JP5322730B2 - 研磨パッド - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 221
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 163
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 39
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 63
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 44
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 31
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 21
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 21
- 230000001112 coagulating effect Effects 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 18
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 16
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 16
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 13
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 9
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 6
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 5
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 5
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000004807 desolvation Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
図1に示すように、本実施形態の研磨パッド10は、ポリウレタン樹脂製の樹脂シートとしてのウレタン発泡体2を備えている。ウレタン発泡体2は、湿式成膜法により一組成の樹脂で一体形成されており、被研磨物を研磨加工するための研磨面Pを有し、発泡4(第1の発泡)が形成された研磨部2aと、発泡5(第2の発泡)が形成されたクッション部2bと、発泡4および発泡5が非形成の中間部2cとを有している。
図2に示すように、研磨パッド10は、湿式成膜法により1枚のシート状のウレタン発泡体2を一体形成し、ウレタン発泡体2と両面テープ7とを貼り合わせることで製造される。すなわち、ポリウレタン樹脂溶液を準備する準備工程、成膜基材にポリウレタン樹脂溶液を塗布する塗布工程、成膜基材に塗布したポリウレタン樹脂溶液を凝固液中に浸漬する浸漬工程、凝固液中で成膜基材を剥離しポリウレタン樹脂を凝固再生させる剥離工程、シート状のポリウレタン樹脂を洗浄し乾燥させる洗浄・乾燥工程、得られたウレタン発泡体2と両面テープ7とを貼り合わせるラミネート工程を経て研磨パッド10が製造される。以下、工程順に説明する。
次に、本実施形態の研磨パッド10の作用等について説明する。
実施例1では、ウレタン発泡体2の作製にポリエステルMDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)ポリウレタン樹脂を用いた。ポリウレタン樹脂溶液を塗布する際に塗布装置のクリアランスを1.6mmに設定した。成膜基材のPET製フィルムは、予め、0.02%のCMC溶液を塗布し乾燥させておいた。このPET製フィルムにポリウレタン樹脂溶液を塗布した後、温度20℃の水(凝固液)に浸漬した。水中で3分間溶媒を置換させた後、PET製フィルムと半凝固状態のポリウレタン樹脂とを剥がし、半凝固状態のポリウレタン樹脂を更に7分間水中に浸漬して完全に凝固させた。洗浄、乾燥後、得られた厚さ1.46mmのウレタン発泡体2のスキン層側にバフ処理を施した。バフ処理では、バフ処理厚みを40μmとし、バフ番手#180のサンドペーパを使用した。得られた厚さ1.42mmのウレタン発泡体2とPET製の基材を有する両面テープ7とを貼り合わせ研磨パッド10を製造した。
比較例1では、湿式成膜法によるウレタン発泡体の作製時に、凝固液中で成膜基材を剥離しないこと以外は実施例1と同様にして厚さ1.40mmのウレタン発泡体を作製し研磨パッドを製造した。すなわち、比較例1の研磨パッドは、従来の研磨パッドである。
各実施例および比較例の研磨パッドについて、バフ番手#180のサンドペーパを使用して研磨面側にバフ処理厚み100μm毎のバフ処理を9回施した。各回後の研磨面を走査型電子顕微鏡で観察し、開口している穴のサイズ(開口径)を計測し平均値を求めた。
2 ウレタン発泡体(樹脂シート)
2a 研磨部
2b クッション部
2c 中間部
4 発泡
5 発泡
10 研磨パッド
Claims (7)
- 湿式成膜法により一組成の樹脂で形成された樹脂シートを備えた研磨パッドにおいて、前記樹脂シートは、
被研磨物を研磨加工するための研磨面を有し、多数の第1の発泡が連続発泡状に形成された研磨部と、
前記研磨部に形成された第1の発泡より大きい多数の第2の発泡が連続発泡状に形成されたクッション部と、
前記第1および第2の発泡が非形成で前記研磨部およびクッション部間に形成された中間部と、
を備えたことを特徴とする研磨パッド。 - 前記中間部は、前記樹脂シートの厚み方向中央部に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨部に形成された第1の発泡および前記クッション部に形成された第2の発泡は、少なくとも一部が網目状に連通していることを特徴とする請求項2に記載の研磨パッド。
- 前記研磨部に形成された第1の発泡は、前記クッション部に形成された第2の発泡の平均容積より小さい平均容積を有することを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記第1の発泡が縦長円錐状に形成されており、前記第2の発泡が球状に形成されていることを特徴とする請求項4に記載の研磨パッド。
- 前記樹脂シートは、ポリウレタン樹脂製であることを特徴とする請求項5に記載の研磨パッド。
- 前記樹脂シートは、前記研磨面側ないし前記研磨面と反対の面側にバフ処理またはスライス処理が施されたことを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009081041A JP5322730B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 研磨パッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009081041A JP5322730B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 研磨パッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010228076A JP2010228076A (ja) | 2010-10-14 |
JP5322730B2 true JP5322730B2 (ja) | 2013-10-23 |
Family
ID=43044433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009081041A Active JP5322730B2 (ja) | 2009-03-30 | 2009-03-30 | 研磨パッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5322730B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8702479B2 (en) | 2010-10-15 | 2014-04-22 | Nexplanar Corporation | Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters |
US20210323116A1 (en) * | 2020-04-18 | 2021-10-21 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Offset pore poromeric polishing pad |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2830907B2 (ja) * | 1995-12-06 | 1998-12-02 | 日本電気株式会社 | 半導体基板研磨装置 |
JP4555559B2 (ja) * | 2003-11-25 | 2010-10-06 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨布及び研磨布の製造方法 |
TWI293266B (en) * | 2004-05-05 | 2008-02-11 | Iv Technologies Co Ltd | A single-layer polishing pad and a method of producing the same |
JP4034320B2 (ja) * | 2005-05-24 | 2008-01-16 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッド |
JP4948935B2 (ja) * | 2006-08-08 | 2012-06-06 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨布 |
JP4943766B2 (ja) * | 2006-08-09 | 2012-05-30 | ニッタ・ハース株式会社 | 被加工物保持材およびその製造方法 |
-
2009
- 2009-03-30 JP JP2009081041A patent/JP5322730B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010228076A (ja) | 2010-10-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130613 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130618 |
|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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|
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