JP2010232423A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 130
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 113
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 59
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 37
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 19
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 abstract description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 12
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 109
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 31
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 31
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 28
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 23
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 14
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(CC=2C(=CC=C(C)C=2)O)=C1 XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
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- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
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- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/20—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Ceramic Engineering (AREA)
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Abstract
【解決手段】基板上に第1の窒化物半導体の犠牲層を形成する犠牲層形成工程と、前記犠牲層上に第2の窒化物半導体層を形成し、前記第2の窒化物半導体層上に窒化物半導体層を積層した積層窒化物半導体層を形成する積層半導体形成工程と、前記犠牲層の表面が露出するまで、前記第2の窒化物半導体層及び前記積層窒化物半導体層をエッチングすることによりトレンチを形成し、前記トレンチ及び前記積層窒化物半導体層表面に接続電極を形成する接続電極形成工程と、前記接続電極の形成された前記基板を電解液に浸漬させ、前記電解液に対し前記接続電極に電位を印加し、前記犠牲層を除去し前記基板を剥離する犠牲層除去工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法により上記課題を解決する。
【選択図】 図6
Description
第1の実施の形態における半導体装置の製造方法は、縦型の半導体デバイスである縦型GaN−HEMTの製造方法である。
次に、図3(n)における光電気化学エッチングについて説明する。この電気化学エッチングは、アルカリ性溶液に、窒化物半導体層等が積層形成されたサファイア基板11を浸漬させることにより、犠牲層となるn-GaN層13を除去するものである。
2GaN+6OH−+6h+→Ga2O3+N2+3H2O・・・・・(1)
Ga2O3+6OH−→2GaO3 3−+3H2O・・・・・・・・・・(2)
この反応をより促進させるために、電源43を設け接続電極28を介し接続されたn-GaN層13より電子を引抜き、対極となる電極端子44における水素の還元反応により、n-GaN層13における電子と正孔の再結合を抑制する。これにより、n-GaN層13のエッチングを高速に行うことができ、図に示す白抜きの矢印に示す方向にエッチングが進行する。
第2の実施の形態における半導体装置の製造方法は、横型の半導体デバイスである横型GaN−HEMTの製造方法である。
次に、第3の実施の形態における半導体装置の製造方法について説明する。本実施の形態は、横型の半導体デバイスの製造方法であって、より一層剥離の時間を短縮した半導体装置の製造方法である。
次に、第4の実施の形態における半導体装置の製造方法について説明する。本実施の形態は、横型の半導体デバイスの製造方法であって、第3の実施の形態とは異なる方法により、剥離の時間を短縮した半導体装置の製造方法である。
12 AlN層(成長基板)
13 n-GaN層(犠牲層)
14 p-GaN層
15 n-GaN層
16 AlN層
17 開口部
18 n-GaN層
19 n-AlGaN層
20 SiN層
21 開口部
22 ソース電極
23 開口部
24 ゲート電極
25 SiN層
26 開口部
27 トレンチ
28 接続電極
29 Ni層
30 ドレイン電極
31 低抵抗のSi基板
Claims (5)
- 基板上に第1の窒化物半導体の犠牲層を形成する犠牲層形成工程と、
前記犠牲層上に第2の窒化物半導体層を形成し、前記第2の窒化物半導体層上に窒化物半導体層を積層した積層窒化物半導体層を形成する積層半導体形成工程と、
前記犠牲層の表面が露出するまで、前記第2の窒化物半導体層及び前記積層窒化物半導体層をエッチングすることによりトレンチを形成し、前記トレンチ及び前記積層窒化物半導体層表面に接続電極を形成する接続電極形成工程と、
前記接続電極の形成された前記基板を電解液に浸漬させ、前記電解液に対し前記接続電極に電位を印加し、前記犠牲層を除去し前記基板を剥離する犠牲層除去工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記犠牲層除去工程により前記基板より剥離した前記第2の窒化物半導体層及び前記積層窒化物半導体層に支持体を接合する基板接合工程を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記接続電極形成工程の後、前記犠牲層の表面が露出するまで、前記第2の窒化物半導体層及び前記積層窒化物半導体層をエッチングし、溶液浸透溝を形成する浸透溝形成工程を有し、
前記浸透溝形成工程の後、前記犠牲層除去工程を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記基板接合工程の後、ダイシングソーにより、チップごとに切断する切断工程を有するものであって、
前記溶液浸透溝は、前記チップごとに設けられていることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第1の窒化物半導体の犠牲層はn型であり、前記第2の窒化物半導体はp型であり、前記電位は正であり、前記犠牲層除去工程は光を照射しながら行うことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009078359A JP5182189B2 (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009078359A JP5182189B2 (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010232423A true JP2010232423A (ja) | 2010-10-14 |
JP5182189B2 JP5182189B2 (ja) | 2013-04-10 |
Family
ID=43047973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009078359A Active JP5182189B2 (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5182189B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8637409B2 (en) | 2011-03-14 | 2014-01-28 | Fujitsu Limited | Etching method, method for manufacturing semiconductor device, and etching device |
