JP2010228076A - 研磨パッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】研磨パッド10は、ポリウレタン樹脂製のウレタン発泡体2を備えている。ウレタン発泡体2は、湿式成膜法により一組成の樹脂で一体形成されており、研磨部2aと、クッション部2bと、中間部2cとを有している。研磨部2aは被研磨物を研磨加工するための研磨面Pを有している。研磨部2aには多数の発泡4が略均等に分散した状態で形成されており、クッション部2bには発泡4より大きい多数の発泡5が略均等に分散した状態で形成されている。中間部2cは、発泡4および発泡5が非形成で研磨部2aとクッション部2bとの間に形成されている。被研磨物の微小な凹凸に対応するようにクッション応答性が発揮される。
【選択図】図1
Description
図1に示すように、本実施形態の研磨パッド10は、ポリウレタン樹脂製の樹脂シートとしてのウレタン発泡体2を備えている。ウレタン発泡体2は、湿式成膜法により一組成の樹脂で一体形成されており、被研磨物を研磨加工するための研磨面Pを有し、発泡4(第1の発泡)が形成された研磨部2aと、発泡5(第2の発泡)が形成されたクッション部2bと、発泡4および発泡5が非形成の中間部2cとを有している。
図2に示すように、研磨パッド10は、湿式成膜法により1枚のシート状のウレタン発泡体2を一体形成し、ウレタン発泡体2と両面テープ7とを貼り合わせることで製造される。すなわち、ポリウレタン樹脂溶液を準備する準備工程、成膜基材にポリウレタン樹脂溶液を塗布する塗布工程、成膜基材に塗布したポリウレタン樹脂溶液を凝固液中に浸漬する浸漬工程、凝固液中で成膜基材を剥離しポリウレタン樹脂を凝固再生させる剥離工程、シート状のポリウレタン樹脂を洗浄し乾燥させる洗浄・乾燥工程、得られたウレタン発泡体2と両面テープ7とを貼り合わせるラミネート工程を経て研磨パッド10が製造される。以下、工程順に説明する。
次に、本実施形態の研磨パッド10の作用等について説明する。
実施例1では、ウレタン発泡体2の作製にポリエステルMDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)ポリウレタン樹脂を用いた。ポリウレタン樹脂溶液を塗布する際に塗布装置のクリアランスを1.6mmに設定した。成膜基材のPET製フィルムは、予め、0.02%のCMC溶液を塗布し乾燥させておいた。このPET製フィルムにポリウレタン樹脂溶液を塗布した後、温度20℃の水(凝固液)に浸漬した。水中で3分間溶媒を置換させた後、PET製フィルムと半凝固状態のポリウレタン樹脂とを剥がし、半凝固状態のポリウレタン樹脂を更に7分間水中に浸漬して完全に凝固させた。洗浄、乾燥後、得られた厚さ1.46mmのウレタン発泡体2のスキン層側にバフ処理を施した。バフ処理では、バフ処理厚みを40μmとし、バフ番手#180のサンドペーパを使用した。得られた厚さ1.42mmのウレタン発泡体2とPET製の基材を有する両面テープ7とを貼り合わせ研磨パッド10を製造した。
比較例1では、湿式成膜法によるウレタン発泡体の作製時に、凝固液中で成膜基材を剥離しないこと以外は実施例1と同様にして厚さ1.40mmのウレタン発泡体を作製し研磨パッドを製造した。すなわち、比較例1の研磨パッドは、従来の研磨パッドである。
各実施例および比較例の研磨パッドについて、バフ番手#180のサンドペーパを使用して研磨面側にバフ処理厚み100μm毎のバフ処理を9回施した。各回後の研磨面を走査型電子顕微鏡で観察し、開口している穴のサイズ(開口径)を計測し平均値を求めた。
2 ウレタン発泡体(樹脂シート)
2a 研磨部
2b クッション部
2c 中間部
4 発泡
5 発泡
10 研磨パッド
Claims (7)
- 湿式成膜法により一組成の樹脂で形成された樹脂シートを備えた研磨パッドにおいて、前記樹脂シートは、
被研磨物を研磨加工するための研磨面を有し、多数の第1の発泡が連続発泡状に形成された研磨部と、
前記研磨部に形成された第1の発泡より大きい多数の第2の発泡が連続発泡状に形成されたクッション部と、
前記第1および第2の発泡が非形成で前記研磨部およびクッション部間に形成された中間部と、
を備えたことを特徴とする研磨パッド。 - 前記中間部は、前記樹脂シートの厚み方向中央部に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨部に形成された第1の発泡および前記クッション部に形成された第2の発泡は、少なくとも一部が網目状に連通していることを特徴とする請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記研磨部に形成された第1の発泡は、前記クッション部に形成された第2の発泡の平均容積より小さい平均容積を有することを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記第1の発泡が縦長円錐状に形成されており、前記第2の発泡が球状に形成されていることを特徴とする請求項4に記載の研磨パッド。
- 前記樹脂シートは、ポリウレタン樹脂製であることを特徴とする請求項5に記載の研磨パッド。
- 前記樹脂シートは、前記研磨面側ないし前記研磨面と反対の面側にバフ処理またはスライス処理が施されたことを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009081041A JP5322730B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 研磨パッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2009081041A JP5322730B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 研磨パッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010228076A true JP2010228076A (ja) | 2010-10-14 |
JP5322730B2 JP5322730B2 (ja) | 2013-10-23 |
Family
ID=43044433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009081041A Active JP5322730B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 研磨パッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5322730B2 (ja) |
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