JP2010272100A - タッチパネルの位置検出方法及びタッチパネル装置 - Google Patents

タッチパネルの位置検出方法及びタッチパネル装置 Download PDF

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Abstract

【課題】複数点入力可能な５線式のタッチパネルを提供する。
【解決手段】第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極を有し、上部導電膜と下部導電膜とは対向して設けられ、上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルの位置検出方法において、導電領域において接触している状態と接触していない状態とを判別する接触状態判別工程と、接触状態判別工程において、接触していない状態と判断された場合には、接触していない状態となってからのタッチオフ時間を測定し、タッチオフ時間が所定時間よりも短いか否か判別するタッチオフ時間判別工程と、タッチオフ時間判別工程において、タッチオフ時間が所定時間よりも短い場合には、接触状態が継続しているものとする。
【選択図】図１１

Description

本発明は、タッチパネルの位置検出方法及びタッチパネル装置に関する。
タッチパネルは、ディスプレイに直接入力をすることが可能な入力デバイスであり、ディスプレイの前面に設置して使用される。このタッチパネルは、ディスプレイにより視覚的にとらえた情報に基づき、直接入力することができることから、様々な用途において普及している。
このようなタッチパネルとしては、抵抗膜方式が広く知られている。抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電膜が形成された上部電極基板及び下部電極基板において、各々の透明導電膜同士が対向するように設置し、上部電極基板の一点に力を加えることにより各々の透明導電膜同士が接触し、力の加えられた位置の位置検出を行うことができるものである。
抵抗膜方式のタッチパネルは、４線式と５線式とに大別することができる。４線式は、上部電極基板又は下部電極基板のどちらか一方にＸ軸の電極が設けられており、他方にＹ軸の電極が設けられている。一方、５線式は、下部電極基板にＸ軸の電極及びＹ軸の電極がともに設けられており、上部電極基板は、電圧を検出するためのプローブとして機能するものである（例えば、特許文献１、２）。
具体的に、図１及び図２に基づき５線式のタッチパネルについて説明する。図１は、５線式のタッチパネルの斜視図であり、図２は、５線式のタッチパネルの断面の概要図である。
５線式のタッチパネル２００は、上部電極基板となる一方の面に透明導電膜２３０の形成されたフィルム２１０と、下部電極基板となる一方の面に透明導電膜２４０の形成されたガラス２２０からなり、透明導電膜２３０及び透明導電膜２４０が対向するようにスペーサ２５０を介し設置されている。５線式のタッチパネル２００と不図示のホストコンピュータとはケーブル２６０により電気的に接続されている。
このような構成の５線式のタッチパネル２００では、図３（ａ）に示すように、透明導電膜２４０の端部の４辺に設けられた電極２４１、２４２、２４３、２４４により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に交互に電圧を印加し、透明導電膜２３０と透明導電膜２４０とが、接触位置Ａ点において接触することにより、図３（ｂ）に示すように、透明導電膜２３０を介し電位Ｖａを検出し、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の各々の座標位置を検出する方式である。
ところで、上述した５線式のタッチパネルでは、一点における接触位置は検出することは可能であるが、複数点が同時に接触した場合には位置検出をすることができない。
即ち、図４（ａ）に示すように、透明導電膜２４０の４辺に設けられた電極２４１、２４２、２４３、２４４により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に交互に電圧を印加した場合において、透明導電膜２３０と透明導電膜２４０とが接触位置Ａ点及びＢ点の２点において接触すると、Ａ点とＢ点の間の中間点における押下されていない一点の座標位置が検出されてしまう。これは、図４（ｂ）に示すように、電位検出による位置検出方法であることから、接触位置Ａ点及びＢ点の二点で接触した場合であっても、透明導電膜２３０を介し検出される電位はＶｃの１つだけであるため、接触位置が一点であるものと判断してしまうためである。
特開２００４−２７２７２２号公報 特開２００８−２９３１２９号公報
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、複数の接触位置において同時に接触した場合においても、各々の接触位置を検出することができるとともに、接触位置が移動した場合においても、位置検出が可能なタッチパネルの位置検出方法及びタッチパネル装置を提供することを目的とするものである。
本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルの位置検出方法において、前記導電領域において接触している状態と接触していない状態とを判別する接触状態判別工程と、前記接触状態判別工程において、前記接触していない状態と判断された場合には、前記接触していない状態となってからのタッチオフ時間を測定し、前記タッチオフ時間が所定時間よりも短いか否か判別するタッチオフ時間判別工程と、前記タッチオフ時間判別工程において、前記タッチオフ時間が前記所定時間よりも短い場合には、接触状態が継続しているものとする接触処理工程と、を有することを特徴とする。
また、本発明は、前記接触状態判別工程において、前記接触していない状態と判断された場合には、前記接触している状態から前記接触していない状態に変化した後においても、接触している状態を示す信号を一定時間出力することを特徴とする。
また、本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルの位置検出方法において、隣接する２つの前記導電領域において接触しているか否かを判別する接触領域判別工程と、前記接触領域判別工程において、前記隣接する２つの導電領域において接触しているものと判断された場合には、前記隣接する２つの導電領域において接触している各々２つの接触位置の位置座標を算出する座標算出工程と、前記２つの接触位置の位置座標より、前記２つの接触位置の位置座標間の位置間隔を算出し、所定距離と比較する比較工程と、前記位置間隔が、前記所定距離よりも短い場合には、前記２つの接触位置の位置座標の平均値を算出し、前記平均値を１つの接触位置の位置座標とする座標生成工程と、を有することを特徴とする。
また、本発明は、前記複数に分割された導電領域は、前記上部導電膜を縦方向に２分割以上、横方向に２分割以上に分割することにより形成されるものであることを特徴とする。
また、本発明は、前記下部導電膜と前記上部導電膜との複数の接触位置における各々の座標位置を検出することを特徴とする。
また、本発明は、前記複数に分割された導電領域間の幅は、１００μｍ以下であることを特徴とする。
また、本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルの位置検出方法において、前記複数に分割された導電領域ごとに順次接触位置を検出する第１の接触位置検出工程と、前記第１の接触位置検出工程の後、前記複数に分割された導電領域ごとに順次接触位置を検出する第２の接触位置検出工程と、前記第１の接触位置検出工程において検出された第１の接触位置の中心から所定の領域内に、前記第２の接触位置検出工程において検出された第２の接触位置が存在している場合、前記第１の接触位置から前記第２の接触位置に接触位置が移動したものと判断する処理工程と、を有することを特徴とする。
また、本発明は、前記処理工程において、前記第２の接触位置が前記領域内に存在していない場合には、前記第２の接触位置は、新たにタッチパネルに接触したものであるものと判断することを特徴とする。
また、本発明は、前記処理工程において、前記領域内に前記第２の接触位置が存在していない場合には、前記第１の接触位置における接触は、前記タッチパネルより離れたものであるものと判断することを特徴とする。
また、本発明は、前記処理工程において、前記第１の接触位置が複数存在しており、前記複数の第１の接触位置の中心から所定の領域内に存在していない第２の接触位置が存在する場合、前記複数の第１の接触位置のうち、前記接触位置が移動したものと判断されていないものであって、前記第２の接触位置に最も近い第１の接触位置から前記第２の接触位置に移動したものと判断することを特徴とする。
また、本発明は、前記処理工程において、前記第１の接触位置の中心から所定の領域内に存在していない第２の接触位置が複数存在する場合、前記第１の接触位置において、前記接触位置が移動したものと判断されていない第１の接触位置と最も近い前記第２の接触領域を前記第１の接触位置から前記第２の接触位置に移動したものと判断することを特徴とする。
