JP5520034B2 - タッチパネル及び座標位置検出方法 - Google Patents

Description

本発明は、タッチパネル及び座標位置検出方法に関する。

タッチパネルは、ディスプレイに直接入力をすることが可能な入力デバイスであり、ディスプレイの前面に設置して使用される。このタッチパネルは、ディスプレイにより視覚的にとらえた情報に基づき、直接入力することができることから、様々な用途において普及している。

このようなタッチパネルとしては、抵抗膜方式が広く知られている。抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電膜が形成された上部電極基板及び下部電極基板において、各々の透明導電膜同士が対向するように設置し、上部電極基板の一点に力を加えることにより各々の透明導電膜同士が接触し、力の加えられた位置の位置検出を行うことができるものである。

抵抗膜方式のタッチパネルは、４線式と５線式とに大別することができる。４線式は、上部電極基板又は下部電極基板のどちらか一方にＸ軸の電極が設けられており、他方にＹ軸の電極が設けられている。一方、５線式は、下部電極基板にＸ軸の電極及びＹ軸の電極がともに設けられており、上部電極基板は、電圧を検出するためのプローブとして機能するものである（例えば、特許文献１、２）。

具体的に、図１及び図２に基づき５線式のタッチパネルについて説明する。図１は、５線式のタッチパネルの斜視図であり、図２は、５線式のタッチパネルの断面の概要図である。

５線式のタッチパネル２００は、上部電極基板となる一方の面に透明導電膜２３０の形成されたフィルム２１０と、下部電極基板となる一方の面に透明導電膜２４０の形成されたガラス２２０からなり、透明導電膜２３０及び透明導電膜２４０が対向するようにスペーサ２５０を介し設置されている。５線式のタッチパネル２００と不図示のホストコンピュータとはケーブル２６０により電気的に接続されている。

このような構成の５線式のタッチパネル２００では、図３（ａ）に示すように、透明導電膜２４０の端部の４辺に設けられた電極２４１、２４２、２４３、２４４により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に交互に電圧を印加し、透明導電膜２３０と透明導電膜２４０とが、接触位置Ａ点において接触することにより、図３（ｂ）に示すように、透明導電膜２３０を介し電位Ｖａを検出し、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の各々の座標位置を検出する方式である。

ところで、上述した５線式のタッチパネルでは、一点における接触位置は検出することは可能であるが、複数点が同時に接触した場合には位置検出をすることができない。

即ち、図４（ａ）に示すように、透明導電膜２４０の４辺に設けられた電極２４１、２４２、２４３、２４４により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に交互に電圧を印加した場合において、透明導電膜２３０と透明導電膜２４０とが接触位置Ａ点及びＢ点の２点において接触すると、Ａ点とＢ点の間の中間点における押下されていない一点の座標位置が検出されてしまう。これは、図４（ｂ）に示すように、電位検出による位置検出方法であることから、接触位置Ａ点及びＢ点の二点で接触した場合であっても、透明導電膜２３０を介し検出される電位はＶｃの１つだけであるため、接触位置が一点であるものと判断してしまうためである。

特開２００４−２７２７２２号公報 特開２００８−２９３１２９号公報

本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、複数の接触位置において同時に接触した場合においても、各々の接触位置を検出することが可能なタッチパネル及びタッチパネルにおける座標位置検出方法を提供することを目的とするものである。

本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四隅に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して配置されるタッチパネルにおいて、前記上部導電膜は、一方の方向に沿った複数の領域に分割されており、前記下部導電膜は、前記複数の領域に対応する位置において、前記複数の領域と略同一の形状に分割されており、前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されていることを特徴とする。

また、本発明は、前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されていることを特徴とする。

また、本発明は、前記抵抗膜におけるシート抵抗は、１０Ω／□以上であることを特徴とする。

また、本発明は、前記一方の方向は短手方向であって、前記他方の方向は長手方向であることを特徴とする。

また、本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四隅に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して配置されており、前記上部導電膜は、一方の方向に沿った複数の領域に分割されており、前記下部導電膜は、前記複数の領域に対応する位置において、前記複数の領域と略同一の形状に分割されているタッチパネルにおける座標位置検出方法において、前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されているものであって、前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向とは垂直方向となる他方の方向に電位分布を生じさせる第１の電位勾配形成工程と、前記第１の電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位を検出し、前記検出された電位に基づき前記他方の方向における座標位置を検出する第１の位置検出工程と、前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向に電位分布を生じさせる第２の電位勾配形成工程と、前記第２の電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位及び電流値を検出する電位電流検出工程と、前記電位電流検出工程において検出された電位に基づき前記一方の方向における座標位置を検出する第２の位置検出工程と、を有することを特徴とする。

また、本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四隅に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して配置されており、前記上部導電膜は、一方の方向に沿った複数の領域に分割されており、前記下部導電膜は、前記複数の領域に対応する位置において、前記複数の領域と略同一の形状に分割されているタッチパネルにおける座標位置検出方法において、前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されているものであって、前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、一様に電位分布を生じさせる電位形成工程と、前記電位形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位を検出し、前記検出された電位に基づき前記一方の方向とは垂直方向となる他方の方向の座標位置を検出する第１の位置検出工程と、前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向に電位分布を生じさせる電位勾配形成工程と、前記電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位及び電流値を検出する電位電流検出工程と、前記電位電流検出工程において検出された電位に基づき前記一方の方向における座標位置を検出する第２の位置検出工程と、を有することを特徴とする。

また、本発明は、第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四隅に各々設けられた４つの電極と、を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して配置されており、前記上部導電膜は、一方の方向に沿った複数の領域に分割されており、前記下部導電膜は、前記複数の領域に対応する位置において、前記複数の領域と略同一の形状に分割されているタッチパネルにおける座標位置検出方法において、前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されているものであって、前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向とは垂直方向となる他方の方向に電位分布を生じさせる第１の電位勾配形成工程と、前記第１の電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位を検出し、前記検出された電位に基づき前記他方の方向における座標位置を検出する第１の位置検出工程と、前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、一様に電位分布を生じさせる電位形成工程と、前記電位形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電流値を検出する電流検出工程と、前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向に電位分布を生じさせる第２の電位勾配形成工程と、前記第２の電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位を検出する電位検出工程と、前記電位検出工程において検出された電位に基づき一方の方向における座標位置を検出する第２の位置検出工程と、を有することを特徴とする。

