JP2010225673A - 圧粉磁心用混合粉末、およびこの混合粉末を用いて圧粉磁心を製造する方法 - Google Patents

圧粉磁心用混合粉末、およびこの混合粉末を用いて圧粉磁心を製造する方法 Download PDF

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Abstract

【課題】鉄損(渦電流損とヒステリシス損)が少なく、しかも磁束密度が大きい圧粉磁心を製造するための圧粉磁心用の粉末を提供する。
【解決手段】表面に絶縁性無機皮膜aと耐熱性樹脂皮膜bがこの順で形成されている鉄基粉末Aと、表面に絶縁性無機皮膜cが形成されている鉄基粉末Bを混合すればよく、前記鉄基粉末Aと前記鉄基粉末Bの混合割合は、下記(1)式を満足することが好ましい。
0%<[鉄基粉末Bの質量/(鉄基粉末Aの質量+鉄基粉末Bの質量)]×100≦60% ・・・(1)
【選択図】図1

Description

本発明は、純鉄粉や鉄基合金粉末(以下、これらを総称して鉄基粉末と呼ぶことがある)等の軟磁性鉄基粉末を圧粉成形し、電磁気部品用の圧粉磁心を製造する際に用いる粉末に関するものである。
モータ用のコア材には、従来、電磁鋼板や電気鉄板等を積層した磁心が用いられてきたが、近年では、圧粉磁心が利用されるようになってきた。圧粉磁心は、圧粉磁心用粉末を圧縮成形したものであり、電磁鋼板や電気鉄板等を積層して磁心を成形するのと比べて成形形状の自由度が高く、三次元形状のコアでも容易に製造できることから、従来のモータに比べて小型化、軽量化が可能となる。そしてこのようなモータ用コア材の圧粉磁心には、従来にも増して低鉄損と高磁束密度が要求されている。
圧粉磁心は、例えば1kHz以上の高周波帯域では良好な電磁変換特性を示すが、一般にモータが動作している駆動条件下[例えば、駆動周波数が数100Hz〜1kHzで、駆動磁束が1T(テスラ)以上]では、電磁変換特性が劣化する傾向がある。この電磁変換特性の劣化[即ち、磁気変換時のエネルギー損失(鉄損)]は、材料内磁束変化が緩和現象(磁気共鳴など)を伴わない領域であれば、渦電流損とヒステリシス損の和で表されることが知られている(例えば、非特許文献1参照)。
渦電流損は、磁場変化に対する電磁誘導で発生する起電力に伴う誘導電流のジュール損失である。この渦電流損は、磁場変化速度、つまり周波数の2乗に比例すると考えられており、圧粉磁心の電気抵抗が小さいほど、また渦電流の流れる範囲が大きいほど渦電流損は大きくなる。この渦電流は、個々の鉄基粉末粒子内に流れる粒子内渦電流と、鉄基粉末粒子間にまたがって流れる粒子間渦電流に大別される。そのため個々の鉄基粉末の電気的な絶縁が完全であれば、粒子間渦電流は発生しないため、粒子内渦電流のみとなり、全体としての渦電流損を低減できる。
これに対しヒステリシス損は、B−H(磁束密度−磁場)カーブの面積に相当すると考えられている。このB−Hカーブの形に影響を与え、ヒステリシス損を支配する因子としては、圧粉磁心の保磁力(B−Hカーブのループ幅)や最大磁束密度などが挙げられる。つまりヒステリシス損は保磁力に比例するため、ヒステリシス損を低減するには、保磁力を小さくすればよい。この保磁力は、圧粉磁心用の粉末を圧粉成形したときに歪みが多く導入されるほど大きくなるため、圧粉磁心の保磁力を小さくし、ヒステリシス損を低減するには、圧粉成形後に歪み取り焼鈍して成形時に導入された歪みを解放すればよい。導入された歪みは、高温になるほど解放されやすいため、歪み取り焼鈍はできるだけ高温で行うことが推奨される。
以上説明した通り、渦電流損を低減するには、原料として用いる圧粉磁心用粉末の表面を絶縁層で被覆すればよく、更にヒステリシス損を低減するには、この圧粉磁心用粉末を圧粉成形した後に、高温で歪み取り焼鈍するために、圧粉磁心用粉末の表面に被覆する絶縁層に耐熱性を付与すればよい。
