有する高透明性基材シートである。基材（Ｓ）はらせん溝、くぼみおよび／または突起があってもよい。

従って、本発明はまた、層順序が（Ｓ）−（Ａ）または（Ａ）−（Ｓ）−（Ａ）である被覆生成物を提供する。

さらなる層Ｂ
本発明による被覆生成物は、さらなる層として情報記憶層を含有していてよい。該情報記憶層は、金属、半導体物質、誘電性物質、金属カルコゲニドまたは有機染料の群から選択される少なくとも１つから構成される。
金属として、特にＡｇ，Ａｌ、Ａｕおよび／またはＣｕを用いる。
半導体物質として、特にシリコンを用いる。
誘電性物質として、特に相変化物質、特に好ましくはＳｉＯ、ＳｉＮ、ＳｉＨ、Ｓｉ、ＺｎＯおよびＺｎＳを用いる。

さらなる層Ｂは、例えばスパッタ法によって、基材に、または下位層に適用することができる。

従って、本発明はまた、層順序が、
（Ｓ）−［（Ｂ）−（Ａ）］_ｎ− （Ｂ）−（Ａ）
または
（Ａ）− （Ｂ）−［（Ａ）−（Ｂ）］_ｍ− （Ｓ）−［（Ｂ）−（Ａ）］_ｎ− （Ｂ）−（Ａ）
〔式中、ｍおよびｎは、互いに独立して、０または１より大きい自然数、好ましくは０または１〜８の自然数、特に好ましくは２である〕
である被覆生成物を提供する。例えば、また好ましくは、本発明による被覆生成物は、層順序が（Ｓ）−（Ｂ）−（Ａ）であるか、または層順序が（Ｓ）−（Ｂ）−（Ａ）−（Ｂ）−（Ａ）である。

本発明による被覆生成物は、光データ記憶手段の製造において用いることができる。本発明は従って、被覆物Ａおよび基材Ｂを含有する光データ記憶手段をさらに提供する。

被覆生成物の製造方法
キャスト用溶液Ａ^＊を必要に応じて、５分までの間、好ましくは１０〜６０秒の間、超音波で処理し、および／またはフィルターにより、好ましくは０．２μｍ膜（例えば、ＲＣ膜、Ｓａｒｔｏｒｉｕｓ）で濾過する。
キャスト用溶液を、基材の表面に、または情報記憶層の表面に適用する。過剰のキャスト用溶液を好ましくはスピン法によって除去した後、キャスト用溶液の残渣が基材上に残留するが、その残渣の厚みは、キャスト用溶液の固形分に依存し、またスピンコート法の場合にはスピン条件に依存する。キャスト用溶液に含まれる溶媒の一部または全部は必要に応じて、好ましくは熱処理によって除去することができる。キャスト用溶液または残渣の引き続く架橋は、熱的方法（例えば熱風を用いて）または光化学的方法（例えばＵＶ光）によって実施する。光化学的架橋は、例えばＵＶ露光装置上で実施することができる：この目的を達成するために、該被覆基材を、約１ｍ／分の速度で紫外線源（Ｈｇランプ、８０Ｗ）を通過するコンベヤーベルト上に設置する。該方法は、ｃｍ^２あたりの放射エネルギーに影響を与えるために繰り返すこともできる。次いで該被覆基材に熱的後処理を、好ましくは熱風を用いて、例えば５〜３０分間６０℃〜１２０℃で施すことができる。

従って、本発明は、以下の工程：
ｉ）ナノ粒子水性懸濁液から出発する、少なくとも１つの有機溶媒中において単分散ナノ粒子懸濁液を調製する工程であって、該ナノ粒子水性懸濁液中に存在する水を除去し、それと同時に少なくとも１つの有機溶媒に置き換え、該ナノ粒子懸濁液を含水率５〜５０重量％とする工程、
ｉｉ）少なくとも１つのバインダー（Ａ２）および必要に応じてさらなる添加剤（Ａ３）をナノ粒子懸濁液（Ａ１）に添加して、キャスト用溶液（Ａ^＊）を得る工程、
ｉｉｉ）工程ｉｉ）からのキャスト用溶液を、基材に、または情報記憶層（Ｂ）に塗布する工程、
ｉｖ）キャスト用溶液中に含まれる溶媒の一部または全部を、好ましくは熱処理によって除去して、基材上に残渣を得る工程、
ｖ）キャスト用溶液または残渣を、熱的または光化学的な方法によって架橋する工程、および
ｖｉ）必要に応じて、該被覆物を好ましくは６０〜１２０℃で熱処理する工程
を含んでなる、被覆生成物の製造方法をさらに提供する。