また、本発明は、前記電流検出工程または前記電位電流検出工程において検出された電流量に基づき前記分割された領域内において、一点接触であるか多点接触であるかを判断する判断工程を有することを特徴とする。

また、本発明は、前記座標位置検出方法における各々の工程は、順次繰り返し行われるものであって、前記判断工程において、前記分割された領域内において多点接触であるものと判断された場合には、前記電位電流検出工程または前記電位検出工程において検出された電位に基づき算出される座標位置をＹｘとし、前回行われた第２の座標位置検出工程において検出された座標位置Ｙａを前記多点接触の一方の接触点の座標位置とし、前記多点接触の他方の接触点の座標位置をＹｂは、Ｙｂ＝２×Ｙｘ−Ｙａにより算出するものであることを特徴とする。

本発明によれば、複数の接触位置において同時に接触した場合においても、各々の接触位置を検出することが可能なタッチパネル及びタッチパネルにおける座標位置検出方法を提供することができる。

従来の５線式のタッチパネルの斜視図 従来の５線式のタッチパネルの断面概要図 従来の５線式のタッチパネルにおける座標検出方法の説明図（１） 従来の５線式のタッチパネルにおける座標検出方法の説明図（２） 第１の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの断面図 第１の実施の形態における座標位置検出方法のフローチャート 第１の実施の形態におけるタッチパネルの説明図（１） 第１の実施の形態におけるタッチパネルの説明図（２） 第１の実施の形態における座標位置検出方法の説明図 第２の実施の形態及び第３の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第２の実施の形態における座標位置検出方法のフローチャート 第２の実施の形態及び第３の実施の形態におけるタッチパネルの説明図（１） 第２の実施の形態及び第３の実施の形態におけるタッチパネルの説明図（２） 第３の実施の形態における座標位置検出方法のフローチャート 第３の実施の形態におけるタッチパネルの説明図

本発明を実施するための形態について、以下に説明する。

〔第１の実施の形態〕
（タッチパネル）
第１の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図５は、本実施の形態におけるタッチパネルの構成図であり、図６は、本実施の形態におけるタッチパネルの断面図である。尚、図５（ａ）は、本実施の形態における上部電極基板における構成図であり、図５（ｂ）は、本実施の形態における下部電極基板における構成図である。

本実施の形態におけるタッチパネルは、フィルム１１の一方の面に透明導電膜１２が形成された略長方形状の上部電極基板１０と、上部電極基板１０と略同じ形状のガラス基板２１の一方の面に透明導電膜２２が形成された下部電極基板２０により構成される。

上部電極基板１０と下部電極基板２０とは、上部電極基板１０における透明導電膜１２と下部電極基板２０における透明導電膜２２とが対向するように、スペーサ３１等を介し、接着剤または両面テープにより接合されている。

上部電極基板１０における透明導電膜１２は、長手方向（Ｘ軸方向）において、短手方向（Ｙ軸方向）に延びるように、各々の領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆに分割されている。具体的には、各々の領域間における透明導電膜を除去することにより分割されている。分割された各々の領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆには、電気配線１３が各々接続されており、この電気配線１３はコネクタを有する接続部１４を介し、制御回路及びホストコンピュータ等に接続されている。尚、本実施の形態では、電気配線１３は、フレキシブル基板により構成されている。

一方、下部電極基板２０における透明導電膜２２は、短手方向（Ｙ軸方向）に沿って、長手方向（Ｘ軸方向）において、各々の領域２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆに分割されている。具体的には、各々の領域間における透明導電膜を除去することにより分割されている。また、下部電極基板２０の短手方向の両端には、長手方向（Ｘ軸方向）に延びるよう抵抗膜２３及び２４が設けられている。抵抗膜２３の一方の端部（電極）２３ａは５Ｖに接続されており、他方の端部（電極）２３ｂはスイッチ２５に接続されている。また、抵抗膜２４の一方の端部（電極）２４ａはスイッチ２６に接続されており、他方の端部（電極）２４ｂは０Ｖに接続（接地）されている。

尚、下部電極基板２０において、透明導電膜２２の分割された領域２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆは、上部電極基板１０において、透明導電膜１２の分割された領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆに対応するものである。このように、下部電極基板２０における透明導電膜２２及び上部電極基板１０における透明導電膜１２をともに分割することにより、隣接する領域の影響を受けることなく正確に接触点の座標位置の検出を行うことができる。

透明導電膜１２及び透明導電膜２２を構成する材料としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）にＡｌまたはＧａ等が添加された材料、ＳｎＯ_２（酸化スズ）にＳｂ等が添加された材料等が挙げられる。

また、フィルム１１は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート：polyethylene terephthalate）、ＰＣ（ポリカーボネート：Polycarbonate）及び、可視領域において透明の樹脂材料が挙げられる。更に、ガラス基板２１に代えて、樹脂基板を用いてもよい。

尚、本実施の形態におけるタッチパネルは、上部電極基板１０を指等により押すことにより、上部電極基板１０における透明導電膜１２と、下部電極基板２０における透明導電膜２２とが接触し、接触した位置における電圧を検知することにより、上部電極基板１０と下部電極基板２０との接触位置、即ち、上部電極基板１０が指等により押された位置を特定することができるものである。

（位置検出方法）
次に、本実施の形態におけるタッチパネルを用いた位置検出方法について説明する。図７は、本実施の形態におけるタッチパネルを用いた位置検出方法のフローチャートである。