こうした絶縁性と耐熱性を兼ね備えた圧粉磁心用粉末として、特許文献1には、軟磁性粉末の表面をP,Mg,B,Feを必須元素とするガラス状絶縁層で被覆したものが提案されている。また特許文献2には、鉄を主成分とする粉末の表面をシリコーン樹脂と顔料を含有する皮膜で被覆し、この皮膜の下層としてリン化合物などを含む皮膜を形成することが記載されている。
ところで圧粉磁心には、鉄損が少ないのに加えて、磁束密度が高いことも要求される。磁束密度は、透磁率と励磁磁場の積(透磁率×励磁磁場)で定義されており、この磁束密度は、力(トルク)に相当している。つまり圧粉磁心を例えばモータのコア材に使用した場合に、トルクを一定にすると、磁束密度が大きい圧粉磁心ほど、圧粉磁心を小さくできる。一方、圧粉磁心の大きさが同じ場合は、磁束密度が大きい圧粉磁心ほど大きなトルクが得られる。
ところが本発明者らが検討したところ、上記特許文献1や特許文献2に開示されているように、圧粉磁心用粉末の表面に、絶縁性と耐熱性を兼ね備えた皮膜を被覆した粉末を圧粉成形して得られた圧粉磁心は、磁束密度が低くなることが判明し、磁束密度を高めることが求められる。
特開平6−260319号公報 特開2003−303711号公報
「SEIテクニカルレビュー第166号」、住友電気工業発行、2005年3月、p.1〜6
本発明は、この様な状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、鉄損(渦電流損とヒステリシス損)が少なく、しかも磁束密度が大きい圧粉磁心を製造するための圧粉磁心用の粉末を提供することにある。
本発明者らは、低鉄損で高磁束密度の圧粉磁心を製造できる圧粉磁心用粉末を提供すべく鋭意検討を重ねてきた。その結果、表面に形成された皮膜の種類が異なる2種の鉄基粉末を混合し、この混合粉末を圧粉成形したものを歪み取り焼鈍すれば、低鉄損と高磁束密度を兼ね備えた圧粉磁心が得られることを見出し、本発明を完成した。
即ち、上記課題を解決することのできた本発明に係る圧粉磁心用混合粉末とは、表面に絶縁性無機皮膜aと耐熱性樹脂皮膜bがこの順で形成されている鉄基粉末Aと、表面に絶縁性無機皮膜cが形成されている鉄基粉末Bを含む点に要旨を有する。
前記鉄基粉末Aと前記鉄基粉末Bの混合割合は、下記(1)式を満足するのがよい。
0%<[鉄基粉末Bの質量/(鉄基粉末Aの質量+鉄基粉末Bの質量)]×100≦60% ・・・(1)
前記絶縁性無機皮膜aの平均膜厚は1nm以上、前記耐熱性樹脂皮膜bの平均膜厚は20nm以上、前記絶縁性無機皮膜cの平均膜厚は1nm以上で、且つ前記絶縁性無機皮膜aと前記耐熱性樹脂皮膜bと前記絶縁性無機皮膜cの平均膜厚の合計は250nm以下であることが好ましい。
前記絶縁性無機皮膜aと前記絶縁性無機皮膜cとしては、リン酸皮膜が形成されていることが好ましく、前記耐熱性樹脂皮膜bとしては、シリコーン樹脂皮膜が形成されていることが好ましい。
本発明の混合粉末を用いれば、圧粉成形した後、歪み取り焼鈍を400℃以上で行うことによって圧粉磁心を製造することができ、本発明にはこうした製法で得られた圧粉磁心も包含される。
本発明によれば、絶縁性無機皮膜と耐熱性樹脂皮膜が形成されている鉄基粉末に、耐熱性樹脂皮膜が形成されていない鉄基粉末を混合することで、圧粉磁心に占める耐熱性樹脂の使用量を低減できる。その結果として、後述するように、圧粉磁心の磁束密度を高めることができる。このように本発明の混合粉末は、絶縁性無機皮膜と耐熱性樹脂皮膜が形成されている鉄基粉末と、絶縁性無機皮膜が形成されている鉄基粉末を含んでいるため、鉄基粉末の絶縁性と耐熱性を確保することができ、圧粉磁心の鉄損も低減できる。