また、本発明は、前記領域は、第１の領域であって、前記第１の領域内に前記第２の接触位置が存在していない場合であって、前記第１の領域よりも広い前記第１の接触位置の中心から所定の第２の領域内に、前記第２の接触位置が存在している場合には、前記第１の接触位置から前記第２の接触位置に接触位置が移動したものと判断することを特徴とする。
また、本発明は、前記第２の接触位置が、前記第１の領域内には存在せず、前記第２の領域内に複数存在している場合には、前記第１の接触位置の軌跡より求められる基準ベクトルとなす角度が最も小さい第２の接触位置を前記第１の接触位置より接触位置が移動したものと判断することを特徴とする。
また、本発明は、前記第２の接触位置が前記第２の領域内に存在していない場合には、前記第２の接触位置は、新たにタッチパネルに接触したものであるものと判断することを特徴とする。
また、本発明は、前記第２の領域内に前記第２の接触位置が存在していない場合には、前記第１の接触位置における接触は、前記タッチパネルより離れたものであるものと判断することを特徴とする。
また、本発明は、前記複数に分割された導電領域ごとに順次接触位置を検出する接触位置の検出を連続して行うものであって、前記第１の接触位置検出工程を前回の接触位置検出工程とし、前記第２の接触位置検出工程を今回の接触位置検出工程とし、前記第１の接触位置を前回の接触位置とし、前記第２の接触位置を今回の接触位置としたものであることを特徴とする。
また、本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルと、前記タッチパネルを駆動する駆動回路と、を有するタッチパネル装置において、前記導電領域において、接触している状態から接触していない状態となった場合に、前記接触している状態を示す信号を一定時間延ばして出力するタッチオフ検出処理部を前記駆動回路内に有することを特徴とする。
また、本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルと、前記タッチパネルを駆動する駆動回路と、を有するタッチパネル装置において、前記隣接する２つの導電領域において接触している場合には、前記２つの導電領域における２つの接触位置の位置座標の平均値を算出し、前記平均値を１つの接触位置の位置座標とする隣接導電領域処理部を前記駆動回路内に有することを特徴とする。
また、本発明は、前記複数に分割された導電領域は、前記上部導電膜を縦方向に２分割以上、横方向に２分割以上に分割することにより形成されるものであることを特徴とする。
また、本発明は、前記複数に分割された導電領域間の幅は、１００μｍ以下であることを特徴とする。
本発明によれば、複数の接触位置において同時に接触した場合においても、各々の接触位置を検出することができるとともに、接触位置が移動した場合においても、位置検出が可能なタッチパネルの位置検出方法及びタッチパネル装置を提供することができる。
従来の５線式のタッチパネルの斜視図 従来の５線式のタッチパネルの断面概要図 従来の５線式のタッチパネルにおける座標検出方法の説明図（１） 従来の５線式のタッチパネルにおける座標検出方法の説明図（２） 第１の実施の形態におけるタッチパネルの上部電極基板における構造図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの下部電極基板における構造図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの断面図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの説明図 第１の実施の形態におけるタッチパネル装置の構成図 第１の実施の形態におけるタッチオフ処理の説明図 第１の実施の形態におけるタッチオフ処理のフローチャート 第１の実施の形態におけるタッチオフ処理を説明するためのタイムチャート 第１の実施の形態における隣接導電領域処理の説明図 第１の実施の形態における隣接導電領域処理のフローチャート 第２の実施の形態におけるタッチパネル装置の構成図 第２の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法のフローチャート 第２の実施の形態におけるタッチパネルの説明図 第２の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法の説明図（１） 第２の実施の形態におけるＩＤ割り当て処理のフローチャート 第２の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法の説明図（２） 第２の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法の説明図（３） 第２の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法の説明図（４） 第２の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法の説明図（５） 第３の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法のフローチャート 第３の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法の説明図（１） 第３の実施の形態におけるＩＤ割り当て処理２のフローチャート 第３の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法の説明図（２） 第３の実施の形態におけるタッチパネルの位置検出方法の説明図（３）
本発明を実施するための形態について、以下に説明する。
〔第１の実施の形態〕
（タッチパネル）
第１の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図５は本実施の形態におけるタッチパネルの上部電極基板における構造図であり、図６は本実施の形態におけるタッチパネルの下部電極基板における構造図であり、図７は本実施の形態におけるタッチパネルの断面図であり、図８は本実施の形態におけるタッチパネルの説明図である。
本実施の形態におけるタッチパネルは、フィルム１１の一方の面に透明導電膜１２が形成された略長方形状の上部電極基板１０と、上部電極基板１０と略同じ形状のガラス基板２１の一方の面に透明導電膜２２が形成された下部電極基板２０により構成される。
上部電極基板１０と下部電極基板２０とは、上部電極基板１０における透明導電膜１２と下部電極基板２０における透明導電膜２２とが対向するように、スペーサ３１等を介し、接着剤または両面テープにより接合されている。
上部電極基板１０における透明導電膜１２は、短手方向である縦方向に４分割、長手方向である横方向に８分割されており全体が３２分割されている。透明導電膜１２を各々の導電領域の分割は、導電領域となる領域間の透明導電膜１２を除去することにより行われる。これにより、分割された導電領域間では電気的に絶縁することができる。各々の分割された透明導電膜１２は、上部電極基板１０の短手方向の両端に設けられた引出電極部１３における各々の引出電極と接続されており、上部電極基板１０の周囲に配線され、上部電極基板１０の長手方向の一方の端部においてフレキシブル基板１４と接続されている。
また、下部電極基板２０は、図８に示すように下部電極基板２０を構成する４辺の端部において、透明導電膜２２上に４つの電極２３、２４、２５、２６が設けられており、これら４つの電極２３、２４、２５、２６は引出線により、下部電極基板２０の周囲より引出され、図６に示すように、下部電極基板２０の長手方向の一方の端部においてフレキシブル基板２７と接続されている。
フレキシブル基板１４とフレキシブル基板２７はともに不図示の制御回路に接続されており、更に不図示のホストコンピュータに接続されている。尚、透明導電膜１２及び透明導電膜２２を構成する材料としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）にＡｌまたはＧａ等が添加された材料、ＳｎＯ２（酸化スズ）にＳｂ等が添加された材料等が挙げられる。
また、フィルム１１は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート：polyethylene terephthalate）、ＰＣ（ポリカーボネート：Polycarbonate）及び、可視領域において透明の樹脂材料が挙げられる。更に、ガラス基板２１に代えて、樹脂基板を用いてもよい。
本実施の形態におけるタッチパネルは、上部電極基板１０を指等により押すことにより、上部電極基板１０における透明導電膜１２と、下部電極基板２０における透明導電膜２２とが接触し、接触した位置における電圧を検知することにより、上部電極基板１０と下部電極基板２０との接触位置、即ち、上部電極基板１０が指等により押された位置が特定される。具体的には、上部電極基板１０において、分割された透明導電膜１２の各々について時分割による走査がされており、接触したタイミングにより接触位置が含まれる導電領域を特定することができる。尚、下部電極基板２０における透明導電膜２２上の４辺に設けられた電極２３、２４、２５、２６により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に交互に電圧が印加されている。
このように、上部電極基板１０において透明導電膜１２を分割し導電領域を形成することにより、上部電極基板１０と下部電極基板２０とが接触した接触位置が複数であっても、分割された透明導電膜１２の導電領域ごとに接触位置を特定することができるため、各々の接触位置を独立して検出することが可能である。