最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）に示すように、下部電極基板２０における透明導電膜２２において、Ｘ軸方向に電位分布が生じるよう電圧を印加する。具体的には、図８に示すように、スイッチ２５を０Ｖに接続（接地）し、スイッチ２６を５Ｖに接続する。これにより、抵抗膜２３の一方の端部２３ａと抵抗膜２４の一方の端部２４ａには５Ｖの電圧が印加され、抵抗膜２３の他方の端部２３ｂと抵抗膜２４の他方の端部２４ｂには０Ｖの電圧が印加される。従って、透明導電膜２２の分割された領域２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆにおいては、印加される電圧の値が、領域２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆの順に高くなっている。尚、図８（ａ）は、本実施の形態における上部電極基板における構成図であり、図８（ｂ）は、本実施の形態における下部電極基板における構成図である。

次に、ステップ１０４（Ｓ１０４）に示すように、接触点のＸ座標が検出される。例えば、図８に示すように、Ａ点、Ｂ点、Ｃ点の３点で接触している場合では、上部電極基板１０における透明導電膜１２の分割された領域１２ｂ及び１２ｅにおいて電位が検出される。よって、上部電極基板１０における透明導電膜１２の分割された領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆの各々の領域において電位を検出することにより位置検出を行うことができる。尚、各々の領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆには接続部１４を介し対応した電圧計が接続されているか、あるいは、各々の領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆと電圧計とが接続部１４及び不図示のマルチプレクサを介し接続されている。また、各々の領域において接触点が存在していない場合においては、電圧計により電位が検出されない。

図８に示す場合においては、Ｃ点の接触点は、領域２２ｅ内において一点で接触しており、更に、領域２２ｅ内においてもＸ軸方向に電位分布が生じているため、領域１２ｅより測定される電位により、Ｃ点における正確な座標位置を検出することが可能である。また、領域２２ｂ内においても同様に電位分布が生じているが、領域１２ｂより検出される電位は、Ａ点とＢ点の中間地点の電位である。従って、同一の領域内において接触点が二点以上の場合では、各々の接触点の正確な座標位置を検出することはできないものの、Ａ点及びＢ点は、領域１２ｂ内で接触していることから、タッチパネル全体におけるおおよそのＸ座標の位置を知ることができる。

尚、透明導電膜１２及び透明導電膜２２におけるＸ軸方向の分割数をより細かくすることにより、分割された同一の領域内に接触点が二点以上存在することとなる確率を減らすことができる。また、より正確に接触点のＸ座標の位置を検出することができる。以上により、Ｃ点におけるＸ座標及びＡ点、Ｂ点におけるおおよそのＸ座標を得ることができる。また、この段階においては、領域２２ｂにおける接触点がＡ点とＢ点の二点であることは認識することができない。

次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）に示すように、下部電極基板２０における透明導電膜２２において、Ｙ軸方向に電位分布が生じるよう電圧を印加する。具体的には、図９に示すように、スイッチ２５を５Ｖに接続し、スイッチ２６を０Ｖに接続（接地）する。これにより、抵抗膜２３の一方の端部２３ａと他方の端部２３ｂは５Ｖの電圧が印加され、抵抗膜２３全体に５Ｖの電圧が印加される。一方、抵抗膜２４の一方の端部２４ａと他方の端部２４ｂは０Ｖの電圧が印加され、抵抗膜２４全体に０Ｖの電圧が印加される。このようにして、透明導電膜２２の分割された領域２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆにおいて、Ｙ軸方向における電位勾配を生じさせる。尚、図９（ａ）は、本実施の形態における上部電極基板における構成図であり、図９（ｂ）は、本実施の形態における下部電極基板における構成図である。

次に、ステップ１０８（Ｓ１０８）に示すように、上部電極基板１０において電位及び電流の検出を行う。具体的には、下部電極基板２０における透明導電膜２２の分割された領域２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆごと、即ち、上部電極基板１０における透明導電膜１２の分割された領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆごとに、電位の測定と電流量の計測が行われる。尚、各々の領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆは接続部１４を介し対応した電流が設けられているか、または、各々の領域１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆと電流計とが、接続部１４及び不図示のマルチプレクサを介し接続されている。

次に、ステップ１１０（Ｓ１１０）に示すように、各々の領域内における接触点の数が、一点であるか二点以上であるか判断される。具体的には、ステップ１０８において計測した電流量に基づき判断される。即ち、各々の領域内において接触点が二点以上である場合は、電流量が増加する。よって、所定の電流量よりも多く流れる場合には、領域内における接触点は二点以上であるものと判断される。一方、流れる電流量が所定の電流量よりも少ない場合には、領域内における接触点は一点であるものと判断される。従って、ステップ１０８において計測された電流量が所定の値よりも大きい場合はステップ１１２に移行し、ステップ１０８において計測された電流量が所定の値に満たない場合はステップ１１４に移行する。例えば、図９に示す場合において、領域２２ｅのように、Ｃ点の一点のみが接触点となる場合には、流れる電流量が少ないためステップ１１２に移行し、領域２２ｂのように、Ａ点とＢ点の二点の接触点を有する場合には、流れる電流量が多いためステップ１１４に移行する。

次に、ステップ１１２（Ｓ１１２）に示すように、接触点におけるＹ座標の座標位置が検出される。即ち、ステップ１１０において、領域内における接触点が一点であるものと判断されているため、ステップ１０８において検出した各々の領域における電位に基づき、領域内における接触点のＹ座標の位置が算出される。具体的には、図９において、領域２２ｅには接触点がＣ点の一点のみであるため、透明導電膜１２における領域１２ｅにおいて検出された電位に基づきＣ点におけるＹ座標が検出される。