図1は、本発明の圧粉磁心用混合粉末が接触している様子を模式的に示した図である。 図2は、鉄基粉末A同士が接触している様子を模式的に示した図である。 図3は、比抵抗を測定した結果を示すグラフである。 図4は、全膜厚と磁束密度の関係を示すグラフである。 図5は、鉄基粉末Bの混合割合と磁束密度の関係を示すグラフである。 図6は、鉄基粉末Bの混合割合と鉄損の関係を示すグラフである。
本発明の圧粉磁心用混合粉末は、原料鉄基粉末の表面に絶縁性無機皮膜aと耐熱性樹脂皮膜bがこの順で形成されている鉄基粉末Aと、原料鉄基粉末の表面に絶縁性無機皮膜cが形成されている鉄基粉末Bを混合したものである。鉄基粉末Aと鉄基粉末Bを混合することで、圧粉磁心に含まれる耐熱性樹脂の使用量を低減できる。即ち、鉄基粉末Aと鉄基粉末Bを混合すると、鉄基粉末Aと鉄基粉末Bが接触したときに、鉄基粉末Bに耐熱性樹脂が被覆されていない分だけ、隣り合う原料鉄基粉末の距離が短くなる。原料鉄基粉末同士の距離が短くなることで、磁気ギャップが小さくなり、原料鉄基粉末内に発生する反磁界が小さくなって、結果として圧粉磁心の透磁率が大きくなり、圧粉磁心の磁束密度を大きくすることができる。このことを図面を用いて説明するが、本発明はこの図面に限定されるものではない。
図1は、本発明の圧粉磁心用混合粉末が接触している様子を模式的に示した図である。図1中、1は原料鉄基粉末、aは絶縁性無機皮膜、bは耐熱性樹脂皮膜、cは絶縁性無機皮膜を示している。鉄基粉末Aは、原料鉄基粉末1の表面に、絶縁性無機皮膜aと耐熱性樹脂皮膜bがこの順で形成されており、鉄基粉末Bは、原料鉄基粉末1の表面に、絶縁性無機皮膜cが形成されている。また、xは鉄基粉末Aと鉄基粉末Bの原料鉄基粉末1間の距離を示している。一方、図2は、上記鉄基粉末A同士が接触している様子を模式的に示した図であり、図1と同じ部分には同一の符合を付している。なお、図1と2では、説明の便宜上各鉄基粉末の断面図を示しており、原料鉄基粉末1の粒径、絶縁性無機皮膜aと耐熱性樹脂皮膜bの膜厚は同じである。
図1に示すように、本発明の圧粉磁心用混合粉末は、耐熱性樹脂皮膜bが形成されている鉄基粉末Aと耐熱性樹脂皮膜が形成されていない鉄基粉末Bを混合しているため、原料鉄基粉末1の距離xは短くなる。これに対し、鉄基粉末A同士を接触させると、原料鉄基粉末1の距離xは、耐熱性樹脂皮膜bの膜厚が図1の倍になるため長くなる。従って図1と図2を比べると、図1の方が、原料鉄基粉末1の距離が短いため、磁気ギャップが小さくなり、最終的に圧粉磁心の磁束密度を大きくすることができる。また、本発明によれば、耐熱性樹脂皮膜bが形成されている鉄基粉末Aと耐熱性樹脂皮膜が形成されていない鉄基粉末Bを混合しているため、圧粉磁心に占める耐熱性樹脂の使用量を低減できるため、コストダウンも可能となる。以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の鉄基粉末Aは、原料鉄基粉末の表面に、絶縁性無機皮膜aと耐熱性樹脂皮膜bがこの順で形成されており、鉄基粉末Bは、原料鉄基粉末の表面に絶縁性無機皮膜cが形成されている。絶縁性無機皮膜aとcは、原料鉄基粉末の電気的な絶縁性を確保するため形成しており、耐熱性樹脂皮膜bは、絶縁性無機皮膜aの電気絶縁性の熱的安定性を向上させるために形成している。耐熱性樹脂皮膜bは、圧粉磁心の機械的特性を向上させるのにも寄与する。
原料鉄基粉末は、強磁性体の金属粉末であればよく、具体的には、純鉄粉や鉄基合金粉末(例えば、Fe−Al合金やFe−Si合金、センダスト、パーマロイなど)およびアモルファス粉末等が挙げられる。こうした軟磁性粉末は、例えば、アトマイズ法や粉砕法によって製造できる。また、得られた粉末を必要に応じて還元してもよい。このような製法では、ふるい分け法で評価される粒度分布で、累積粒度分布が50%になる平均粒径が20〜250μm程度の軟磁性粉末が得られるが、本発明においては、50〜200μm程度のものが好ましく用いられる。