〔成分Ａ．０〕
Ｃｅｒｉａ ＣｅＯ_２−ＡＣＴ（登録商標）：ＣｅＯ_２の水性懸濁液：水７７重量％および酢酸３重量％におけるＣｅＯ_２ナノ粒子２０重量％、懸濁液のｐＨ値：３．０、懸濁ＣｅＯ_２ナノ粒子の粒度：１０〜２０ｎｍ、比重量：１．２２ｇ／ｍｌ、粘度：１０ｍＰａ・ｓ、製造業者：Ｎｙａｃｏｌ Ｉｎｃ．、アシュランド、マサチューセッツ州、米国。

〔成分Ａ．２〕
バインダー：ジペンタエリトリトールペンタ−／ヘキサ−アクリレート（ＤＰＨＡ、Ａｌｄｒｉｃｈ）。

〔成分Ａ．３〕
ＵＶ光開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） １８４（１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン）、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．、バーゼル、スイス。

〔成分Ｓ−１〕
Ｈｅｒａｅｕｓ製の寸法２５×２５×１ｍｍの石英ガラス試料ホルダー、ＳＵＰ１品質、識別番号０９６７９５９７。

〔成分Ｓ−２〕
ブランクマトリックスに対して射出成形法によって製造されたポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標） ＯＤ２０１５、Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧ、レーフェルクーゼン、独国）のＣＤ基材；直径：１２０ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ。

〔成分Ｓ−３〕
成分Ｓ−３は２０ｎｍＡｇの反射層で被覆された成分Ｓ−２である。該反射層はスパッタ法を用いて適用した。

以下の成分を実施例において有機溶媒として用いた：
１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＯＰ）、製造業者：Ａｌｄｒｉｃｈ
ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）、製造業者：Ａｌｄｒｉｃｈ。

被覆生成物の製造および試験
被覆物の屈折率ｎおよび屈折率の虚数成分ｋ（以下、吸収定数ｋと称する）を、透過および反射のスペクトルから得た。この目的のために、被覆物の約１００〜３００ｎｍ厚のフィルムを、希釈溶液から石英ガラス担体にスピンコート法によって塗布した。該層構造の透過および反射のスペクトルをＳＴＥＡＧ ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ製分光計、ＣＤ−Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍ ＥＴＡ−ＲＴを用いて測定し、次いで層厚さおよびｎおよびｋのスペクトル経過を透過および反射の測定スペクトルに適合させた。これは、分光計の内部ソフトウェアを用いて得られ、予めブランク測定において決定した石英ガラス基材のｎおよびｋのデータを必要とする。ｋは以下の光強度の減衰定数αに関する：

（λは光の波長である）。

表面粗さは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）をタッピングモードにおいて使用することによってＲａとして決定した（ＡＳＴＭ Ｅ−４２．１４ ＳＴＭ／ＡＦＭに従う）。

耐引掻製を決定するために、引掻傷を半径方向に内側から外側へと、５０μｍの先端半径を有するダイヤモンド針を用いて１．５ｃｍ／ｓの進行速度にて４０ｇの加重で作製した。引掻深度は、Ｔｅｎｃｏｒ製Ａｌｐｈａ Ｓｔｅｐ ５００ ｓｔｅｐ ｐｒｏｆｉｌｅｒを用いて測定し、耐引掻性の尺度とした。値が小さいほど、対応する基材はより耐引掻性を有する。