次に、ステップ１１４（Ｓ１１４）に示すように、接触点における他のＹ座標の位置が算出される。ところで、通常分割された狭い領域内において、二点が同時に接触することは極めて稀である。従って、同一の分割された領域内に接触点が二点であるものと判断された場合には、前回の座標位置の検出の際に、少なくとも一点の接触点が存在していたものと想定される。よって、前回の接触点における座標位置を基準として、新たに接触した座標位置を算出する。尚、前回の接触点の位置情報については、不図示のホストコンピュータ内のメモリ等により保存されている。例えば、図９に示す場合では、領域２２ｂでは、Ａ点とＢ点の二点の接触点において接触しているが、このうちどちらか一方は、前回も接触していた可能性が高い。また、透明導電膜２２が分割された領域２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆは、Ｘ軸方向に短くＹ軸方向に長く形成されており、短時間で接触点は移動しないものと考えることができる。よって、前回も接触していた接触点に基づき他の接触点のＹ座標を検出する。例えば、領域２２ｂにおいては、Ａ点のみが前回の座標位置検出で検出された場合においては、前回検出されたＡ点におけるＹ座標位置をＹａとし、ステップ１０８において検出された電位により算出された座標位置（Ａ点とＢ点の中点の座標位置）をＹｘとした場合、Ｂ点のＹ座標位置となるＹｂは、（１）式により算出することができる。

Ｙｂ＝２×Ｙｘ−Ｙａ・・・・・・・・・・・・（１）

以上より、Ｂ点のＹ座標位置を算出することができる。

このようにして、本実施の形態では、タッチパネルにおける接触点が複数の場合であっても、各々の接触点における座標位置の検出を行うことができる。

尚、本実施の形態では、ステップ１０２からステップ１１４を連続して繰り返し行うことにより、接触点の移動状態を把握することができる。また、ステップ１０２からステップ１１４における動作の周期を短くすることにより、同一の領域内に同時に二点が接触点する確率を減少させることができる。

次に、図１０に基づき、本実施の形態におけるステップ１０２からステップ１１４を繰り返し行った場合において、ステップ１０８からステップ１１４の動作について、より詳しく説明する。

図１０は、透明導電膜２２における任意の領域において、ステップ１０８で検出される電位と電流及び電流と電圧より検出される接触点との関係を示すものである。尚、Ｔ１〜Ｔ９は、同一の領域における検出電流、検出電圧、電流値による判断、押下箇所の状態を時系列に並べたものである。また、本実施の形態におけるタッチパネルにおいては、一点で接触している場合には、電流値は１Ａが検出され、二点で接触している場合には、電流値が２Ａ流れるように設定されている。

最初に、Ｔ１では、検出される電流値は１Ａで、電圧値は４Ｖとなる場合である。この場合、領域内における接触点は一点であるものと判断され、接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において４Ｖとなる位置であるものと判断される。尚、Ｔ１以前では、この領域内において接触点は存在していないものとする。

次に、Ｔ２では、検出される電流値は２Ａで、電圧値は３Ｖとなる場合である。この場合、領域内における接触点は二点であり、一方の接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において４Ｖとなる位置であるものと判断され、他方の接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において２Ｖとなる位置であるものと判断される。

次に、Ｔ３では、検出される電流値は２Ａで、電圧値は３Ｖとなる場合である。この場合、Ｔ２の状態が継続しているものと判断され、領域内における接触点は二点であり、一方の接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において４Ｖとなる位置であり、他方の接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において２Ｖとなる位置であるものと判断される。

次に、Ｔ４では、検出される電流値は１Ａで、電圧値は２Ｖとなる場合である。この場合、領域内における接触点は一点であるものと判断され、接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において２Ｖとなる位置であるものと判断される。

次に、Ｔ５では、検出される電流値０Ｖで、電圧値が検出されない場合である。この場合、領域内における接触点は存在していないものと判断される。

次に、Ｔ６では、検出される電流値は１Ａで、電圧値は４Ｖとなる場合である。この場合、領域内における接触点は一点であるものと判断され、接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において４Ｖとなる位置であるものと判断される。

次に、Ｔ７では、検出される電流値は２Ａで、電圧値は３Ｖとなる場合である。この場合、領域内における接触点は二点であり、一方の接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において４Ｖとなる位置であるものと判断され、他方の接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において２Ｖとなる位置であるものと判断される。

次に、Ｔ８では、検出される電流値は１Ａで、電圧値は４Ｖとなる場合である。この場合、領域内における接触点は一点であるものと判断され、接触点のＹ座標の位置はＹ軸方向の電位分布において４Ｖとなる位置であるものと判断される。

次に、Ｔ９では、検出される電流値０Ｖで、電圧値が検出されない場合である。この場合、領域内における接触点は存在していないものと判断される。

以上のように、本実施の形態では、ステップ１０２からステップ１１４を連続して繰り返し行うことにより、タッチパネルにおける複数の接触点の位置座標を検出することができる。

〔第２の実施の形態〕
（タッチパネル）
次に、第２の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図１１は、本実施の形態におけるタッチパネルの構成図であり、図１１（ａ）は、本実施の形態における上部電極基板における構成図であり、図１１（ｂ）は、本実施の形態における下部電極基板における構成図である。

上部電極基板１１０における透明導電膜１１２は、長手方向（Ｘ軸方向）において、短手方向（Ｙ軸方向）に延びるように、各々の領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆに分割されている。具体的には、各々の領域間における透明導電膜を除去することにより分割されている。分割された各々の領域１１２ａ、１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆには、電気配線１１３が各々接続されており、この電気配線１１３はコネクタを有する接続部１１４を介し、制御回路及びホストコンピュータ等に接続されている。尚、本実施の形態では、電気配線１１３は、フレキシブル基板により構成されている。

一方、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２は、短手方向（Ｙ軸方向）に沿って、長手方向（Ｘ軸方向）において、各々の領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆに分割されている。具体的には、各々の領域間における透明導電膜を除去することにより分割されている。また、下部電極基板１２０の短手方向の両端には、長手方向（Ｘ軸方向）に延びるよう抵抗膜１２３及び１２４が設けられている。抵抗膜１２３の一方の端部（電極）１２３ａは５Ｖに接続されており、他方の端部（電極）１２３ｂはスイッチ１２５に接続されている。また、抵抗膜１２４の一方の端部（電極）１２４ａはスイッチ１２６に接続されており、他方の端部（電極）１２４ｂはスイッチ１２７に接続されている。