本発明では、上記原料鉄基粉末の表面には、絶縁性無機皮膜aまたはcが形成されている。絶縁性無機皮膜の素材としては、原料鉄基粉末を絶縁できるものであればよく、最終的な圧粉磁心の比抵抗を4端子法で測定したときに、比抵抗が50μΩ・m程度以上になるものであればよい。
上記絶縁性無機皮膜としては、例えば、リン酸系皮膜やクロム系皮膜などを用いることができる。こうした絶縁性無機皮膜の中でも、特にリン酸系皮膜を形成するのがよい。リン酸系皮膜は、オルトリン酸(H3PO4)による化成処理によって生成するガラス状の皮膜であり、電気絶縁性に優れているからである。
なお、鉄基粉末Aと鉄基粉末Bについて、絶縁性無機皮膜aと絶縁性無機皮膜cの種類は、同じであってもよいし、異なっていてもよいが、好ましくは同じであるのがよい。絶縁性無機皮膜の種類の違いによって、圧粉磁心の物性に局所的なバラツキを発生させないためである。
上記鉄基粉末Aにおいては、上記絶縁性無機皮膜aの表面に、耐熱性樹脂皮膜bが形成されている。耐熱性樹脂皮膜bの素材としては、電気絶縁性の熱的安定性を向上させるものであればよく、歪み取り焼鈍を例えば400℃以上で行っても絶縁性を劣化させないものであればよい。
上記耐熱性樹脂皮膜としては、例えば、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン/アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエチレンなどのオレフィン樹脂、カーボネート樹脂、ケトン樹脂、フッ化メタクリレートやフッ化ビニリデンなどのフッ素樹脂、PEEKなどのエンジニアリングプラスチックまたはその変性品などを使用できる。こうした耐熱性樹脂皮膜の中でも、特にシリコーン樹脂皮膜を形成するのがよい。シリコーン樹脂皮膜は、電気絶縁性の熱的安定性を向上させる他、圧粉磁心の機械的強度も高める作用を有するからである。即ち、シリコーン樹脂の架橋・硬化反応終了時(圧粉成形体の成形時)には、耐熱性に優れたSi−O結合を形成して熱的安定性に優れた絶縁皮膜となる。また、粉末同士が強固に結合するので、機械的強度が増大する。
シリコーン樹脂としては、硬化が遅いものでは粉末がベトついて皮膜形成後のハンドリング性が悪いので、二官能性のD単位(R2SiX2:Xは加水分解性基)よりは、三官能性のT単位(RSiX3:Xは前記と同じ)を多く持つものが好ましい。しかし、四官能性のQ単位(SiX4:Xは前記と同じ)が多く含まれていると、予備硬化の際に粉末同士が強固に結着してしまい、後の成形工程が行えなくなるため好ましくない。よって、T単位が60モル%以上のシリコーン樹脂が好ましく、80モル%以上のシリコーン樹脂がより好ましく、全てT単位であるシリコーン樹脂が最も好ましい。
上記シリコーン樹脂としては、上記Rがメチル基またはフェニル基となっているメチルフェニルシリコーン樹脂が一般的で、フェニル基を多く持つ方が耐熱性は高いとされている。
上記鉄基粉末Aと上記鉄基粉末Bの混合割合は、下記(1)式を満足することがよい。
0%<[鉄基粉末Bの質量/(鉄基粉末Aの質量+鉄基粉末Bの質量)]×100≦60% ・・・(1)
本発明の混合粉末に占める鉄基粉末Bの割合が高くなり、鉄基粉末Bの割合が60%を超えると、耐熱性樹脂の使用量が少なくなるため、絶縁性無機皮膜の熱的安定性を確保できないことがあるからである。従って混合割合は60%以下であることが好ましく、より好ましくは55%以下、更に好ましくは50%以下である。混合割合の下限は特に限定されず、鉄基粉末Aに鉄基粉末Bを少量混合するだけでも、上記効果を発揮する。好ましくは5%以上、より好ましくは10%以上、更に好ましくは15%以上である。