CN110223914A (zh) * | 2018-03-02 | 2019-09-10 | 赛奥科思有限公司 | GaN材料和半导体装置的制造方法 |
JP2020021765A (ja) * | 2018-07-30 | 2020-02-06 | 株式会社アルバック | 半導体素子の製造方法 |
WO2021020040A1 (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-04 | 株式会社サイオクス | 構造体の製造方法および構造体 |
JP2021022704A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 株式会社サイオクス | 構造体の製造方法 |
EP3916804A1 (en) * | 2020-05-29 | 2021-12-01 | Epinovatech AB | A vertical hemt and a method to produce a vertical hemt |
WO2022004294A1 (ja) * | 2020-07-03 | 2022-01-06 | 信越半導体株式会社 | 接合型半導体ウェーハの製造方法及び接合型半導体素子の製造方法 |
US11695066B2 (en) | 2019-12-11 | 2023-07-04 | Epinovatech Ab | Semiconductor layer structure |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05109691A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-30 | Nippondenso Co Ltd | 半導体基板の加工方法 |
JP2005097045A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Iii族窒化物ウエハの製造方法 |
JP2005347747A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Lumileds Lighting Us Llc | 成長基板の除去により製造される共振キャビティiii族窒化物発光装置 |
JP2007200932A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-09 | Rohm Co Ltd | 窒化物半導体素子の製造方法 |
JP2007536732A (ja) * | 2004-05-06 | 2007-12-13 | クリー インコーポレイテッド | SiC基板上に形成されたGaN膜に対するリフトオフプロセスおよびその方法により作製されたデバイス |
JP2010518615A (ja) * | 2007-02-09 | 2010-05-27 | ナノガン リミテッド | 半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス |
-
2009
- 2009-03-27 JP JP2009078359A patent/JP5182189B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05109691A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-30 | Nippondenso Co Ltd | 半導体基板の加工方法 |
JP2005097045A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Iii族窒化物ウエハの製造方法 |
JP2007536732A (ja) * | 2004-05-06 | 2007-12-13 | クリー インコーポレイテッド | SiC基板上に形成されたGaN膜に対するリフトオフプロセスおよびその方法により作製されたデバイス |
JP2005347747A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Lumileds Lighting Us Llc | 成長基板の除去により製造される共振キャビティiii族窒化物発光装置 |
JP2007200932A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-09 | Rohm Co Ltd | 窒化物半導体素子の製造方法 |
JP2010518615A (ja) * | 2007-02-09 | 2010-05-27 | ナノガン リミテッド | 半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8637409B2 (en) | 2011-03-14 | 2014-01-28 | Fujitsu Limited | Etching method, method for manufacturing semiconductor device, and etching device |
KR101431892B1 (ko) | 2011-03-14 | 2014-08-26 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 에칭 방법 및 에칭 장치 |
US10508343B2 (en) | 2011-03-14 | 2019-12-17 | Fujitsu Limited | Etching method for manufacturing semiconductor device |
CN110223914A (zh) * | 2018-03-02 | 2019-09-10 | 赛奥科思有限公司 | GaN材料和半导体装置的制造方法 |
JP2020021765A (ja) * | 2018-07-30 | 2020-02-06 | 株式会社アルバック | 半導体素子の製造方法 |
JP2021022704A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 株式会社サイオクス | 構造体の製造方法 |
WO2021020040A1 (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-04 | 株式会社サイオクス | 構造体の製造方法および構造体 |
JP2021022703A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 株式会社サイオクス | 構造体の製造方法および構造体 |
JP7261685B2 (ja) | 2019-07-30 | 2023-04-20 | 住友化学株式会社 | 構造体の製造方法 |
JP7261684B2 (ja) | 2019-07-30 | 2023-04-20 | 住友化学株式会社 | 構造体の製造方法 |
US11695066B2 (en) | 2019-12-11 | 2023-07-04 | Epinovatech Ab | Semiconductor layer structure |
EP3916804A1 (en) * | 2020-05-29 | 2021-12-01 | Epinovatech AB | A vertical hemt and a method to produce a vertical hemt |
WO2021239876A1 (en) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | Epinovatech Ab | A vertical hemt and a method to produce a vertical hemt |
WO2022004294A1 (ja) * | 2020-07-03 | 2022-01-06 | 信越半導体株式会社 | 接合型半導体ウェーハの製造方法及び接合型半導体素子の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5182189B2 (ja) | 2013-04-10 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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