尚、下部電極基板１２０において、透明導電膜１２２の分割された領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆは、上部電極基板１１０において、透明導電膜１１２の分割された領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆに対応するものである。このように、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２及び上部電極基板１１０における透明導電膜１１２をともに分割することにより、隣接する領域の影響を受けることなく正確に接触点の座標位置の検出を行うことができる。

（位置検出方法）
次に、本実施の形態におけるタッチパネルを用いた位置検出方法について説明する。図１２は、本実施の形態におけるタッチパネルを用いた位置検出方法のフローチャートである。

最初に、ステップ２０２（Ｓ２０２）に示すように、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２において、全体が５Ｖのとなるように電圧を印加する。具体的には、図１３に示すように、スイッチ１２５、スイッチ１２６及びスイッチ１２７を全て５Ｖに接続する。これにより、抵抗膜１２３の一方の端部１２３ａと抵抗膜１２４の一方の端部１２４ａ及び抵抗膜１２３の他方の端部１２３ｂと抵抗膜１２４の他方の端部１２４ｂには５Ｖの電圧が印加される。従って、透明導電膜１２２の分割された領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆの全体に５Ｖ電圧が印加されている。尚、図１３（ａ）は、本実施の形態における上部電極基板における構成図であり、図１３（ｂ）は、本実施の形態における下部電極基板における構成図である。

次に、ステップ２０４（Ｓ２０４）に示すように、接触点のＸ座標が検出される。例えば、図１３に示すように、Ａ点、Ｂ点、Ｃ点の３点で接触している場合では、上部電極基板１１０における透明導電膜１１２の分割された領域１１２ｂ及び１１２ｅにおいて電位が検出される。よって、上部電極基板１１０における透明導電膜１１２の分割された領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆの各々の領域において電位を検出することにより位置検出を行うことができる。尚、各々の領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆには接続部１１４を介し対応した電圧計が接続されているか、または、各々の領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆと電圧計とが接続部１１４及び不図示のマルチプレクサを介し接続されている。また、各々の領域において接触点が存在していない場合においては、電圧計により電位が検出されない。

図１３に示す場合においては、Ｃ点の接触点は、領域１２２ｅ内において接触しており、タッチパネル全体におけるおおよそのＸ座標の位置を知ることができる。また、Ａ点及びＢ点の接触点は、領域１２２ｂ内において接触しており、タッチパネル全体におけるおおよそのＸ座標の位置を知ることができる。

尚、透明導電膜１１２及び透明導電膜１２２におけるＸ軸方向の分割数をより細かくすることにより、分割された同一の領域内に接触点が二点以上存在することとなる確率を減らすことができる。また、より正確に接触点のＸ座標の位置を検出することができる。以上により、Ａ点、Ｂ点及びＣ点におけるおおよそのＸ座標を得ることができる。また、この段階においては、領域１２２ｂにおける接触点がＡ点とＢ点の二点であることは認識することができない。

次に、ステップ２０６（Ｓ２０６）に示すように、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２において、Ｙ軸方向に電位分布が生じるよう電圧を印加する。具体的には、図１４に示すように、スイッチ１２５を５Ｖに接続し、スイッチ１２６を０Ｖに接続（接地）し、スイッチ１２７を０Ｖに接続（接地）する。これにより、抵抗膜１２３の一方の端部１２３ａと他方の端部１２３ｂは５Ｖの電圧が印加され、抵抗膜１２３全体に５Ｖの電圧が印加される。一方、抵抗膜１２４の一方の端部１２４ａと他方の端部１２４ｂは０Ｖの電圧が印加され、抵抗膜１２４全体に０Ｖの電圧が印加される。このようにして、透明導電膜１２２の分割された領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆにおいて、Ｙ軸方向における電位勾配を生じさせる。尚、図１４（ａ）は、本実施の形態における上部電極基板における構成図であり、図１４（ｂ）は、本実施の形態における下部電極基板における構成図である。

次に、ステップ２０８（Ｓ２０８）に示すように、上部電極基板１１０において電位及び電流の検出を行う。具体的には、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２の分割された領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆごと、即ち、上部電極基板１１０における透明導電膜１１２の分割された領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆごとに、電位の測定と電流量の計測が行われる。尚、各々の領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆは接続部１１４を介し対応した電流が設けられているか、あるいは、各々の領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆと電流計とが、接続部１１４及び不図示のマルチプレクサを介し接続されている。

次に、ステップ２１０（Ｓ２１０）に示すように、各々の領域内における接触点の数が、一点であるか二点以上であるか判断される。具体的には、ステップ２０８において計測した電流量に基づき判断される。即ち、各々の領域内において接触点が二点以上である場合は、電流量が増加する。よって、所定の電流量よりも多く流れる場合には、領域内における接触点は二点以上であるものと判断される。一方、流れる電流量が所定の電流量よりも少ない場合には、領域内における接触点は一点であるものと判断される。従って、ステップ２０８において計測された電流量が所定の値よりも大きい場合はステップ２１２に移行し、ステップ２０８において計測された電流量が所定の値に満たない場合はステップ２１４に移行する。例えば、図１４に示す場合において、領域１２２ｅのように、Ｃ点の一点のみが接触点となる場合には、流れる電流量が少ないためステップ２１２に移行し、領域１２２ｂのように、Ａ点とＢ点の二点の接触点を有する場合には、流れる電流量が多いためステップ２１４に移行する。

次に、ステップ２１２（Ｓ２１２）に示すように、接触点におけるＹ座標の座標位置が検出される。即ち、ステップ２１０において、領域内における接触点が一点であるものと判断されているため、ステップ２０８において検出した各々の領域における電位に基づき、領域内における接触点のＹ座標の位置が算出される。具体的には、図１４において、領域１２２ｅには接触点がＣ点の一点のみであるため、透明導電膜１１２における領域１１２ｅにおいて検出された電位に基づきＣ点におけるＹ座標が検出される。

