JP2010238975A - 半導体装置とその製造方法 - Google Patents
半導体装置とその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010238975A JP2010238975A JP2009086340A JP2009086340A JP2010238975A JP 2010238975 A JP2010238975 A JP 2010238975A JP 2009086340 A JP2009086340 A JP 2009086340A JP 2009086340 A JP2009086340 A JP 2009086340A JP 2010238975 A JP2010238975 A JP 2010238975A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate electrode
- semiconductor device
- electrode
- mesa
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Abstract
【解決手段】オーミック電極10を形成する前にゲート電極12を形成することで、オーミック電極10間の狭い領域にレジストパターンの開口部を設ける必要がなくなり、レジスト溜まりが生じにくい構造となっている。また、ゲート電極12をメサの平坦な領域にのみ形成し、その分チャネル層3のサイドエッチング量を大きくしてチャネル層幅がゲート電極幅よりも小さくされている。ゲート電極12を平坦な領域のみに形成することで、ゲート電極12の厚膜化とゲート電極形成用のレジスト塗布後膜厚の均一化を両立可能にしている。ゲート電極の断線が極めて少なく、ゲート電極形成工程におけるレジストパターニング精度が改善された、ウェハ面内の特性ばらつきの少ない半導体装置を実現している。
【選択図】図3
Description
図3(a)〜(o)に、本発明の実施形態1に係る半導体装置の製造工程を示す。実施形態1では、基板1としてGaAsを、チャネル層3としてInGaAsを用いている。
図4(a)〜(k)に、本発明の実施形態2に係る半導体装置の製造工程を示す。実施形態2では、基板1としてGaAsを、チャネル層3としてInGaAsを用いている。
2 バッファ層
3 チャネル層
4 スペーサー層
5 電子供給層
6 バリア層
7 キャップ層
8 メサ分離工程のレジスト
9 オーミック電極形成工程のレジスト
10 オーミック電極
11 ゲート電極形成工程のレジスト
12 ゲート電極
13 ゲート取り出し電極
Claims (9)
- 半導体基板上に設けられ、チャネル層及びバリア層を有するメサと、
前記メサ上に設けられたソース電極、ドレイン電極およびゲート電極と、
を備えた半導体装置であって、
前記半導体装置の平面視において、前記ゲート電極全体が、前記バリア層と重なる位置に配置され、かつ、前記ゲート電極の延在方向の長さが、前記ゲート電極の下に存在する前記チャネル層の該延在方向の長さより、長いことを特徴とする半導体装置。 - 前記ゲート電極と、ゲート取り出し電極とが、前記メサの上部で接続されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 半導体基板上にチャネル層及びバリア層が設けられており、前記チャネル層の一部には、イオン注入を施した不活性領域が設けられ、他の一部にはイオン注入を受けていない活性領域が設けられており、
前記活性領域上にはソース電極、ドレイン電極およびゲート電極と、が設けられた半導体装置であって、
前記ゲート電極の延在方向の長さが、前記ゲート電極の下に存在する前記活性領域の該延在方向の長さと同一、または、より長いことを特徴とする半導体装置。 - 前記チャネル層および前記バリア層がIII‐V族化合物半導体から構成される請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置。
- チャネル層およびバリア層を有する半導体基板上に半導体装置を形成する半導体装置の製造方法であって、
前記半導体基板上にゲート電極を形成するゲート電極形成工程と、
前記ゲート電極形成工程の後に行われる、
前記半導体基板上の半導体装置間を電気的に分離するメサ分離工程と、
前記メサ上にソース電極とドレイン電極と、を形成するオーミック電極形成工程と、
前記ゲート電極と電気的に接続するゲート取り出し電極を形成するゲート取り出し電極形成工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記メサ分離工程は、
前記半導体基板上の半導体装置間を電気的に分離するメサ分離の工程用に用いるレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとしてウェットエッチングを施す工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
を含むことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記メサ分離工程は、
前記半導体基板上の半導体装置間を電気的に分離するメサ分離の工程用に用いるレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとしてドライエッチングを施す工程と、
前記レジストパターンを除去する工程と、
を含むことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記メサ分離工程は、前記メサ分離工程内のエッチング工程以降に、
前記ゲート電極の延在方向の長さが、前記ゲート電極の下に存在する前記チャネル層の該延在方向の長さより、長くなるように、前記バリア層をエッチングせずに、前記チャネル層を選択的にエッチングするウェットエッチング工程
を含むことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の半導体装置の製造方法。 - チャネル層およびバリア層を有する半導体基板上に半導体装置を形成する半導体装置の製造方法であって、
前記半導体基板上にゲート電極を形成するゲート電極形成工程と、
前記ゲート電極形成工程の後に行われる、
前記半導体基板上の半導体装置間を電気的に分離するイオン注入工程と、
前記メサ上にソース電極とドレイン電極と、を形成するオーミック電極形成工程と、
前記ゲート電極と電気的に接続するゲート取り出し電極を形成するゲート取り出し電極形成工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009086340A JP2010238975A (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | 半導体装置とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009086340A JP2010238975A (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | 半導体装置とその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010238975A true JP2010238975A (ja) | 2010-10-21 |
Family
ID=43093038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009086340A Pending JP2010238975A (ja) | 2009-03-31 | 2009-03-31 | 半導体装置とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010238975A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107787524A (zh) * | 2015-05-08 | 2018-03-09 | 雷声公司 | 具有有凹口的台面的场效应晶体管结构 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0355853A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-03-11 | Sony Corp | 高電子移動度電界効果トランジスタの製造方法 |
JPH03165576A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-17 | Nec Corp | 量子細線半導体装置およびその製造方法 |