含水率はＫａｒｌ Ｆｉｓｃｈｅｒ法によって決定した。

実施例１：クロスフロー限外濾過による、水および有機溶媒を含有するナノ粒子懸濁液への水性ＣｅＯ_２ナノ粒子懸濁液の変換
ＵＦ膜カセット（ＰＥＳ、ＭＷ １０００００）を有するＰＡＬＬ製膜モジュール（Ｃｅｎｔｒａｍａｔｅ ＯＳ０７０Ｃ１２）をクロスフロー限外濾過（ＵＦ）に用いた。浸透は２．５ｂａｒ圧で行い、水を含有するパーミエートは廃棄し、減少するリテンテートをアルコール溶媒混合物１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＯＰ）／ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）（ＭＯＰ／ＤＡＡ比＝８５／１５）に置き換えた。６．５リットルの成分Ａ．０を用いた。以下の表に示されるように、濾過を異なった長さの３つのサイクル後に終了させたため、含水率が異なった、有機溶媒および水の混合物中におけるナノ粒子懸濁液（成分Ａ１−１、Ａ１−２，Ａ１−３）を得た。

実施例２：含水率１０．５重量％を有するキャスト用溶液（成分Ａ^＊−１）の調製
溶液Ａ：２７ｇの成分Ａ．２を、攪拌しながら、ＭＯＰおよびＤＡＡの溶媒混合物（ＭＯＰ／ＤＡＡ比＝８５／１５）２００ｇ中に溶解させた。次いで２ｇの成分Ａ．３を添加して、透明溶液を形成した。
溶液Ｂ： ガラス製ビーカー中に、ＭＯＰおよびＤＡＡの溶媒混合物（ＭＯＰ／ＤＡＡ比＝８５／１５）１０２ｇを３８８ｇの成分Ａ．１−１（含水率１９．４重量％）に添加し、該混合物を攪拌して、透明な黄色懸濁液を得た。これを３０秒間超音波で処理した。

溶液ＡおよびＢを混合し、次いで再び３０秒間超音波で処理し、０．２μｍフィルター（Ｍｉｎｉｓａｒｔ ＲＣ膜）越しに濾過した。キャスト用溶液（成分Ａ^＊−１）の計算組成は以下のとおりである：

成分Ａ^＊−１（キャスト用溶液）の組成および特性：表３を参照されたい。

実施例３：２４．４重量％の含水率を有するキャスト用溶液Ａ^＊−２の調製
溶液Ａ：２．７ｇの成分Ａ．２を、攪拌しながら、ＭＯＰおよびＤＡＡの溶媒混合物（ＭＯＰ／ＤＡＡ比＝８５／１５）２０ｇ中に溶解させた。次いで０．２ｇの成分Ａ．３を添加して、透明溶液を形成した。
溶液Ｂ：ガラス製ビーカー中に、水１２．０ｇを３６．９ｇの成分Ａ．１−２（含水率１５．０重量％）に添加し、該混合物を攪拌して、わずかに透明な黄色懸濁液を得た。これを３０秒間超音波で処理した。

溶液ＡおよびＢを混合し、次いで再び３０秒間超音波で処理し、０．２μｍフィルター（Ｍｉｎｉｓａｒｔ ＲＣ膜）越しに濾過した。キャスト用溶液（成分Ａ^＊−２）の計算組成は以下のとおりである：

成分Ａ^＊−２（キャスト用溶液）の組成および特性：表３を参照されたい。

実施例４：キャスト用溶液Ａ^＊−３〜Ａ^＊−５（含水率３０重量％以上）の調製（比較例）
溶液Ａ：２．７ｇの成分Ａ．２を、攪拌しながら、以下の表２に示すＭＯＰおよびＤＡＡの溶媒混合物（ＭＯＰ／ＤＡＡ比＝８５／１５）中に溶解させた（欄「ＭＯＰ／ＤＡＡの添加量比」を参照されたい）。次いで０．２ｇの成分Ａ．３を添加して、透明溶液を形成した。
溶液Ｂ：ガラス製ビーカー中に、以下の表２に示す量の水を３６．９ｇの成分Ａ．１−２（含水率１５．０重量％）に添加し、該混合物を攪拌して、わずかに透明な黄色懸濁液を得た。これを３０秒間超音波で処理した。

成分Ａ^＊−３〜Ａ^＊−５の組成および特性：表３を参照されたい。

実施例５：５．１重量％の含水率を有するキャスト用溶液Ａ^＊−６の調製（比較例）
溶液Ａ：２．７ｇの成分Ａ．２を、攪拌しながら、ＭＯＰおよびＤＡＡの溶媒混合物（ＭＯＰ／ＤＡＡ比＝８５／１５）３２．０中に溶解させた。次いで０．２ｇの成分Ａ．３を添加して、透明溶液を形成した。
溶液Ｂ：ガラス製ビーカー中に、ＭＯＰおよびＤＡＡの溶媒混合物（ＭＯＰ／ＤＡＡ比＝８５／１５）２０．０ｇを３８．９ｇの成分Ａ．１−３（含水率１２．３重量％）に添加し、該混合物を攪拌して、チキソトロピー性を有する黄色懸濁液を得た。これを３０秒間超音波で処理した。

溶液ＡおよびＢを混合し、次いで再び３０秒間超音波で処理した。得られる濁った懸濁液（成分Ａ^＊−６）は、０．２μｍフィルター（Ｍｉｎｉｓａｒｔ ＲＣ膜）越しに濾過することができなかった。

成分Ａ^＊−６（キャスト用溶液）の組成および特性：表３を参照されたい。

実施例６：キャスト用溶液Ａ^＊−１による種々の基材の被覆
実施例６ａ：成分Ｓ−１の被覆（値ｋ、ｎおよびＲａを決定する石英ガラス試料ホルダー）
成分Ｓ−１を約０．５ｍｌの成分Ａ^＊−１を用いて処理した。被覆は以下の条件下でスピンコーターを用いて行った：
回転速度：１００００ｒｐｍ、１０秒。
該被覆物を、Ｈｇランプを用いて５．５Ｊ／ｃｍ^２で架橋し、次いで１０分間８０℃で調質した。

被覆物の特性：
被覆物の計算組成：
ＣｅＯ_２７９．８重量％
ポリアクリレート（架橋ＤＰＨＡ）１８．８重量％、
Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標） １８４（成分Ａ３）１．４重量％。
視覚的評価：極めて透明な、光沢を有する、欠陥のない被覆物
層厚さｄ：１９０ｎｍ
屈折率ｎ（４０５ｎｍで）：１．８９
吸収定数ｋ（４０５ｎｍで）：０．００８
表面粗さ（測定面積２０×２０μｍ^２）Ｒａ：２．９４ｎｍ

実施例６ｂ：成分Ｓ−２の被覆（ポリカーボネートのＣＤ基材）
耐引掻性を決定するために、キャスト用溶液をスピンコート法によって成分Ｓ−２に塗布した。
スピンコート条件は以下のとおりであった：
５０ｒｐｍでの成分Ａ^＊−１の計量、１０ｒｐｍで６０秒間にわたる成分Ａ^＊−１の分布、３０００ｒｐｍで１５秒間の回転による成分Ａ^＊−１の除去。
該被覆物を、Ｈｇランプを用いて５．５Ｊ／ｃｍ^２で架橋させ、次いで１０分間８０℃で調質した。
被覆物の特性
層厚さｄ：５５０ｎｍ
耐引掻性：引掻深度：０．６２μｍ

実施例６ｃ：成分Ｓ−３の被覆（銀（Ａｇ）層を有するＣＤ基材）
スピンコート条件は以下のとおりであった：
５０ｒｐｍでの成分Ａ^＊−１の計量、１０ｒｐｍで６０秒間にわたる成分Ａ^＊−１の分布、３０００ｒｐｍで１５秒間の回転による成分Ａ^＊−１の除去。
該被覆物を、Ｈｇランプを用いて５．５Ｊ／ｃｍ^２で架橋させ、次いで１０分間８０℃で調質した。
被覆物の特性
層厚さｄ：５００ｎｍ
耐引掻性：引掻深度：０．５５μｍ