次に、ステップ２１４（Ｓ２１４）に示すように、接触点における他のＹ座標の位置が算出される。ところで、通常分割された狭い領域内において、二点が同時に接触することは極めて稀である。従って、同一の分割された領域内に接触点が二点であるものと判断された場合には、前回の座標位置の検出の際に、少なくとも一点の接触点が存在していたものと想定される。よって、前回の接触点における座標位置を基準として、新たに接触した座標位置を算出する。尚、前回の接触点の位置情報については、不図示のホストコンピュータ内のメモリ等により保存されている。例えば、図１４に示す場合では、領域１２２ｂでは、Ａ点とＢ点の二点の接触点において接触しているが、このうちどちらか一方は、前回も接触していた可能性が高い。よって、前回も接触していた接触点に基づき他の接触点のＹ座標を検出する。例えば、領域１２２ｂにおいては、Ａ点のみが前回の座標位置検出で検出された場合においては、前回検出されたＡ点におけるＹ座標位置をＹａとし、ステップ２０８において検出された電位により算出された座標位置（Ａ点とＢ点の中点の座標位置）をＹｘとした場合、Ｂ点のＹ座標位置となるＹｂは、前述の（１）式により算出することができる。

以上より、Ｂ点のＹ座標位置を算出することができる。

このようにして、本実施の形態では、タッチパネルにおける接触点が複数の場合であっても、各々の接触点における座標位置の検出を行うことができる。

尚、本実施の形態では、ステップ２０２からステップ２１４を連続して繰り返し行うことにより、接触点の移動状態を把握することができる。また、ステップ２０２からステップ２１４における動作の周期を短くすることにより、同一の領域内に同時に二点が接触点する確率を減少させることができる。

尚、上記以外の内容については、第１の実施の形態と同様である。

〔第３の実施の形態〕
次に、第３の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第２の実施の形態と同様のタッチパネルを用いた接触点における座標位置の検出方法である。図１５は、本実施の形態におけるタッチパネルを用いた位置検出方法のフローチャートである。

最初に、ステップ３０２（Ｓ３０２）に示すように、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２において、Ｘ軸方向に電位分布が生じるよう電圧を印加する。具体的には、図１６に示すように、スイッチ１２５を０Ｖに接続（接地）し、スイッチ１２６を５Ｖに接続し、スイッチ１２７を０Ｖに接続（接地）する。これにより、抵抗膜１２３の一方の端部１２３ａと抵抗膜１２４の一方の端部１２４ａには５Ｖの電圧が印加され、抵抗膜１２３の他方の端部１２３ｂと抵抗膜１２４の他方の端部１２４ｂには０Ｖの電圧が印加される。従って、透明導電膜１２２の分割された領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆにおいては、印加される電圧の値が、領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆの順に高くなっている。

次に、ステップ３０４（Ｓ３０４）に示すように、接触点のＸ座標が検出される。例えば、図１６に示すように、Ａ点、Ｂ点、Ｃ点の３点で接触している場合では、上部電極基板１１０における透明導電膜１１２の分割された領域１１２ｂ及び１１２ｅにおいて電位が検出される。従って、上部電極基板１１０における透明導電膜１１２の分割された領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆの各々の領域において電位を検出することにより位置検出を行うことができる。尚、各々の領域において接触点が存在していない場合においては、電圧計により電位が検出されない。また、図１６（ａ）は、本実施の形態における上部電極基板における構成図であり、図１６（ｂ）は、本実施の形態における下部電極基板における構成図である。

図１６に示す場合においては、Ｃ点の接触点は、領域１２２ｅ内において一点で接触しており、更に、領域１２２ｅ内においてもＸ軸方向に電位分布が生じているため、領域１１２ｅより測定される電位により、Ｃ点における正確な座標位置を検出することが可能である。また、領域１２２ｂ内においても同様に電位分布が生じているが、領域１１２ｂより検出される電位は、Ａ点とＢ点の中間地点の電位である。従って、同一の領域内において接触点が二点以上の場合では、各々の接触点の正確な座標位置を検出することはできないものの、Ａ点及びＢ点は、領域１１２ｂ内で接触していることから、タッチパネル全体におけるおおよそのＸ座標の位置を知ることができる。

尚、透明導電膜１１２及び透明導電膜１２２におけるＸ軸方向の分割数をより細かくすることにより、分割された同一の領域内に接触点が二点以上存在することとなる確率を減らすことができる。また、より正確に接触点のＸ座標の位置を検出することができる。以上により、Ｃ点におけるＸ座標及びＡ点、Ｂ点におけるおおよそのＸ座標を得ることができる。また、この段階においては、領域１２２ｂにおける接触点がＡ点とＢ点の二点であることは認識することができない。

次に、ステップ３０６（Ｓ３０６）に示すように、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２において、全体が５Ｖのとなるように電圧を印加する。具体的には、図１３に示すように、スイッチ１２５、スイッチ１２６及びスイッチ１２７を全て５Ｖに接続する。これにより、抵抗膜１２３の一方の端部１２３ａと抵抗膜１２４の一方の端部１２４ａ及び抵抗膜１２３の他方の端部１２３ｂと抵抗膜１２４の他方の端部１２４ｂには５Ｖの電圧が印加される。従って、透明導電膜１２２の分割された領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆにおいて全体に５Ｖ電圧が印加されている。

次に、ステップ３０８（Ｓ３０８）に示すように、電流量の検出が行われる。具体的には、透明導電膜１２２は全体的に５Ｖの電圧が印加されているため、各々の接触点における電流量が検出される。例えば、図１３に示すように、Ａ点、Ｂ点、Ｃ点の３点で接触している場合では、上部電極基板１１０における透明導電膜１１２の分割された領域１１２ｂ及び１１２ｅにおいて電流が検出される。領域１１２ｂではＡ点とＢ点の２点において接触しているため電流量は多く、領域１１２ｅではＣ点の一点において接触しているため電流量は少ない。尚、接触点を有しない領域１２２ａ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｆにおいては電流が流れない。

次に、ステップ３１０（Ｓ３１０）に示すように、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２において、Ｙ軸方向に電位分布が生じるよう電圧を印加する。具体的には、図１４に示すように、スイッチ１２５を５Ｖに接続し、スイッチ１２６を０Ｖに接続（接地）し、スイッチ１２７を０Ｖに接続（接地）する。これにより、抵抗膜１２３の一方の端部１２３ａと他方の端部１２３ｂは５Ｖの電圧が印加され、抵抗膜１２３全体に５Ｖの電圧が印加される。一方、抵抗膜１２４の一方の端部１２４ａと他方の端部１２４ｂは０Ｖの電圧が印加され、抵抗膜１２４全体に０Ｖの電圧が印加される。このようにして、透明導電膜１２２の分割された領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆにおいて、Ｙ軸方向における電位勾配を生じさせる。

次に、ステップ３１２（Ｓ３１２）に示すように、上部電極基板１１０において電位の検出を行う。具体的には、下部電極基板１２０における透明導電膜１２２の分割された領域１２２ａ、１２２ｂ、１２２ｃ、１２２ｄ、１２２ｅ、１２２ｆごと、即ち、上部電極基板１１０における透明導電膜１１２の分割された領域１１２ａ、１１２ｂ、１１２ｃ、１１２ｄ、１１２ｅ、１１２ｆごとに、電位の測定が行われる。

次に、ステップ３１４（Ｓ３１４）に示すように、各々の領域内における接触点の数が、一点であるか二点以上であるか判断される。具体的には、ステップ３０８において計測した電流量に基づき判断される。即ち、各々の領域内において接触点が二点以上である場合は、電流量が増加する。よって、所定の電流量よりも多く流れる場合には、領域内における接触点は二点以上であるものと判断される。一方、流れる電流量が所定の電流量よりも少ない場合には、領域内における接触点は一点であるものと判断される。従って、ステップ３０８において計測された電流量が所定の値よりも大きい場合はステップ３１８に移行し、ステップ３０８において計測された電流量が所定の値に満たない場合はステップ３１６に移行する。

次に、ステップ３１６（Ｓ３１６）に示すように、接触点におけるＹ座標の座標位置が検出される。即ち、ステップ３１４において、領域内における接触点が一点であるものと判断されているため、ステップ３１２において検出した各々の領域における電位に基づき、領域内における接触点のＹ座標の位置が算出される。具体的には、図１４において、領域１２２ｅには接触点がＣ点の一点のみであるため、透明導電膜１１２における領域１１２ｅにおいて検出された電位に基づきＣ点におけるＹ座標が検出される。

次に、ステップ３１８（Ｓ３１８）に示すように、接触点における他のＹ座標の位置が算出される。ところで、通常分割された狭い領域内において、二点が同時に接触することは極めて稀である。従って、同一の分割された領域内に接触点が二点であるものと判断された場合には、前回の座標位置の検出の際に、少なくとも一点の接触点が存在していたものと想定される。よって、前回の接触点における座標位置を基準として、新たに接触した座標位置を算出する。尚、前回の接触点の位置情報については、不図示のホストコンピュータ内のメモリ等により保存されている。例えば、図１４に示す場合では、領域１２２ｂでは、Ａ点とＢ点の二点の接触点において接触しているが、このうちどちらか一方は、前回も接触していた可能性が高い。よって、前回も接触していた接触点に基づき他の接触点のＹ座標を検出する。例えば、領域１２２ｂにおいては、Ａ点のみが前回の座標位置検出で検出された場合においては、前回検出されたＡ点におけるＹ座標位置をＹａとし、ステップ３１２において検出された電位により算出された座標位置（Ａ点とＢ点の中点の座標位置）をＹｘとした場合、Ｂ点のＹ座標位置となるＹｂは、（１）式により算出することができる。以上より、Ｂ点のＹ座標位置を算出することができる。

このようにして、本実施の形態では、タッチパネルにおける接触点が複数の場合であっても、各々の接触点における座標位置の検出を行うことができる。

尚、本実施の形態では、ステップ３０２からステップ３１８を連続して繰り返し行うことにより、接触点の移動状態を把握することができる。また、ステップ３０２からステップ３１８における動作の周期を短くすることにより、同一の領域内に同時に二点が接触点する確率を減少させることができる。尚、上記以外の内容については、第２の実施の形態と同様である。

本実施の形態では、電流量の測定と電位の測定を分離して行うことにより、タッチパネルにおける接触点が一点であるか二点以上であるかをより正確に把握することができる。

以上、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。

本発明は、抵抗膜式タッチパネルに適用することができ、各種情報処理機器のディスプレイが、抵抗膜式タッチパネルで構成される場合に有用である。この場合の情報処理機器の例としては、携帯電話、情報携帯端末（ＰＤＡ）、携帯音楽プレイヤー、携帯画像プレイヤー、携帯ブラウザ、ワンセグチューナー、電子辞書、カーナビゲーションシステム、コンピュータ、ＰＯＳ端末、在庫管理端末、ＡＴＭ、各種マルチメディア端末等がある。

１０ 上部電極基板
１１ フィルム
１２ 透明導電膜
１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅ、１２ｆ 分割された領域
１３ 電気配線
１４ 接続部
２０ 下部電極基板
２１ ガラス
２２ 透明導電膜
２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄ、２２ｅ、２２ｆ 分割された領域
２３ 抵抗膜
２３ａ 電極（一方の端部）
２３ｂ 電極（他方の端部）
２４ 抵抗膜
２４ａ 電極（一方の端部）
２４ｂ 電極（他方の端部）
２５ スイッチ
２６ スイッチ
３１ スペーサ

Claims (10)

1. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
   第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
   前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四隅に各々設けられた４つの電極と、
   を有し、前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して配置されるタッチパネルにおいて、
   前記上部導電膜は、一方の方向に沿った複数の領域に分割されており、
   前記下部導電膜は、前記複数の領域に対応する位置において、前記複数の領域と略同一の形状に分割されており、
   前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、
   前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、
   前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されていることを特徴とするタッチパネル。
2. 前記抵抗膜におけるシート抵抗は、１０Ω／□以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
3. 前記一方の方向は短手方向であって、前記他方の方向は長手方向であることを特徴とする請求項１または２に記載のタッチパネル。
4. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
   第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
   前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四隅に各々設けられた４つの電極と、を有し、
   前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して配置されており、
   前記上部導電膜は、一方の方向に沿った複数の領域に分割されており、
   前記下部導電膜は、前記複数の領域に対応する位置において、前記複数の領域と略同一の形状に分割されているタッチパネルにおける座標位置検出方法において、
   前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、
   前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、
   前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されているものであって、
   前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向とは垂直方向となる他方の方向に電位分布を生じさせる第１の電位勾配形成工程と、
   前記第１の電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位を検出し、前記検出された電位に基づき前記他方の方向における座標位置を検出する第１の位置検出工程と、
   前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向に電位分布を生じさせる第２の電位勾配形成工程と、
   前記第２の電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位及び電流値を検出する電位電流検出工程と、
   前記電位電流検出工程において検出された電位に基づき前記一方の方向における座標位置を検出する第２の位置検出工程と、
   を有することを特徴とする座標位置検出方法。
5. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
   第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
   前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四隅に各々設けられた４つの電極と、を有し、
   前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して配置されており、
   前記上部導電膜は、一方の方向に沿った複数の領域に分割されており、
   前記下部導電膜は、前記複数の領域に対応する位置において、前記複数の領域と略同一の形状に分割されているタッチパネルにおける座標位置検出方法において、
   前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、
   前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、
   前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されているものであって、
   前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、一様に電位分布を生じさせる電位形成工程と、
   前記電位形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位を検出し、前記検出された電位に基づき前記一方の方向とは垂直方向となる他方の方向の座標位置を検出する第１の位置検出工程と、
   前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向に電位分布を生じさせる電位勾配形成工程と、
   前記電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位及び電流値を検出する電位電流検出工程と、
   前記電位電流検出工程において検出された電位に基づき前記一方の方向における座標位置を検出する第２の位置検出工程と、
   を有することを特徴とする座標位置検出方法。
6. 第１の基板上に形成された上部導電膜を有する上部電極基板と、
   第２の基板上に形成された下部導電膜を有する下部電極基板と、
   前記下部導電膜おいて電位分布を生じさせるために前記下部導電膜の四隅に各々設けられた４つの電極と、を有し、
   前記上部導電膜と前記下部導電膜とは対向して配置されており、
   前記上部導電膜は、一方の方向に沿った複数の領域に分割されており、
   前記下部導電膜は、前記複数の領域に対応する位置において、前記複数の領域と略同一の形状に分割されているタッチパネルにおける座標位置検出方法において、
   前記上部導電膜及び前記下部導電膜は略正方形又は略長方形の形状であって、
   前記下部導電膜の一方の方向の両端には、前記一方の方向に垂直な他方の方向に沿った２本の抵抗膜が設けられており、
   前記２本の抵抗膜の両端には、前記４つの電極が各々接続されているものであって、
   前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向とは垂直方向となる他方の方向に電位分布を生じさせる第１の電位勾配形成工程と、
   前記第１の電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位を検出し、前記検出された電位に基づき前記他方の方向における座標位置を検出する第１の位置検出工程と、
   前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、一様に電位分布を生じさせる電位形成工程と、
   前記電位形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電流値を検出する電流検出工程と、
   前記４つの電極を介し、前記下部導電膜に、前記一方の方向に電位分布を生じさせる第２の電位勾配形成工程と、
   前記第２の電位勾配形成工程における電位分布が生じている状態で、前記上部導電膜より各々の分割された領域における電位を検出する電位検出工程と、
   前記電位検出工程において検出された電位に基づき一方の方向における座標位置を検出する第２の位置検出工程と、
   を有することを特徴とする座標位置検出方法。
7. 前記電位電流検出工程において検出された電流量に基づき前記分割された領域内において、一点接触であるか多点接触であるかを判断する判断工程を有することを特徴とする請求項４または５に記載の座標位置検出方法。
8. 前記座標位置検出方法における各々の工程は、順次繰り返し行われるものであって、
   前記判断工程において、前記分割された領域内において多点接触であるものと判断された場合には、前記電位電流検出工程において検出された電位に基づき算出される座標位置をＹｘとし、前回行われた第２の座標位置検出工程において検出された座標位置Ｙａを前記多点接触の一方の接触点の座標位置とし、前記多点接触の他方の接触点の座標位置をＹｂは、
   Ｙｂ＝２×Ｙｘ−Ｙａ
   により算出するものであることを特徴とする請求項７に記載の座標位置検出方法。
9. 前記電流検出工程において検出された電流量に基づき前記分割された領域内において、一点接触であるか多点接触であるかを判断する判断工程を有することを特徴とする請求項６に記載の座標位置検出方法。
10. 前記座標位置検出方法における各々の工程は、順次繰り返し行われるものであって、
    前記判断工程において、前記分割された領域内において多点接触であるものと判断された場合には、前記電位検出工程において検出された電位に基づき算出される座標位置をＹｘとし、前回行われた第２の座標位置検出工程において検出された座標位置Ｙａを前記多点接触の一方の接触点の座標位置とし、前記多点接触の他方の接触点の座標位置をＹｂは、
    Ｙｂ＝２×Ｙｘ−Ｙａ
    により算出するものであることを特徴とする請求項９に記載の座標位置検出方法。

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