JP2010275334A - 表面処理シリカ粒子の製造方法、表面処理シリカ粒子、エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置 - Google Patents
表面処理シリカ粒子の製造方法、表面処理シリカ粒子、エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010275334A JP2010275334A JP2009125938A JP2009125938A JP2010275334A JP 2010275334 A JP2010275334 A JP 2010275334A JP 2009125938 A JP2009125938 A JP 2009125938A JP 2009125938 A JP2009125938 A JP 2009125938A JP 2010275334 A JP2010275334 A JP 2010275334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- resin composition
- silica particles
- treated silica
- curing agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】シリカ粒子の表面にプラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理が施されたシリカ粒子100質量部に対して、エポキシ樹脂及び硬化剤を含む配合物30〜40質量部を混合する工程とを備えることを特徴とする表面処理シリカ粒子の製造方法を用いる。
【選択図】なし
Description
限定されるものではない。
本実施例において、表面処理シリカ粒子を調製する際に用いる各成分について説明する。
SO−C1:株式会社アドマテックス製のSO−C1(平均粒子径:0.25μm、比表面積:17.4m2/g)
(エポキシ樹脂)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂:ジャパンエポキシレジン株式会社製のエピコート828(エポキシ当量:189)
(硬化剤)
酸無水物系硬化剤:新日本理化株式会社製のリカシッドMH−700(4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸=70/30)
[調製方法]
まず、上記シリカ粒子に対して、パナソニック電工株式会社製の大気圧プラズマクリーニング装置「Aiplasma」を用い、原料ガスとしてアルゴンガスを用い、出力500W、温度25℃の条件下で、30秒間、アルゴンプラズマを照射した。その後、表1に記載の配合割合となるように、プラズマ処理を施したシリカ粒子に、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤とを質量比で18:16で混合した配合物を、混合させることによって、表面処理シリカ粒子Aを調製した。
本実施例において、エポキシ樹脂組成物を調製する際に用いる各成分について説明する。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂:ジャパンエポキシレジン株式会社製のエピコート828(エポキシ当量:189)
(硬化剤)
酸無水物系硬化剤:新日本理化株式会社製のリカシッドMH−700(4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸=70/30)
(硬化促進剤)
イミダゾール系硬化促進剤:1−ベンジル−2−メチルイミダゾール(1B2MZ)
(無機充填材)
上記表面処理シリカ粒子A〜F、未処理のシリカ粒子
[調製方法]
表2に記載の配合割合となるように、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、及び無機充填材の各成分を、ホモディスパ(プライミクス株式会社製)を用いて、混合して、液状のエポキシ樹脂組成物(実施例1〜3、及び比較例1〜4)を作製した。なお、表2の配合割合は、表面処理シリカ粒子に含有されているエポキシ樹脂及び硬化剤を含んだ量である。
有機基板に10mm□のICチップを、それらの間隔(ギャップ)が50μmとなるように、およそ2000ピンのはんだバンプで接合した評価用ツールを用いて、流動性試験を行った。具体的には、まず、予め100℃に加温した評価用ツールのICチップのいずれか1辺にエポキシ樹脂組成物を約5mL滴下した。そして、毛細管現象により、エポキシ樹脂組成物を滴下した辺に対向する辺までエポキシ樹脂組成物が到達するまでの時間を測定した。その測定した時間によって、下記基準により評価した。
△:30秒以上60秒未満であり、
×:60秒以上である。
エポキシ樹脂組成物を、500メッシュ(約30μm)の金網で篩い、投入前後のエポキシ樹脂組成物の重量を測定し、その差分から、金網を通過できなかった無機充填材の重量を算出した。そして、その金網を通過できなかった無機充填材の重量と仕込み量とから、エポキシ樹脂組成物中の無機充填材の篩通過率を算出した。その篩通過率によって、下記基準により評価した。
△:50%以上80%未満であり、
×:50%未満である。
Claims (9)
- シリカ粒子の表面にプラズマ処理を施す工程と、
前記プラズマ処理が施されたシリカ粒子100質量部に対して、エポキシ樹脂及び硬化剤を含む配合物30〜40質量部を混合する工程とを備えることを特徴とする表面処理シリカ粒子の製造方法。 - 前記プラズマ処理が、アルゴンプラズマを500W以上の条件下で30秒間以上、未処理のシリカ粒子に照射する処理である請求項1に記載の表面処理シリカ粒子の製造方法。
- 前記配合物が、前記エポキシ樹脂及び前記硬化剤からなる請求項1又は請求項2に記載の表面処理シリカ粒子の製造方法。
- 前記シリカ粒子の平均粒子径が、0.1〜0.5μmである請求項1〜3のいずれか1項に記載の表面処理シリカ粒子の製造方法。
- 前記シリカ粒子が、球状である請求項1〜4のいずれか1項に記載の表面処理シリカ粒子の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面処理シリカ粒子の製造方法によって得られることを特徴とする表面処理シリカ粒子。
- エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、及び無機充填材を含有する室温で液状のエポキシ樹脂組成物であって、
前記無機充填材が、請求項6に記載の表面処理シリカ粒子であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 - 前記無機充填材の含有量が、前記エポキシ樹脂組成物に対して、60質量%以上である請求項7に記載のエポキシ樹脂組成物。
- 請求項7又は請求項8に記載のエポキシ樹脂組成物で半導体素子を封止して得られることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009125938A JP5449860B2 (ja) | 2009-05-26 | 2009-05-26 | 表面処理シリカ粒子の製造方法、表面処理シリカ粒子、エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009125938A JP5449860B2 (ja) | 2009-05-26 | 2009-05-26 | 表面処理シリカ粒子の製造方法、表面処理シリカ粒子、エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010275334A true JP2010275334A (ja) | 2010-12-09 |
JP5449860B2 JP5449860B2 (ja) | 2014-03-19 |
Family
ID=43422608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009125938A Active JP5449860B2 (ja) | 2009-05-26 | 2009-05-26 | 表面処理シリカ粒子の製造方法、表面処理シリカ粒子、エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5449860B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012180485A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用樹脂組成物、半導体装置およびその製造方法 |
WO2013111345A1 (ja) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