実施例７：キャスト用溶液Ａ^＊−２〜Ａ^＊−５による種々の基材の被覆
実施例７ａ：成分Ｓ−１の被覆（値ｋ、ｎおよびＲａを決定するための石英ガラス試料ホルダー）
１成分Ｓ−１をいずれの場合にもＡ^＊−２〜Ａ^＊−５の群から選択される成分約０．５ｍｌを用いて処理した。被覆は以下の条件下でスピンコーターを用いて行った：
回転速度：１００００ｒｐｍ、１０秒。
該被覆物を、Ｈｇランプを用いて５．５Ｊ／ｃｍ^２で架橋し、次いで１０分間８０℃で調質した。

実施例７ｂ：成分Ｓ−２の被覆（耐引掻性を決定するためのポリカーボネートのＣＤ基材）
耐引掻性を決定するために、キャスト用溶液をスピンコート法によって成分Ｓ−２に塗布した。
スピンコート条件は以下のとおりであった：
成分Ａ^＊−２を５０ｒｐｍで計量し、成分Ａ^＊−２を１０ｒｐｍで６０秒間にわたり分布させ、成分Ａ^＊−２を３０００ｒｐｍで１５秒間、回転させることによって除去した。
該被覆物を、Ｈｇランプを用いて５．５Ｊ／ｃｍ^２で架橋させ、次いで１０分間８０℃で調質した。
被覆物の特性
層厚さｄ：２１２ｎｍ
耐引掻性：引掻深度：０．６５μｍ

実施例８：キャスト用溶液Ａ^＊−６による成分Ｓ−１（石英ガラス試料ホルダー）の被覆（比較例）
成分Ｓ−１を約０．５ｍｌの成分Ａ^＊−６で処理した。被覆は以下の条件でスピンコーターを用いて行った：
回転速度：１００００ｒｐｍ、１０秒。
該被覆物を、Ｈｇランプを用いて５．５Ｊ／ｃｍ^２で架橋し、次いで１０分間８０℃で調質した。
被覆物の特性：
視覚的評価：濁った被覆物であり、これは、吸収定数ｋに関して定められた要件を充足せず（ｋ＞０．０１６を計測したため）、従ってさらに評価は行わなかった。

実施例９：成分Ｓ−２の耐引掻性の決定（ポリカーボネートのＣＤ基材）（比較例）
相当する被覆生成物との比較のために、被覆されていない基材Ｓ−２を、以下の結果で、耐引掻性について試験した。
耐引掻性：引掻深度 ０．９３μｍ

実施例１０：成分Ｓ−３の耐引掻性の決定（Ａｇの反射層を有するポリカーボネートのＣＤ基材）（比較例）
相当する被覆生成物との比較のために、被覆されていない基材Ｓ−３を、以下の結果で、耐引掻性について試験した。
耐引掻性：引掻深度 ０．７７μｍ

結果の考察
ナノ粒子水性懸濁液を水および有機溶媒の混合物の懸濁液に変換する場合（実施例１）、顕著に１０重量％に満たない量へと水の量をさらに著しく減少させることは浸透時間において増加する超過部分が必要となり、これは、次第によりペースト状になるリテンテートからの溶媒の浸透が次第によりゆっくりと行われるからである。
比較例５（表３も参照されたい）は、５．１重量％の含水率を有するキャスト用溶液Ａ^＊−６が既に濁っていることを示す。該キャスト用溶液Ａ^＊−６が既にコンシステンシーにおいてチキソトロピー性を有することは、被覆の工程段階に悪影響を及ぼす。比較例８によって示されているように、濁ったキャスト用溶液Ａ^＊−６から本発明に従って必要とされる高透明性を有する高屈折率被覆物を製造することは不可能である。
比較例４ａ〜４ｃにおいて製造したキャスト用溶液は３０重量％以上の含水率を有する。これらのキャスト用溶液Ａ^＊−３〜Ａ^＊−５は未だ透明であるが、これらから得られた被覆物は曇っている（比較例７ａ−２〜７ａ−４、表４も参照されたい）。
本発明による目的は、含水率がそれぞれ１０．５重量％および２４．４重量％であるキャスト用溶液Ａ^＊−１およびＡ^＊−２（実施例２および３）により達成することができる。得られる被覆物（実施例６および７を参照されたい）は、本発明による全ての要件を満たす。キャスト用溶液Ａ^＊−２から得られた被覆物は、得られる被覆物が０．００３の極めて低い吸収定数ｋを有するので特に有利である（実施例７ａを参照されたい）。
比較例９および１０の耐引掻性測定結果と本発明に従って被覆された基材の耐引掻性測定結果（実施例６ｂ、６ｃ、７ｂ）との比較によって示されるように、本発明による被覆物は基材の耐引掻性が著しく増加する。

Claims (20)

1. 基材（Ｓ）および被覆物（Ａ）を含有する被覆生成物であって、該被覆物（Ａ）は複素屈折率の実数成分ｎが少なくとも１．７０、複素屈折率の虚数成分ｋが０．０１６以下、Ｒａ値としての表面粗さが２０ｎｍ未満および耐引掻性が０．７５μｍ以下の引掻深度であることを特徴とする（ここで、該屈折率の実数成分および虚数成分は４００〜４１０ｎｍの波長で測定し、該Ｒａ値としての表面粗さはＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定したものであり、また、該耐引掻性を決定するために５０μｍの先端半径を有するダイヤモンド針を１．５ｃｍ／ｓの進行速度にて４０ｇの加重でポリカーボネート（基材）上の被覆物上を移動させ、生じる引掻深度を測定した）、前記生成物。
2. 以下の工程：
   ｉ）ナノ粒子水性懸濁液中に含まれる水の一部を少なくとも１つの有機溶媒に置き換えて、得られるナノ粒子懸濁液（Ａ１）を含水率５〜５０重量％とする工程、
   ｉｉ）少なくとも１つのバインダー（Ａ２）を前記ナノ粒子懸濁液（Ａ１）に添加して、キャスト用溶液（Ａ^＊）を得る工程、
   ｉｉｉ）前記キャスト用溶液（Ａ^＊）を、基材（Ｓ）に、または情報記憶層に塗布する工程、および
   ｉｖ）前記キャスト用溶液（Ａ^＊）を熱的または光化学的な方法によって架橋させる工程
   によって得られる、基材（Ｓ）および被覆物（Ａ）を含有する被覆生成物。
3. 前記工程ｉｉｉ）の後に、キャスト用溶液（Ａ^＊）で湿潤させた基材（Ｓ）から完全または部分的に溶媒を除去することを特徴とする、請求項２に記載の被覆生成物。
4. 前記工程ｉｖ）の後に得られた被覆物に熱的後処理を施すことを特徴とする、請求項２または３に記載の被覆生成物。
5. 前記工程ｉ）に用いるナノ粒子水性懸濁液は、平均粒度（ｄ_５０）が１００ｎｍ未満であることを特徴とする、請求項２〜４のいずれかに記載の被覆生成物。
6. 前記工程ｉ）において、ナノ粒子水性懸濁液のナノ粒子は、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＳｉＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＮｂＯ_２、ＨｆＯ_２およびＴｉＯ_２からなる群の少なくとも１つから選択されることを特徴とする、請求項２〜５のいずれかに記載の被覆生成物。
7. 前記工程ｉｉ）に従って得られたキャスト用溶液（Ａ^＊）は、含水率が７〜２８重量％であることを特徴とする、請求項２〜６のいずれかに記載の被覆生成物。
8. 前記工程ｉ）において、有機溶媒は、アルコール、ケトン、ジケトン、環式エーテル、グリコール、グリコールエーテル、グリコールエステル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドおよびプロピレンカーボネートからなる群の少なくとも１つから選択されることを特徴とする、請求項２〜７のいずれかに記載の被覆生成物。
9. 前記工程ｉｉ）において、バインダーＡ２）は、
   （ａ）非反応性で熱乾燥性の熱可塑性プラスチック、
   （ｂ）化学反応によって架橋可能な反応性モノマー成分、および
   （ｃ）光化学反応性バインダー系
   からなる群の少なくとも１つから選択されることを特徴とする、請求項２〜８のいずれかに記載の被覆生成物。