即ち、図８に示すように、上部電極基板１０における透明導電膜１２と下部電極基板２０における透明導電膜２２との接触位置が、矢印Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅに示すように５つの場合であっても、各々の接触位置は、分割された透明導電膜１２の領域が異なるため、各々独立して接触位置が検出することが可能なのである。具体的には、上部電極基板１０と下部電極基板２０との接触位置が矢印Ａに示す位置である場合、透明導電膜１２の導電領域１２ａにおいて接触しており、接触位置が矢印Ｂに示す位置である場合、透明導電膜１２の導電領域１２ｂにおいて接触しており、接触位置が矢印Ｃに示す位置である場合、透明導電膜１２の導電領域１２ｃにおいて接触しており、接触位置が矢印Ｄに示す位置である場合、透明導電膜１２の導電領域１２ｄにおいて接触しており、接触位置が矢印Ｅに示す位置である場合、透明導電膜１２の導電領域１２ｅにおいて接触しているが、透明導電膜１２の導電領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅは相互に絶縁された異なる領域であることから、各々を独立して検出することができる。よって、上部電極基板１０と下部電極基板２０との接触位置が５つの場合であっても、各々の接触位置を特定することが可能である。
以上より、透明導電膜１２と透明導電膜２２との接触位置が複数であっても、接触した導電領域を特定することができるとともに、透明導電膜２２における電位分布を検出することにより、より正確に座標位置も検出することが可能である。また、透明導電膜１２と透明導電膜２２との接触位置を移動させた場合においても、接触位置が移動したことを認識することができるとともに、透明導電膜２２における電位分布を検出することにより、移動した接触位置の位置座標を検出することも可能である。
尚、透明導電膜１２において各々の導電領域は、各々の導電領域の周辺部に沿って透明導電膜１２を除去することにより形成する。これにより、隣接する導電領域との間において絶縁性を保つことが可能である。
透明導電膜１２を除去する方法としては、透明導電膜１２が除去される領域にレーザ光を照射し、レーザ光の照射された部分の透明導電膜１２を熱又はアブレーションにより除去する方法、透明導電膜１２上にフォトレジストを塗布し、露光装置により露光、現像を行うことにより導電領域となる領域上にレジストパターンを形成し、ドライエッチング又はウエットエッジングを行うことにより、レジストパターンの形成されていない領域の透明導電膜１２を除去する方法、更には、透明導電膜１２が除去される領域上にエッチングペーストを印刷等し除去する方法等が挙げられる。好ましくは、レーザ光の照射により透明導電膜１２を除去する方法が好ましい。
尚、導電領域を形成するために除去される透明導電膜１２の幅は、１ｍｍ以下であることが好ましい。タッチパネルにおいては、形成される導電領域の幅が広くなると、検出不能領域が多くなってしまい、タッチパネルとしての機能を十分に発揮することができない。よって、タッチパネルに接触が想定されるものが指またはペン等であり、ペン等の先端は半径０．８ｍｍ程度であることから、透明導電膜１２が除去される領域の幅が１ｍｍ以下であれば、タッチパネルとしての機能に支障をきたさないものと考えられるからである。本実施の形態では、よりタッチパネルの視認性を高めるとともに、機能を高めるため透明導電膜１２が除去される領域の幅は約１００μｍで形成されている。
（タッチパネルの位置検出方法及びタッチパネル装置）
図９に示すように、本実施の形態における図７に示すタッチパネル１００は、フレキシブル基板１４及び２７により、駆動回路１３０に接続されている。駆動回路１３０は、タッチパネル１００に電圧を印加するとともに、検出された電圧値等に基づき接触位置の位置座標を算出する機能を有している。駆動回路１３０には、検出回路１４０とＭＣＵ（Micro Controller Unit）１５０を有しており、ＭＣＵ１５０の内部にはタッチオフ処理部１５１及び隣接導電領域処理部１５２を有している。
（タッチオフ検出処理）
本実施の形態におけるタッチパネル１００は、上述した等に短手方向である縦方向に４分割、長手方向である横方向に８分割されており、複数の接触位置の検出を行うことが可能である。
従って、図１０に示すように、タッチパネル１００の表面における複数の導電領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃにおいて、指先等を接触させて移動させた場合、本来であるならば、指先等の移動の軌跡は連続したものとなるのに対し、導電領域が分割されているため、導電領域間で途切れた軌跡Ｓとして検出される。
具体的には、軌跡Ｓは、導電領域１１２ａと導電領域１１２ｂとの間及び、導電領域１１２ｂと導電領域１１２ｃとの間で途切れている。このため、そのまま情報を出力すると、導電領域間で途切れた軌跡となり、実際の指先の移動した軌跡とは異なる軌跡となってしまう。
本実施の形態では、ＭＣＵ１５０の内部におけるタッチオフ処理部１５１において、タッチオフ検出処理を行うことにより、導電領域間において途切れることのない軌跡を出力することができるものである。
図１１に基づき、このタッチオフ検出処理について説明する。
最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）において、タッチオフ状態であるか否かが判断される。具体的には、タッチパネル１００において指先等が接触しているとの情報が駆動回路１３０に伝達されたか否かが判断される。指先等がタッチパネル１００の導電領域において接触している場合、例えば、導電領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ等において接触している場合には、タッチパネル１００に指先等が接触している旨、即ちタッチオン状態である旨が駆動回路１３０に伝達される。一方、導電領域間において接触している場合、例えば、導電領域１１２ａと導電領域１１２ｂとの間、導電領域１１２ｂと導電領域１１２ｃとの間において接触している場合には、タッチパネル１００に指先等が接触していない旨、即ち、タッチオフ状態である旨が駆動回路１３０に伝達される。また、実際にタッチパネル１００に指先等が接触していない場合においても、タッチパネル１００に指先等が接触していない旨、即ち、タッチオフ状態である旨が駆動回路１３０に伝達される。このため、指先等による接触位置が導電領域間にある場合においてもタッチオフ状態である旨が駆動回路１３０に伝達される。ここで、タッチオフ状態であると判断された場合には、ステップ１０４に移行する。一方、タッチオフ状態ではないと判断された場合、即ち、導電領域において指先等が接触していると判断された場合には、ステップ１０８に移行する。
次に、ステップ（Ｓ１０４）において、タッチオフ時間が所定時間以上であるか否かが判断される。具体的には、タッチオフ検出処理部１５１内に設けられた不図示のタイマにより、タッチオフの状態となってからの時間をタッチオフ時間として計測しており、この時間が所定時間以上であるか否かが判断される。即ち、タッチオフ時間が所定時間に満たない場合には、導電領域間において指先等が接触している可能性が高く、また、タッチオフ時間が所定時間以上の場合には、導電領域間において指先等が接触している可能性が低く、実際にタッチパネル１００より指先等が離されている可能性が高い。よって、このような観点に基づき判断がなされる。所定時間はタッチパネル１００における導電領域間の間隔や、使用状態等により任意に定めることができるが、本実施の形態においては２０〜１００ｍｓである。タッチオフ時間が所定時間以上であるものと判断された場合には、ステップ１０６に移行する。一方、タッチオフ時間が所定時間に満たないものと判断された場合には、ステップ１０２に移行し、再度タッチオフ状態にあるか否かが判断される。
次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）において、タッチオフであることが確定する。具体的には、ステップ１０４において、タッチオフ時間が所定時間以上である旨が判断されており、この場合、指先が導電領域間に存在している可能性が低く、指先等がタッチパネル１００より離れている可能性が高いことから、タッチパネル１００より指先等が離れたものと判断され、タッチオフであることが確定し、タッチオフ検出処理は終了する。
一方、ステップ１０８（Ｓ１０８）において、タッチオンであることが確定する。具体的には、タッチオン状態が継続していることが確定し、タッチオフ検出処理は終了する。
尚、本実施の形態においては、タッチオフ状態となってから、タッチオン状態となるまでの間に、タッチオフとならないように、即ち、指先の移動した軌跡が途切れないように、タッチオフ状態の判断がされた後、一定時間タッチオン状態を遅延させた信号を発生させている。
このことを概念的に図１２に基づき説明する。図１２（ａ）は、実際の指先等によるタッチオン、タッチオフを示すものである。図１２（ａ）に示すように、時間Ａにおいてタッチオン状態からタッチオフ状態となった場合であっても、図１２（ｂ）に示すように、タッチオフ状態となった後においても遅延時間Ｔだけ遅延させたタッチオン状態の信号を出力する。これにより、時間Ａから時間Ｂの間は、タッチオフ状態であるにもかかわらず、タッチオン状態である旨の信号、即ち、指先等がタッチパネル１００に接触している旨の信号が発せられる。この遅延時間Ｔは、前述のステップ１０４における所定時間以上である。