WO2014106768A1 (en) | 2013-01-03 | 2014-07-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrophilized silicone particles and making method |
JP2016056280A (ja) * | 2014-09-09 | 2016-04-21 | 味の素株式会社 | 表面処理無機充填材、該無機充填材の製造方法、および該無機充填材を含有する樹脂組成物 |
US11101414B2 (en) | 2018-11-30 | 2021-08-24 | Nichia Corporation | Method for manufacturing wavelength conversion member, and method for manufacturing light emitting device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04370159A (ja) * | 1991-03-19 | 1992-12-22 | Matsushita Electric Works Ltd | 複合充填材及びこの複合充填材を配合したエポキシ樹脂組 成物 |
JP2000336247A (ja) * | 1999-05-27 | 2000-12-05 | C I Kasei Co Ltd | 液状エポキシ樹脂封止材 |
JP2005002272A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体封止材用カーボンブラック |
-
2009
- 2009-05-26 JP JP2009125938A patent/JP5449860B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04370159A (ja) * | 1991-03-19 | 1992-12-22 | Matsushita Electric Works Ltd | 複合充填材及びこの複合充填材を配合したエポキシ樹脂組 成物 |
JP2000336247A (ja) * | 1999-05-27 | 2000-12-05 | C I Kasei Co Ltd | 液状エポキシ樹脂封止材 |
JP2005002272A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体封止材用カーボンブラック |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012180485A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体封止用樹脂組成物、半導体装置およびその製造方法 |
WO2013111345A1 (ja) * | 2012-01-23 | 2013-08-01 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP5413522B1 (ja) * | 2012-01-23 | 2014-02-12 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
WO2014106768A1 (en) | 2013-01-03 | 2014-07-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrophilized silicone particles and making method |
US9434819B2 (en) | 2013-01-03 | 2016-09-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrophilized silicone particles and making method |
JP2016056280A (ja) * | 2014-09-09 | 2016-04-21 | 味の素株式会社 | 表面処理無機充填材、該無機充填材の製造方法、および該無機充填材を含有する樹脂組成物 |
US11101414B2 (en) | 2018-11-30 | 2021-08-24 | Nichia Corporation | Method for manufacturing wavelength conversion member, and method for manufacturing light emitting device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5449860B2 (ja) | 2014-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5354753B2 (ja) | アンダーフィル材及び半導体装置 | |
KR20160091886A (ko) | 에폭시 수지 조성물, 반도체 봉지제 및 반도체 장치 | |
JP5449860B2 (ja) | 表面処理シリカ粒子の製造方法、表面処理シリカ粒子、エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置 | |
JP2004210901A (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 | |
JP2009149820A (ja) | アンダーフィル用液状熱硬化性樹脂組成物とそれを用いた半導体装置 | |
JP2006206827A (ja) | 液状封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH1129624A (ja) | 半導体封止用液状エポキシ樹脂組成物 | |
JP2008106181A (ja) | エポキシ樹脂組成物と半導体装置 | |
JP2006169407A (ja) | 半導体封止用樹脂組成物 | |
JP2012082281A (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2012012431A (ja) | 液状樹脂組成物および半導体装置 | |
JP5557158B2 (ja) | フリップチップ接続用アンダーフィル剤、及びそれを用いる半導体装置の製造方法 | |
JP2010144144A (ja) | アンダーフィル用液状エポキシ樹脂組成物、及び半導体装置 | |
JP2007314702A (ja) | エポキシ樹脂組成物と樹脂封止半導体装置 | |
JP6388228B2 (ja) | 半導体封止用液状エポキシ樹脂組成物とそれを用いた半導体装置 | |
JPWO2005080502A1 (ja) | アンダーフィル用液状エポキシ樹脂組成物および同組成物を用いて封止した半導体装置 | |
JP4858431B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4463030B2 (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 | |
WO2021079677A1 (ja) | 封止用樹脂組成物、及び半導体装置 | |
JP2013253183A (ja) | 先供給型液状半導体封止樹脂組成物 | |
JP2013107993A (ja) | 半導体封止用液状樹脂組成物とそれを用いた半導体装置 | |
JP5275297B2 (ja) | 液状エポキシ樹脂組成物及び該液状エポキシ樹脂組成物を硬化させた硬化物で封止された半導体装置 | |
JP2002309067A (ja) | 封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP3915545B2 (ja) | 封止用エポキシ樹脂組成物及び片面封止型半導体装置 | |
JP5226957B2 (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110323 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20120111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130219 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130416 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131218 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5449860 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |