JP2010243629A - 液晶装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液晶装置100では、第2基板20側から入射した光は反射性画素電極9aで反射して第2基板20の側から出射される間に液晶層50によって光変調される。また第2基板20側から入射した光のうち、反射性画素電極9aの間に入射した光は、反射性画素電極9aによって挟まれた隙間9sに設けられた絶縁性反射層73aによって反射して第2基板20側から出射させる。
【選択図】図4
Description
(全体構成)
図1は、本発明を適用した投射型表示装置(電子機器)の光学系の構成を示す説明図である。図1に示す投射型表示装置1000において、光源部890は、システム光軸Lに沿って光源810、インテグレーターレンズ820および偏光変換素子830が配置された偏光照明装置800を有している。また、光源部890は、システム光軸Lに沿って、偏光照明装置800から出射されたS偏光光束をS偏光光束反射面841により反射させる偏光ビームスプリッター840と、偏光ビームスプリッター840のS偏光光束反射面841から反射された光のうち、青色光(B)の成分を分離するダイクロイックミラー842と、青色光が分離された後の光束のうち、赤色光(R)の成分を反射させて分離するダイクロイックミラー843とを有している。
図2は、図1に示す投射型表示装置に用いられる液晶装置の電気的構成を示すブロック図である。図3(a)、(b)は各々、図1に示す投射型表示装置に用いられる液晶装置の液晶パネルを各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのH−H′断面図である。
図4(a)、(b)は各々、本発明を適用した反射型の液晶装置100に用いた第1基板10に設けられた複数の画素の平面図、およびそのA−A′線に相当する位置で液晶装置100を切断したときの断面図である。なお、図4(a)において、データ線6aは一点鎖線で示し、走査線3aおよび容量線3bは実線で示し、半導体層1aは細い点線で示し、反射性画素電極9aについては二点鎖線で示してある。
図5は、本発明を適用した液晶装置に用いた絶縁性反射層(誘電体多層膜/誘電体ミラー)の説明図である。
低屈折率層
フッ化マグネシウム(MgF2)/屈折率=1.38
二酸化シリコン(SiO2)/屈折率=1.46
フッ化ランタン(LaF3)/屈折率=1.59
酸化アルミニウム(Al2O3)/屈折率=1.62
フッ化セリウム(CeF3)/屈折率=1.63
高屈折率層
酸化インジウム(In2O3)/屈折率=2.00
窒化シリコン(SiN)/屈折率=2.05
酸化チタン(TiO2)/屈折率=2.10
酸化ジルコニウム(ZrOF2)/屈折率=2.10
酸化タンタル(Ta2O5)/屈折率=2.10
酸化タングステン(WO3)/屈折率=2.35
硫化亜鉛(ZnS)/屈折率=2.35
酸化セリウム(CeO2)/屈折率=2.42
の単一系や混合系が用いられる。
以下、図6を参照して、本発明を適用した液晶装置100の製造方法を説明しながら、液晶装置100の構成を詳述する。図6は、本発明を適用した液晶装置100の製造方法を示す工程断面図であり、反射性画素電極9aを形成した後、絶縁性反射層73aを形成するまでの工程を示している。
以上説明したように、本形態の液晶装置100は、反射型液晶装置であり、第2基板20側から入射した光は反射性画素電極9aで反射して第2基板20の側から出射される間に液晶層50によって光変調される。従って、第2基板20側から入射した光のうち、互いに隣り合う反射性画素電極9aの間に入射した光は反射性画素電極9aで反射されないことになる。しかるに本形態の液晶装置100では、反射性画素電極9aによって挟まれた隙間9s内に絶縁性反射層73aが設けられているため、反射性画素電極9aの間に入射した光は、絶縁性反射層73aによって反射されて第2基板20側から出射される。それ故、反射性画素電極9aの間に入射した光についても画像の表示に寄与させることができるので、明るい画像を表示することができる。
上記実施の形態では、液晶装置100を、図1に示す投射型表示装置1000のライトバルブ(赤色光変調用の液晶装置100R、緑色光変調用の液晶装置100G、青色光変調用の液晶装置100B)として用いたが、以下に説明する電子機器の直視型表示装置に液晶装置100を用いてもよい。
上記実施の形態では、図6(b)に示すように誘電体多層膜73を形成した後、研磨工程を行なって、隙間9sを絶縁性反射層73aによって埋めたが、誘電体多層膜73を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いて誘電体多層膜73をパターニングして絶縁性反射層73aを形成してもよい。この場合、反射性画素電極9aの端部に絶縁性反射層73aが重なった構造となることがあるが、かかる構造であっても、反射性画素電極9aの間に入射した光を絶縁性反射層73aによって反射して第2基板20側から出射できるという効果を奏する。また、絶縁性反射層73aが反射性画素電極9aよりも薄い場合には隙間9s内の一部のみに絶縁性反射層73aが形成され、凹部が形成されることがあるが、かかる構造であっても、反射性画素電極9aの間に入射した光を絶縁性反射層73aによって反射して第2基板20側から出射できるという効果を奏する。
Claims (7)
- 一方の基板面に反射性画素電極が複数設けられた第1基板と、
前記第1基板の前記基板面に対向する透光性の第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に保持された液晶層と、
を有する液晶装置であって、
前記第1基板には、互いに隣り合う前記反射性画素電極によって挟まれた隙間内に絶縁性反射層が設けられていることを特徴とする液晶装置。 - 前記反射性画素電極によって挟まれた前記隙間は前記絶縁性反射層によって埋められ、
前記反射性画素電極の表面と前記絶縁性反射層の表面は連続した平坦面を形成していることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。 - 前記絶縁性反射層は、誘電体多層膜からなることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。
- 前記液晶装置に供給される色光に対応する波長域における前記絶縁性反射層の反射率は、該色光に対応する波長域とは異なる波長における前記絶縁性反射層の反射率よりも高いことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の液晶装置。
- 請求項1乃至4の何れか一項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
- 請求項1乃至4の何れか一項に記載の液晶装置を複数備え、
前記複数の液晶装置のうち第1の液晶装置に第1の色光を供給し、前記複数の液晶装置のうち第2の液晶装置に第1の色光とは異なる色の第2の色光を供給する光源部と、
前記複数の液晶装置によって光変調された光を合成する合成手段と、
前記合成手段によって合成された光を投射する投射光学系と、
を備えていることを特徴とする電子機器。 - 前記第1の液晶装置に設けられた前記絶縁性反射層の反射率の波長依存性は、前記第2の液晶装置に設けられた前記絶縁性反射層の反射率の波長依存性とは異なることを特徴とする請求項6に記載の電子機器。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013083922A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-05-09 | Fujifilm Corp | 液晶表示装置及び光学フィルム |
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JPWO2017022142A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-11-30 | 三菱電機株式会社 | 半導体レーザ装置 |
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-
2009
- 2009-04-02 JP JP2009089818A patent/JP2010243629A/ja active Pending
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