このように遅延時間Ｔを設けることにより、図１２（ｃ）に示すように、時間Ｃにおいてタッチオフ状態となり、時間Ｄにおいてタッチオン状態となった場合であっても、時間Ｃと時間Ｄとの間隔Ｋが、遅延時間Ｔよりも短い時間であれば、タッチオン状態が継続している信号が出力され、図１２（ｄ）に示すように、指先等が複数の導電領域を移動した場合においても、指先等の移動した軌跡が途切れることはない。
（隣接導電領域処理）
また、本実施の形態におけるタッチパネル１００は、導電領域間における透明導電膜は除去されているため、隣接する導電領域において２点で接触している旨の信号が検出された場合には、２つの導電領域において指先等が接触しているのか、２つの導電領域間の１点で接触しているのか区別することができない。
即ち、図１３に示すように、指先等１１３が導電領域１１２ｄと導電領域１１２ｅとの間、即ち、導電膜除去領域１１４における接触位置Ｎで接触した場合、導電領域１１２ｄの接触位置Ｍ１と、導電領域１１２ｅの接触位置Ｍ２との双方において接触している旨の情報が伝達されるため、接触位置は２点であるものと判断されてしまう。
よって、本実施の形態では、ＭＣＵ１５０の内部に、隣接導電領域処理部１５２を設けることにより、上述のような場合に対応することができる。
図１４に基づき、隣接導電領域処理について説明する。
最初に、ステップ２０２（Ｓ２０２）において、隣接した導電領域の双方がタッチオン状態にあるか否かが判断される。具体的には、指先等による接触により隣接している導電領域の双方が、タッチオン状態となっているか否かが判断される。隣接した導電領域の双方がタッチオン状態である場合には、ステップ２０４に移行する。一方、隣接した導電領域の双方がタッチオン状態でない場合には、隣接導電領域処理を実質的に行う必要がないため終了する。
次に、ステップ２０４（Ｓ２０４）において、２点の接触位置の位置座標を算出する。具体的には、本実施の形態におけるタッチパネル１００は、複数の導電領域に分割されており、各々の導電領域における接触位置の位置座標を算出することが可能である。よって、導電領域１１２ｄにおける接触位置Ｍ１の位置座標と、導電領域１１２ｅにおける接触位置Ｍ２の位置座標とを各々算出する。
次に、ステップ２０６（Ｓ２０６）において、接触位置が所定距離以下であるか否かが判断される。具体的には、ステップ２０４において算出した接触位置Ｍ１の位置座標と接触位置Ｍ２の位置座標に基づき、接触位置Ｍ１と接触位置Ｍ２との接触間隔を隣接導電領域処理部１５２において算出する。接触位置Ｍ１と接触位置Ｍ２との接触距離が所定距離以下である場合には、導電領域１１２ｄと導電領域１１２ｅとの間における１点で接触している可能性が高い。一方、接触位置Ｍ１と接触位置Ｍ２との接触距離が所定距離を超える場合には、導電領域１１２ｄにおける接触位置Ｍ１と導電領域１１２ｅにおける接触位置Ｍ２との２点で接触している可能性が高い。よって、接触間隔が所定距離以下であると判断された場合には、ステップ２０８に移行する。一方、接触間隔が所定距離以下ではないものと判断された場合には、２点で接触しているものとされるため終了する。
次に、ステップ２０８（Ｓ２０８）において、２点の平均値を１点の位置座標とする処理が行われる。具体的には、隣接導電領域処理部１５２において接触位置Ｍ１の位置座標と接触位置Ｍ２の位置座標との平均値が算出される。この算出された平均値である座標位置が、接触位置Ｎの位置座標として出力されて終了する。
以上により、隣接する導体領域間における１点で接触した場合において、隣接する導体領域の２点において接触しているものとして検出された場合であっても、実際に接触している１点の接触位置の位置座標を得ることが可能である。
尚、ステップ２０６における所定距離は、導体領域間の距離に応じて定められる。具体的には、所定距離は、導電領域と導電領域との間隔、即ち、導電領域を形成するために除去される導電膜除去領域１１４の幅Ｐ以上の値で設定される。また、この所定距離は、タッチパネル１００に接触する対象物によっても異なるため、使用環境や使用状態に応じて定められる。
〔第２の実施の形態〕
次に、第２の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第１の実施の形態におけるタッチパネルにおいて接触位置が移動した場合における接触位置の位置座標の決定方法に関するものである。
本実施の形態において用いられるタッチパネル装置としては、図１５に示すように、タッチパネル１００は、フレキシブル基板１４及び２７により、駆動回路２３０に接続されている。駆動回路２３０は、タッチパネル１００に電圧を印加するとともに、検出された電圧値等に基づき接触位置の位置座標を算出する機能を有している。駆動回路２３０には、検出回路２４０とＭＣＵ２５０を有しており、ＭＣＵ２５０の内部にはメモリ２５１、処理部２５２及び出力部２５３を有している。尚、本実施の形態において用いられるＭＣＵは、第１の実施の形態におけるＭＣＵにおいて、上述した機能を有したものであってもよい。
図１６に基づき本実施の形態について説明する。本実施の形態において用いるタッチパネルは、図１７に示すように縦４分割、横８分割されており、タッチパネル全部で３２分割されている。この分割された領域には、図１７に示すように分割された領域（エリア）ごとに順番に番号が付されている。
最初に、ステップ３０２（Ｓ３０２）において、図１７に示すエリア１が選択される。具体的には、カウンター等を設けて、例えば、カウンターＮ＝１と設定し、エリア１における接触の有無等の情報を検出する。
次に、ステップ３０４（Ｓ３０４）において、選択されたエリアにおいて接触されているか否かが判断される。選択されたエリアにおいて、指等が接触している場合、即ち、接触位置が存在している場合には、ステップ３０６に移行する。一方、選択されたエリアにおいて、指等が接触していない場合には、ステップ３１８に移行する。
次に、ステップ３０６（Ｓ３０６）において、指等が接触している接触位置の位置座標が検出される。具体的には、電位を検出することにより、接触位置の位置座標が検出される。
次に、ステップ３０８（Ｓ３０８）において、前回の測定時において接触位置が存在していたか否かが判断される。具体的には、前回の測定時においてタッチパネルに指等が接触していたか否かが判断される。前回の測定時において接触位置が存在していた場合には、ステップ３１２に移行する。一方、前回の測定時において接触位置が存在していなかった場合には、ステップ３１０に移行する。
次に、ステップ３１０（Ｓ３１０）において、新たな接触位置としてＩＤ：１が割り当てられ、接触位置の位置座標としてメモリ２５１に保存され、出力部２５３より出力される。
次に、ステップ３１２（Ｓ３１２）において、ステップ３０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした所定の領域内に存在しているか否かが判断される。ステップ３０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした所定の領域内に存在しているものと判断された場合には、ステップ３１６に移行する。一方、前回の接触位置の位置座標を中心とした所定の領域内には存在していないものと判断された場合には、ステップ３１４に移行する。
次に、ステップ３１４（Ｓ３１４）において、ステップ３０６において検出された接触位置の位置座標が、メモリ２５１に一時的に保存される。
次に、ステップ３１６（Ｓ３１６）において、ステップ３０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標が移動したものと認識し、メモリ２５１に保存され、出力部２５３より出力される。
ステップ３１２からステップ３１６について、より詳しく、図１８に基づき詳細に説明する。この動作は主に、処理部２５２において行われる。図１８（ａ）は、ステップ３１２において、ステップ３０６において検出された接触位置Ｂ１の位置座標が、前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした所定の領域内に存在しているものと判断された場合であり、ステップ３１６の場合である。図１８（ａ）に示すように、ステップ３０６において検出された接触位置Ｂ１の位置座標は前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした所定の領域ａ１内に存在している。この場合、接触位置Ａ１から接触位置Ｂ１に、接触位置が移動したものと認識される。従って、接触位置Ｂ１は、接触位置Ａ１に割り当てられたＩＤと同じＩＤが割り当てられて出力される。
一方、図１８（ｂ）は、ステップ３１２において、ステップ３０６において検出された接触位置Ｂ１の位置座標が、前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした所定の領域内には存在していないものと判断された場合であり、ステップ３１４の場合である。この場合、図１８（ｂ）に示すように、ステップ３０６において検出された接触位置Ｂ１の位置座標は前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした所定の領域ａ１内に存在していない。従って、新たなに接触されたものと認識される。よって、接触位置Ｂ１の位置座標がメモリ２５１に一時的に保存される。
次に、ステップ３１８（Ｓ３１８）において、タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了しているか否かが判断される。具体的には、本実施の形態においては、ステップ３０２において用いたカウンターＮの値が３２である場合には、タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了しているものと判断され、カウンターＮの値が３２に満たない場合には、タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了していないものと判断される。タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了しているものと判断された場合には、ステップ３２２に移行する。一方、タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了していないものと判断された場合には、ステップ３２０に移行する。
次に、ステップ３２０（Ｓ３２０）において、次のエリアが選択される。具体的にはカウンターＮの値に１を加算し、タッチパネルにおけるエリア２または、エリア９が選択され、エリア２または、エリア９における接触の有無等の情報を検出する。この後、ステップ３０４に移行する。
次に、ステップ３２２（Ｓ３２２）において、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標の有無が判断される。具体的には、ステップ３１４において接触位置の位置座標としてメモリ２５１に一時的に保存されているものがあるか否かの判断がなされる。メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標が存在しているものと判断された場合には、ステップ３２４に移行する。一方、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標が存在していないものと判断された場合には、ステップ３０２に移行し、新たに、エリア１よりタッチパネルにおける接触位置の座標検出が行われる。
次に、ステップ３２４（Ｓ３２４）において、ＩＤ割り当ての処理が行われる。このＩＤ割り当て処理については、図１９に示すサブルーチンによって行われ、ＩＤ割り当て処理の終了後は、ステップ３０２に移行する。この動作を繰り返すことにより、タッチパネルにおける接触位置の移動の状態を把握することができる。
次に、図１９に基づきＩＤ割り当て処理について説明する。このサブルーチンは、ステップ３１４において接触位置の位置座標としてメモリ２５１に一時的に保存されているものがある場合に行われるものであり、主に、処理部２５２において行われる。
最初に、ステップ４０２（Ｓ４０２）において、前回ＩＤ割り当てされている接触位置が、すべて今回ＩＤ割り当てされているか否かが判断される。前回ＩＤ割り当てされている接触位置が、すべて今回ＩＤ割り当てされているものと判断された場合には、ステップ４０４に移行する。一方、前回ＩＤ割り当てされている接触位置のうち、今回ＩＤ割り当てされていないものがあるものと判断された場合には、ステップ４０６に移行する。
次に、ステップ４０４（Ｓ４０４）において、新規なＩＤの割り当てが行われる。具体的には、図２０に示すように、前回ＩＤ割り当てされている前回の接触位置Ａ１、Ａ２、Ａ３は、今回ＩＤ割り当てされている接触位置Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３に各々移動したものと認識され、ＩＤ：１、ＩＤ：２、ＩＤ：３の全ては割り当てられた状態となっている。即ち、前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした所定の領域ａ１内に接触位置Ｂ１が存在しており、前回の接触位置Ａ２の位置座標を中心とした所定の領域ａ２内に接触位置Ｂ２が存在しており、前回の接触位置Ａ３の位置座標を中心とした所定の領域ａ３内に接触位置Ｂ３が存在している。更に、ステップ３２２においてメモリ２５１に一時的に保存されている接触位置Ｂ４が存在しているため、この接触位置Ｂ４の位置座標に新たにＩＤ：４を割り当てる。これにより、タッチパネルは、ＩＤ：１における接触は、前回の接触位置Ａ１から接触位置Ｂ１に移動し、ＩＤ：２における接触は、前回の接触位置Ａ２から接触位置Ｂ２に移動し、ＩＤ：３における接触は、前回の接触位置Ａ３から接触位置Ｂ３に移動したものとされ、更に、新たにＩＤ：４における接触位置Ｂ４が発生したものと認識される。
次に、ステップ４０６（Ｓ４０６）において、前回ＩＤ割り当てされたものであって今回ＩＤ割り当てされていないものの数と、ステップ３３２においてメモリ２５１に一時的に保存されているものの数が比較される。前回ＩＤ割り当てされたものであって今回ＩＤ割り当てされていないものの数よりも、ステップ３３２においてメモリ２５１に一時的に保存されているものの数が多い場合にはステップ４０８に移行する。一方、前回ＩＤ割り当てされたものであって今回ＩＤ割り当てされていないものの数よりも、ステップ３３２においてメモリ２５１に一時的に保存されているものの数が等しい場合又は、少ない場合にはステップ４１０に移行する。
次に、ステップ４０８（Ｓ４０８）において、前回の接触位置のＩＤ割り当て及び新規ＩＤ割り当てが行われる。具体的には、図２１に示すように、前回ＩＤ割り当てされている接触位置Ａ１、Ａ３は、今回ＩＤ割り当てされている接触位置Ｂ１、Ｂ３に各々移動したものと認識され、ＩＤ：１、ＩＤ：３は割り当てられた状態となっている。即ち、前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした所定の領域ａ１内に接触位置Ｂ１が存在しており、前回の接触位置Ａ３の位置座標を中心とした所定の領域ａ３内に接触位置Ｂ３が存在している。更に、前回の接触位置Ａ２の位置座標を中心とした所定の領域ａ２の外には、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置Ｂ２及び接触位置Ｂ４が存在している。この接触位置Ｂ２及び接触位置Ｂ４のうち、前回の接触位置Ａ２に近い接触位置Ｂ２にＩＤ：２を割り当て、前回の接触位置Ａ２より接触位置Ｂ２に移動したものとする。また、前回の接触位置Ａ２から遠い接触位置Ｂ４は、新たに接触したものと認識され、この接触位置Ｂ４の位置座標に新たにＩＤ：４を割り当てる。これにより、タッチパネルにおいて、ＩＤ：１における接触は、接触位置Ａ１から接触位置Ｂ１に移動し、ＩＤ：２における接触は、接触位置Ａ２から接触位置Ｂ２に移動し、ＩＤ：３における接触は、接触位置Ａ３から接触位置Ｂ３に移動したものと認識され、更に、新たにＩＤ：４における接触位置Ｂ４が発生したものと認識される。
また、ステップ４１０（Ｓ４１０）において、前回の接触位置の座標のＩＤ割り当てが行われる。
最初に、図２２に基づき前回ＩＤ割り当てされたものであって今回ＩＤ割り当てされていないものの数と、ステップ３３２においてメモリ２５１に一時的に保存されているものの数とが等しい場合について説明する。前回ＩＤ割り当てされている接触位置Ａ３は、今回ＩＤ割り当てされている接触位置Ｂ３に各々移動したものと認識され、ＩＤ：３は割り当てられた状態となっている。即ち、前回の接触位置Ａ３の位置座標を中心とした所定の領域ａ３内に接触位置Ｂ３が存在している。また、前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした所定の領域ａ１の外及び、前回の接触位置Ａ２の位置座標を中心とした所定の領域ａ２の外には、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置Ｂ１及び接触位置Ｂ２が存在している。この接触位置Ｂ１及び接触位置Ｂ２のうち、前回の接触位置Ａ１に近い接触位置Ｂ１にＩＤ：１を割り当て、前回の接触位置Ａ１より接触位置Ｂ１に移動したものと認識され、前回の接触位置Ａ２に近い接触位置Ｂ２にＩＤ：２を割り当て、前回の接触位置Ａ２より接触位置Ｂ２に移動したものと認識される。具体的には、前回の接触位置Ａ１と接触位置Ｂ１との距離と、前回の接触位置Ａ１と接触位置Ｂ２との距離を比較し、近い方にＩＤ：１を割り当てる。また、前回の接触位置Ａ２と接触位置Ｂ１との距離と、前回の接触位置Ａ２と接触位置Ｂ２との距離を比較し、近い方にＩＤ：２を割り当てる。これにより、タッチパネルにおいて、ＩＤ：１における接触は、接触位置Ａ１から接触位置Ｂ１に移動し、ＩＤ：２における接触は、接触位置Ａ２から接触位置Ｂ２に移動し、ＩＤ：３における接触は、接触位置Ａ３から接触位置Ｂ３に移動したものと認識される。