JPH04298051A (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-21 | Sony Corp | 高電子移動度電界効果トランジスタ |
JPH05206456A (ja) * | 1992-01-29 | 1993-08-13 | Fujitsu Ltd | 電界効果型半導体装置とその製造方法 |
JPH06204259A (ja) * | 1993-01-06 | 1994-07-22 | Fujitsu Ltd | 化合物半導体装置の製造方法 |
JPH10261651A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-29 | Toyota Motor Corp | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
JP2001044217A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-16 | Kyocera Corp | 化合物半導体装置およびその製造方法 |
JP2001177060A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-29 | Nec Corp | モノリシック集積回路装置及びその製造方法 |
JP2002270821A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Fujitsu Ltd | 電界効果型半導体装置の製造方法 |
JP2003258004A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-12 | Fujitsu Ltd | メサ型半導体装置及びその製造方法 |
-
2009
- 2009-03-31 JP JP2009086340A patent/JP2010238975A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0355853A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-03-11 | Sony Corp | 高電子移動度電界効果トランジスタの製造方法 |
JPH03165576A (ja) * | 1989-11-24 | 1991-07-17 | Nec Corp | 量子細線半導体装置およびその製造方法 |
JPH04298051A (ja) * | 1991-03-27 | 1992-10-21 | Sony Corp | 高電子移動度電界効果トランジスタ |
JPH05206456A (ja) * | 1992-01-29 | 1993-08-13 | Fujitsu Ltd | 電界効果型半導体装置とその製造方法 |
JPH06204259A (ja) * | 1993-01-06 | 1994-07-22 | Fujitsu Ltd | 化合物半導体装置の製造方法 |
JPH10261651A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-29 | Toyota Motor Corp | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
JP2001044217A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-16 | Kyocera Corp | 化合物半導体装置およびその製造方法 |
JP2001177060A (ja) * | 1999-12-14 | 2001-06-29 | Nec Corp | モノリシック集積回路装置及びその製造方法 |
JP2002270821A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-20 | Fujitsu Ltd | 電界効果型半導体装置の製造方法 |
JP2003258004A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-12 | Fujitsu Ltd | メサ型半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107787524A (zh) * | 2015-05-08 | 2018-03-09 | 雷声公司 | 具有有凹口的台面的场效应晶体管结构 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1843390B1 (en) | Semiconductor device provided with mis structure and method for manufacturing the same | |
US9136107B2 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device | |
KR100985214B1 (ko) | 자기 정렬되어 선택적으로 식각된 이중 리세스형 고 전자이동도 트랜지스터 형성 방법 | |
US20110127604A1 (en) | Semiconductor device | |
JP2009200511A (ja) | 半導体の形成方法 | |
US20150144955A1 (en) | Isolated Gate Field Effect Transistor and Manufacture Method Thereof | |
JP2008288289A (ja) | 電界効果トランジスタとその製造方法 | |
US20130082278A1 (en) | Nitride semiconductor device and method for producing the same | |
US11538908B2 (en) | Semiconductor device | |
US5445979A (en) | Method of making field effect compound semiconductor device with eaves electrode | |
US20150194494A1 (en) | Field-effect transistor for high voltage driving and manufacturing method thereof | |
KR102208076B1 (ko) | 고전자 이동도 트랜지스터 및 그 제조방법 | |
JP5740356B2 (ja) | 半導体装置 | |
EP1131849A2 (en) | Pseudomorphic high electron mobility transistors | |
JP2019050344A (ja) | 高電子移動度トランジスタの製造方法 | |
JP2010098251A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
KR20180053207A (ko) | 고주파 소자 제조 방법 | |
CN111106169A (zh) | 晶体管器件及其制备方法 | |
JP2010238975A (ja) | 半導体装置とその製造方法 | |
JP5564790B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2006237534A (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2014060427A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US9419083B2 (en) | Semiconductor structures having a gate field plate and methods for forming such structure | |
JP2011049314A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
US8952422B2 (en) | Transistor and method of fabricating the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120307 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130927 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140325 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140812 |