10. 前記工程ｉｉ）において、光開始剤および熱開始剤の群から選択される少なくとも１つのさらなる成分（成分Ａ３）を添加することを特徴とする、請求項２〜９のいずれかに記載の被覆生成物。
11. 前記基材（Ｓ）は、ガラス、石英、ケイ素および有機ポリマーからなる群の少なくとも１つから選択されることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の被覆生成物。
12. 前記基材（Ｓ）は、ガラス、石英、ケイ素、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、ポリエステル、シクロオレフィンポリマー、エポキシ樹脂およびＵＶ硬化性樹脂からなる群の少なくとも１つから選択されることを特徴とする、請求項１１に記載の被覆生成物。
13. 情報記憶層（Ｂ）がさらなる層として存在することを特徴とする、請求項１〜１２のいずれかに記載の被覆生成物。
14. 層順序が、
    （Ｓ）−（Ａ）、
    （Ａ）−（Ｓ）−（Ａ）、
    （Ｓ）−［（Ｂ）−（Ａ）］_ｎ−（Ｂ）−（Ａ）、または
    （Ａ）−（Ｂ）−［（Ａ）−（Ｂ）］_ｍ−（Ｓ）−［（Ｂ）−（Ａ）］_ｎ−（Ｂ）−（Ａ）
    〔式中、ｍおよびｎは、互いに独立して、０または１より大きい自然数である〕
    であることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれかに記載の被覆生成物。
15. 光データ記憶手段の製造における、請求項１〜１４のいずれかに記載の被覆生成物の使用。
16. 請求項１〜１４のいずれかに記載の被覆生成物を含有する光データ記憶手段。
17. ２〜８重量部のバインダー（Ａ．２）、
    １２〜３０重量部のナノ粒子固形分、
    ７〜２８重量部の水、および
    ３２〜７９重量部の有機溶媒
    を含有するキャスト用溶液（Ａ^＊）。
18. ０．０５〜１重量部のさらなる添加剤（Ａ．３）をさらなる成分として含有する、請求項１５に記載のキャスト用溶液（Ａ^＊）。
19. 以下の工程：
    ｉ）ナノ粒子水性懸濁液中に含まれる水の一部を少なくとも１つの有機溶媒に置き換えて、得られるナノ粒子懸濁液（Ａ１）を含水率５〜２０重量％とする工程、
    ｉｉ）少なくとも１つのバインダー（Ａ２）を前記ナノ粒子懸濁液（Ａ１）に添加する工程
    によって得られる請求項２４に記載のキャスト用溶液（Ａ^＊）。
20. 以下の工程：
    ｉ）ナノ粒子水性懸濁液から出発する、少なくとも１つの有機溶媒中において単分散ナノ粒子懸濁液を調製する工程であって、該ナノ粒子水性懸濁液中に存在する水を除去し、それと同時に少なくとも１つの有機溶媒に置き換え、該ナノ粒子懸濁液を含水率５〜５０重量％とする工程、
    ｉｉ）少なくとも１つのバインダー（Ａ２）および必要に応じてさらなる添加剤（Ａ３）をナノ粒子懸濁液（Ａ１）に添加して、キャスト用溶液（Ａ^＊）を得る工程、
    ｉｉｉ）前記工程ｉｉ）からのキャスト用溶液を、基材に、または情報記憶層（Ｂ）に塗布する工程、
    ｉｖ）必要に応じて、前記キャスト用溶液中に含まれる溶媒の一部または全部を除去して、基材上に残渣を得る工程、
    ｖ）前記キャスト用溶液または残渣を、熱的または光化学的な方法によって架橋する工程、および
    ｖｉ）必要に応じて、前記被覆物を熱処理する工程
    を含んでなる、被覆生成物の製造方法。