次に、図２３に基づき前回ＩＤ割り当てされたものであって今回ＩＤ割り当てされていないものの数よりも、ステップ３３２においてメモリ２５１に一時的に保存されているものの数が少ない場合について説明する。前回ＩＤ割り当てされている接触位置Ａ３は、今回ＩＤ割り当てされている接触位置Ｂ３に各々移動したものと認識され、ＩＤ：３は割り当てられた状態となっている。即ち、前回の接触位置Ａ３の位置座標を中心とした所定の領域ａ３内に接触位置Ｂ３が存在している。また、前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした所定の領域ａ１の外及び、前回の接触位置Ａ２の位置座標を中心とした所定の領域ａ２の外には、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置Ｂ１が存在している。この接触位置Ｂ１は、前回の接触位置Ａ１及びＡ２のうち、前回の接触位置Ａ１に近いため、接触位置Ｂ１にＩＤ：１を割り当て、前回の接触位置Ａ１より接触位置Ｂ１に移動したものと認識する。具体的には、前回の接触位置Ａ１と接触位置Ｂ１との距離と、前回の接触位置Ａ２と接触位置Ｂ１との距離を比較し、近い方にＩＤを割り当てる。また、前回の接触位置Ａ２は今回の接触位置では検出されなかったため、ＩＤ：２の割り当てられている前回の接触位置Ａ２は、接触状態ではなくなったものとされる。これにより、タッチパネルにおいて、ＩＤ：１における接触は、接触位置Ａ１から接触位置Ｂ１に移動し、ＩＤ：２における接触は消滅し、ＩＤ：３における接触は、接触位置Ａ３から接触位置Ｂ３に移動したものと認識される。
次に、ステップ４１２（Ｓ４１２）において、ＩＤが割り当てられている接触位置の位置座標が出力される。
これにより、本実施の形態においては、タッチパネルにおいて複数の接触点がある場合においても、接触位置の位置関係より、接触点を正確に把握することができる。尚、各々のタッチパネルにおける接触位置はタッチパネルにおいて、分割された各々の領域において１つの接触点が存在しているものとする。
〔第３の実施の形態〕
次に、第３の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第１の実施の形態におけるタッチパネルにおいて接触位置が移動した場合における接触位置の位置座標の決定方法に関するものである。本実施の形態において用いられるタッチパネル装置としては、第２の実施の形態における図１５に示すものと同様のものが用いられる。
図２４に基づき本実施の形態について説明する。本実施の形態において用いるタッチパネルは、第２の実施の形態と同様に図１７に示すものを用いる。
最初に、ステップ５０２（Ｓ５０２）において、図１７に示すエリア１が選択される。具体的には、カウンター等を設けて、例えば、カウンターＮ＝１と設定し、エリア１における接触の有無等の情報を検出する。
次に、ステップ５０４（Ｓ５０４）において、選択されたエリアにおいて接触されているか否かが判断される。選択されたエリアにおいて、指等が接触している場合、即ち、接触位置が存在している場合には、ステップ５０６に移行する。一方、選択されたエリアにおいて、指等が接触していない場合には、ステップ５１８に移行する。
次に、ステップ５０６（Ｓ５０６）において、指等が接触している接触位置の位置座標が検出される。具体的には、電位を検出することにより、接触位置の位置座標が検出される。
次に、ステップ５０８（Ｓ５０８）において、前回の測定時において接触位置が存在していたか否かが判断される。具体的には、前回の測定時においてタッチパネルに指等が接触していたか否かが判断される。前回の測定時において接触位置が存在していた場合には、ステップ５１２に移行する。一方、前回の測定時において接触位置が存在していなかった場合には、ステップ５１０に移行する。
次に、ステップ５１０（Ｓ５１０）において、新たな接触位置としてＩＤ：１が割り当てられ、接触位置の位置座標としてメモリ２５１に保存され、出力部２５３より出力される。
次に、ステップ５１２（Ｓ５１２）において、ステップ５０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした第１の所定の領域内に存在しているか否かが判断される。ステップ５０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした第１の所定の領域内に存在しているものと判断された場合には、ステップ５１６に移行する。一方、ステップ５０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした第１の所定の領域内には存在していないものと判断された場合には、ステップ５１４に移行する。
次に、ステップ５１４（Ｓ５１４）において、ステップ５０６において検出された接触位置の位置座標が、メモリ２５１に一時的に保存される。
次に、ステップ５１６（Ｓ５１６）において、ステップ５０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標が移動したものと認識し、メモリ２５１に保存され、出力部２５３より出力される。
ステップ５１２からステップ５１６について、より詳しく、図２５に基づき詳細に説明する。図２５（ａ）は、ステップ５１２において、ステップ５０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした第１の所定の領域ａ１１内に存在しているものと判断された場合であり、ステップ５１６の場合である。図２５（ａ）に示すように、ステップ５０６において検出された接触位置Ｂ１の位置座標は前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした第１の所定の領域ａ１１内に存在している。この場合、接触位置Ａ１から接触位置Ｂ１に、接触位置が移動したものと認識される。従って、接触位置Ｂ１は、接触位置Ａ１に割り当てられたＩＤと同じＩＤが割り当てられて出力される。
一方、図２５（ｂ）は、ステップ５１２において、ステップ５０６において検出された接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした第１の所定の領域ａ１１内には存在していないものと認識された場合であり、ステップ５１４の場合である。この場合、図２５（ｂ）に示すように、ステップ５０６において検出された接触位置Ｂ１及びＢ２の位置座標は前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした第１所定の領域ａ１１内に存在していない。従って、接触位置Ｂ１及びＢ２の位置座標はメモリ２５１に一時的に保存される。
次に、ステップ５１８（Ｓ５１８）において、タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了しているか否かが判断される。具体的には、本実施の形態においては、ステップ５０２において用いたカウンターＮの値が３２である場合には、タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了しているものと判断され、カウンターＮの値が３２に満たない場合には、タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了していないものと判断される。タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了しているものと判断された場合には、ステップ５２２に移行する。一方、タッチパネルの全エリアにおいて、指等の接触の有無の判断等が終了していないものと判断された場合には、ステップ５２０に移行する。
次に、ステップ５２０（Ｓ５２０）において、次のエリアが選択される。具体的にはカウンターＮの値に１を加算し、タッチパネルにおけるエリア２または、エリア９が選択され、エリア２または、エリア９における接触の有無等の情報を検出する。この後、ステップ５０４に移行する。
次に、ステップ５２２（Ｓ５２２）において、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標の有無が判断される。具体的には、ステップ５１４において接触位置の位置座標としてメモリ２５１に一時的に保存されているものがあるか否かの判断がなされる。メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標が存在しているものと判断された場合には、ステップ５２４に移行する。一方、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標が存在していないものと判断された場合には、ステップ５０２に移行し、新たに、エリア１よりタッチパネルにおける接触位置の座標検出が行われる。
次に、ステップ５２４（Ｓ５２４）において、ＩＤ割り当ての処理２が行われる。このＩＤ割り当て処理については、図２６に示すサブルーチンによって行われ、ＩＤ割り当て処理の終了後は、ステップ５０２に移行する。この動作を繰り返すことにより、タッチパネルにおける接触位置の移動を検出することができる。
次に、図２６に基づきＩＤ割り当て処理について説明する。このサブルーチンは、ステップ５１４において接触位置の位置座標としてメモリ２５１に一時的に保存されているものがある場合に行われるものであり、主に、処理部２５２において行われる。
最初に、ステップ６０２（Ｓ６０２）において、前回ＩＤ割り当てされている接触位置が、すべて今回ＩＤ割り当てされているか否かが判断される。前回ＩＤ割り当てされている接触位置が、すべて今回ＩＤ割り当てされているものと判断された場合には、ステップ６０６に移行する。一方、前回ＩＤ割り当てされている接触位置のうち、今回ＩＤ割り当てされていないものがあるものと判断された場合には、ステップ６０４に移行する。
次に、ステップ６０４（Ｓ６０４）において、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした第２の所定の領域内にあるか否かが判断される。メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした第２の所定の領域内にあるものと判断された場合には、ステップ６０８に移行する。一方、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置の位置座標が、前回の接触位置の位置座標を中心とした第２の所定の領域内にはないものと判断された場合には、ステップ６０６に移行する。
次に、ステップ６０６（Ｓ６０６）において、新規なＩＤの割り当てが行われる。具体的には、図２５（ｂ）に示すように、メモリ２５１に一時的に保存されている接触位置Ｂ２の位置座標が、前回の接触位置Ａ１の位置座標を中心とした第２の所定の領域ａ１２外である場合には、新たにＩＤ：２が割り当てられる。また、前回ＩＤ割り当てされている接触位置が、すべて今回ＩＤ割り当てされているものと判断された場合については、図２０に示す場合と同様の判断がなされる。
次に、ステップ６０８（Ｓ６０８）において、ベクトルによるＩＤ割り当て処理が行われる。具体的には、図２５（ｂ）に示すように、接触位置は接触位置Ｘ１、接触位置Ｙ１、接触位置Ｚ１、接触位置Ａ１の順に接触位置の軌跡を有している。このため前回の接触位置Ａ１と前々回の接触位置Ｚ１より、基準ベクトルＶ１を求め、この基準ベクトルＶ１を基準として第１の所定の領域ａ１１の外であって、第２の所定の領域ａ１２の内において検出された接触位置Ｂ１について判断する。接触位置Ｂ１は、第２の所定の領域ａ１２内に１つのみ存在しているため、接触位置Ｂ１はＩＤ：１が割り当てられる。
次に、図２７に示す場合について考える。即ち、前回の接触位置Ａ１を中心とした第１の所定の領域ａ１１内には、新たに検出した座標位置は存在せず、第１の所定の領域ａ１１外であって第２の所定の領域ａ１２内に新たに検出された接触位置Ｂ１が存在しており、前回の接触位置Ａ２を中心とした第１の所定の領域ａ２１内には、新たに検出した座標位置は存在せず、第１の所定の領域ａ２１外であって第２の所定の領域ａ２２内に新たに検出された接触位置Ｂ１及びＢ２が存在しており、前回の接触位置Ａ１を中心とした第２の所定の領域ａ１２外であって、かつ、前回の接触位置Ａ２を中心とした第２の所定の領域ａ２２外に接触位置Ｂ３が存在している場合について考える。この場合において、最初に接触位置Ｂ３には、ＩＤ：３が割り当てられる。
次に、第２の所定の領域に存在している新たに検出された座標位置が多いものから順に判断を行う。図２７においては、前回の接触位置Ａ２を中心とした第１の所定の領域ａ２１外であって第２の所定の領域ａ２２内に新たに検出された接触位置Ｂ１及びＢ２の２つが存在しており、前回の接触位置Ａ１を中心とした第１の所定の領域ａ１１外であって第２の所定の領域ａ１２内に新たに検出された接触位置Ｂ１の１つが存在している。
従って、最初に前回の接触位置Ａ２を中心とした第１の所定の領域ａ２１外であって第２の所定の領域ａ２２内に新たに検出された接触位置Ｂ１及びＢ２の２つについて判断する。具体的には、前回の接触位置Ａ２と前々回の座標位置Ｚ２より基準ベクトルＶ２を導き出す。
この後、前回の接触位置Ａ２と接触位置Ｂ１とを結ぶ線とベクトルＶ２とのなす角θ１を求める。また、前回の接触位置Ａ２と接触位置Ｂ２とを結ぶ線とベクトルＶ２とのなす角θ２を求める。図２７の場合では、ベクトルＶ２とのなす角はθ１よりもθ２の方が小さいため、接触位置Ｂ２にＩＤ：２を割り当てる。
この後、前回の接触位置Ａ１の第２の所定の領域ａ１２には接触位置Ｂ１のみとなるため、接触位置Ｂ１にＩＤ：１を割り当てる。
尚、必要に応じて、前回の接触位置Ａ１と前々回の座標位置Ｚ１より基準ベクトルＶ１を導き出し、前回の接触位置Ａ１と接触位置Ｂ１とを結ぶ線とベクトルＶ１とのなす角θ３を求めてもよい。
次に、図２８に示す場合について考える。この場合についても、前述した接触位置Ｂ３には、ＩＤ：３が割り当てられるまでは図２７の場合と同様である。
この後、第２の所定の領域に存在している新たに検出された座標位置が多いものから順に判断を行う。図２７においては、前回の接触位置Ａ２を中心とした第１の所定の領域ａ２１外であって第２の所定の領域ａ２２内に新たに検出された接触位置Ｂ１及びＢ２の２つが存在しており、前回の接触位置Ａ１を中心とした第１の所定の領域ａ１１外であって第２の所定の領域ａ１２内に新たに検出された接触位置Ｂ２の１つが存在している。
従って、最初に前回の接触位置Ａ２を中心とした第１の所定の領域ａ２１外であって第２の所定の領域ａ２２内に新たに検出された接触位置Ｂ２及びＢ４の２つについて判断する。具体的には、前回の接触位置Ａ２と前々回の座標位置Ｚ２より基準ベクトルＶ２を導き出す。
この後、前回の接触位置Ａ２と接触位置Ｂ２とを結ぶ線とベクトルＶ２とのなす角θ１を求める。また、前回の接触位置Ａ２と接触位置Ｂ４とを結ぶ線とベクトルＶ２とのなす角θ２を求める。図２８の場合では、ベクトルＶ２とのなす角はθ２よりもθ１の方が小さいため、接触位置Ｂ２にＩＤ：２を割り当てる。
この後、前回の接触位置Ａ２の第２の所定の領域ａ２２には接触位置Ｂ４が存在しているため、この接触位置Ｂ４にＩＤ：４を割り当てる。
また、前回の接触位置Ａ１については、移動したものと思われる座標位置が存在しないため、接触が離れた、即ち、接触位置が消滅したものと判断する。
次に、ステップ６１０（Ｓ６１０）において、ＩＤが割り当てられている接触位置が出力される。
これにより、本実施の形態においては、タッチパネルにおいて複数の接触点がある場合においても、接触位置の軌跡となる基準ベクトルを用いて、接触点を正確に把握することができる。尚、各々のタッチパネルにおける接触位置はタッチパネルにおいて、分割された各々の領域、即ち図１７に示す分割された各々の領域において１つの接触点が存在しているものとする。また、上記記載の内容以外については第２の実施の形態と同様である。
以上、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。
本発明は、５線式の抵抗膜式タッチパネルに適用することができ、各種情報処理機器のディスプレイが、５線式の抵抗膜式タッチパネルで構成される場合に有用である。この場合の情報処理機器の例としては、携帯電話、情報携帯端末（ＰＤＡ）、携帯音楽プレイヤー、携帯画像プレイヤー、携帯ブラウザ、ワンセグチューナー、電子辞書、カーナビゲーションシステム、コンピュータ、ＰＯＳ端末、在庫管理端末、ＡＴＭ、各種マルチメディア端末等がある。
１０ 上部電極基板
１１ フィルム
１２ 透明導電膜
１３ 引出電極部
１４ フレキシブル基板
２０ 下部電極基板
２１ ガラス
２２ 透明導電膜
２３ 電極
２４ 電極
２５ 電極
２６ 電極
２７ フレキシブル基板
３１ スペーサ
１２１ 導電領域
１２１ａ 領域部
１２１ｂ 引出部
１２１ｃ 接続部
１２２ 導電領域
１３１ 引出電極
１３２ 引出電極

Claims (20)

  1. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
    第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
    前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、
    を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、
    前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルの位置検出方法において、
    前記導電領域において接触している状態と接触していない状態とを判別する接触状態判別工程と、
    前記接触状態判別工程において、前記接触していない状態と判断された場合には、前記接触していない状態となってからのタッチオフ時間を測定し、前記タッチオフ時間が所定時間よりも短いか否か判別するタッチオフ時間判別工程と、
    前記タッチオフ時間判別工程において、前記タッチオフ時間が前記所定時間よりも短い場合には、接触状態が継続しているものとする接触処理工程と、
    を有することを特徴とするタッチパネルの位置検出方法。
  2. 前記接触状態判別工程において、前記接触していない状態と判断された場合には、前記接触している状態から前記接触していない状態に変化した後においても、接触している状態を示す信号を一定時間出力することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  3. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
    第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
    前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、
    を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、
    前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルの位置検出方法において、
    隣接する２つの前記導電領域において接触しているか否かを判別する接触領域判別工程と、
    前記接触領域判別工程において、前記隣接する２つの導電領域において接触しているものと判断された場合には、前記隣接する２つの導電領域において接触している各々２つの接触位置の位置座標を算出する座標算出工程と、
    前記２つの接触位置の位置座標より、前記２つの接触位置の位置座標間の位置間隔を算出し、所定距離と比較する比較工程と、
    前記位置間隔が、前記所定距離よりも短い場合には、前記２つの接触位置の位置座標の平均値を算出し、前記平均値を１つの接触位置の位置座標とする座標生成工程と、
    を有することを特徴とするタッチパネルの位置検出方法。
  4. 前記複数に分割された導電領域は、前記上部導電膜を縦方向に２分割以上、横方向に２分割以上に分割することにより形成されるものであることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のタッチパネルの位置検出方法。
  5. 前記下部導電膜と前記上部導電膜との複数の接触位置における各々の座標位置を検出することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のタッチパネルの位置検出方法。
  6. 前記複数に分割された導電領域間の幅は、１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のタッチパネルの位置検出方法。
  7. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
    第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
    前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、
    を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、
    前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルの位置検出方法において、
    前記複数に分割された導電領域ごとに順次接触位置を検出する第１の接触位置検出工程と、
    前記第１の接触位置検出工程の後、前記複数に分割された導電領域ごとに順次接触位置を検出する第２の接触位置検出工程と、
    前記第１の接触位置検出工程において検出された第１の接触位置の中心から所定の領域内に、前記第２の接触位置検出工程において検出された第２の接触位置が存在している場合、前記第１の接触位置から前記第２の接触位置に接触位置が移動したものと判断する処理工程と、
    を有することを特徴とするタッチパネルの位置検出方法。
  8. 前記処理工程において、前記第２の接触位置が前記領域内に存在していない場合には、前記第２の接触位置は、新たにタッチパネルに接触したものであるものと判断することを特徴とする請求項７に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  9. 前記処理工程において、前記領域内に前記第２の接触位置が存在していない場合には、前記第１の接触位置における接触は、前記タッチパネルより離れたものであるものと判断することを特徴とする請求項７または８に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  10. 前記処理工程において、前記第１の接触位置が複数存在しており、前記複数の第１の接触位置の中心から所定の領域内に存在していない第２の接触位置が存在する場合、
    前記複数の第１の接触位置のうち、前記接触位置が移動したものと判断されていないものであって、前記第２の接触位置に最も近い第１の接触位置から前記第２の接触位置に移動したものと判断することを特徴とする請求項７に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  11. 前記処理工程において、前記第１の接触位置の中心から所定の領域内に存在していない第２の接触位置が複数存在する場合、
    前記第１の接触位置において、前記接触位置が移動したものと判断されていない第１の接触位置と最も近い前記第２の接触領域を前記第１の接触位置から前記第２の接触位置に移動したものと判断することを特徴とする請求項７に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  12. 前記領域は、第１の領域であって、前記第１の領域内に前記第２の接触位置が存在していない場合であって、
    前記第１の領域よりも広い前記第１の接触位置の中心から所定の第２の領域内に、前記第２の接触位置が存在している場合には、前記第１の接触位置から前記第２の接触位置に接触位置が移動したものと判断することを特徴とする請求項７に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  13. 前記第２の接触位置が、前記第１の領域内には存在せず、前記第２の領域内に複数存在している場合には、前記第１の接触位置の軌跡より求められる基準ベクトルとなす角度が最も小さい第２の接触位置を前記第１の接触位置より接触位置が移動したものと判断することを特徴とする請求項１２に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  14. 前記第２の接触位置が前記第２の領域内に存在していない場合には、前記第２の接触位置は、新たにタッチパネルに接触したものであるものと判断することを特徴とする請求項１２または１３に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  15. 前記第２の領域内に前記第２の接触位置が存在していない場合には、前記第１の接触位置における接触は、前記タッチパネルより離れたものであるものと判断することを特徴とする請求項１２から１４のいずれかに記載のタッチパネルの位置検出方法。
  16. 前記複数に分割された導電領域ごとに順次接触位置を検出する接触位置の検出を連続して行うものであって、
    前記第１の接触位置検出工程を前回の接触位置検出工程とし、
    前記第２の接触位置検出工程を今回の接触位置検出工程とし、
    前記第１の接触位置を前回の接触位置とし、
    前記第２の接触位置を今回の接触位置としたものであることを特徴とする請求項７から１６のいずれかに記載のタッチパネルの位置検出方法。
  17. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
    第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
    前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、
    を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、
    前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルと、
    前記タッチパネルを駆動する駆動回路と、
    を有するタッチパネル装置において、
    前記導電領域において、接触している状態から接触していない状態となった場合に、
    前記接触している状態を示す信号を一定時間延ばして出力するタッチオフ検出処理部を前記駆動回路内に有することを特徴とするタッチパネル装置。
  18. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
    第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
    前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四辺の端部に各々設けられた４つの電極と、
    を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して設けられており、
    前記上部導電膜は、複数に分割された導電領域を有するタッチパネルと、
    前記タッチパネルを駆動する駆動回路と、
    を有するタッチパネル装置において、
    前記隣接する２つの導電領域において接触している場合には、前記２つの導電領域における２つの接触位置の位置座標の平均値を算出し、前記平均値を１つの接触位置の位置座標とする隣接導電領域処理部を前記駆動回路内に有することを特徴とするタッチパネル装置。
  19. 前記複数に分割された導電領域は、前記上部導電膜を縦方向に２分割以上、横方向に２分割以上に分割することにより形成されるものであることを特徴とする請求項１７または１８に記載のタッチパネル装置。
  20. 前記複数に分割された導電領域間の幅は、１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１７から１９のいずれかに記載のタッチパネル装置。
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