本発明では、上記絶縁性無機皮膜aと上記絶縁性無機皮膜cの平均膜厚は夫々1nm以上であるのが好ましい。平均膜厚が1nm未満では、膜厚が薄すぎるため、原料鉄基粉末の表面に絶縁性無機皮膜が均一に形成され難く、原料鉄基粉末が露出することがある。そのため絶縁性が低下し、渦電流損が大きくなることがある。従って絶縁性無機皮膜aと絶縁性無機皮膜cの平均膜厚は夫々1nm以上であることが好ましく、より好ましくは5nm以上であり、更に好ましくは10nm以上である。絶縁性無機皮膜の膜厚は、絶縁性を高めるためにできるだけ大きい方が好ましいが、膜厚が大きくなるに連れて原料鉄基粉末間の距離が大きくなり、磁気ギャップを生じる。そのため圧粉磁心の磁束密度が小さくなる。従って膜厚は230nm以下であることが好ましく、より好ましくは150nm以下、更に好ましくは100nm以下である。
なお、絶縁性無機皮膜aと絶縁性無機皮膜cの平均膜厚は、同じであってもよいし、異なっていても良い。好ましくは同じであるのがよい。絶縁性無機皮膜の膜厚の違いによって、圧粉磁心の物性に局所的なバラツキを発生させないためである。
一方、耐熱性樹脂皮膜bの平均膜厚は20nm以上であるのが好ましい。平均膜厚が20nm未満では、膜厚が薄すぎるため、原料鉄基粉末の表面に耐熱性樹脂皮膜が均一に形成され難く、電気絶縁性の熱的安定性を向上させることが難しくなるからである。そのため高温で歪み取り焼鈍することができず、ヒステリシス損を低減することが難しくなる。従って耐熱性樹脂皮膜bの平均膜厚は20nm以上であることが好ましく、より好ましくは25nm以上であり、更に好ましくは30nm以上である。耐熱性樹脂皮膜bの膜厚は、電気絶縁性の熱的安定性を高めるためにできるだけ大きい方が好ましいが、膜厚が大きくなるに連れて原料鉄基粉末間の距離が大きくなり、磁気ギャップを生じる。そのため圧粉磁心の磁束密度が小さくなる。従って膜厚は230nm以下であることが好ましく、より好ましくは150nm以下、更に好ましくは100nm以下である。なお、鉄損(渦電流損とヒステリシス損)を小さくするには、絶縁性無機皮膜aを耐熱性樹脂皮膜bより厚めに形成することが望ましい。
本発明では、上記絶縁性無機皮膜aと上記耐熱性樹脂皮膜bと上記絶縁性無機皮膜cの平均膜厚の合計が250nm以下であることが好ましい。これら皮膜a〜cの平均膜厚の合計が250nmを超えると、上記図1で示した原料鉄基粉末間の距離xが長くなるため、磁気ギャップが生じ、圧粉磁心の磁束密度が小さくなるからである。従って上記合計は250nm以下であればよく、より好ましくは200nm以下、更に好ましくは150nm以下である。なお、上記絶縁性無機皮膜や耐熱性樹脂皮膜の膜厚は、後記する実施例に記載する方法で測定できる。
本発明の圧粉磁心用混合粉末には、さらに潤滑剤が含有されたものであってもよい。この潤滑剤の作用により、鉄基粉末を圧粉成形する際の粉末間、あるいは鉄基粉末と成形型内壁間の摩擦抵抗を低減でき、成形体の型かじりや成形時の発熱を防止することができる。
このような効果を有効に発揮させるためには、潤滑剤が粉末全量中、0.2質量%以上含有されていることが好ましい。しかし、潤滑剤量が多くなると、圧粉体の高密度化に反するため、0.8質量%以下にとどめることが好ましい。なお、圧粉成形する際に、成形型内壁面に潤滑剤を塗布した後、成形するような場合(型潤滑成形)には、潤滑剤量は0.2質量%より少なくても構わない。
潤滑剤としては、従来から公知のものを使用すればよく、具体的には、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸カルシウムなどのステアリン酸の金属塩粉末、およびパラフィン、ワックス、天然または合成樹脂誘導体等が挙げられる。
上記鉄基粉末Aと上記鉄基粉末B(必要に応じて潤滑剤)を混合した本発明の混合粉末は、圧粉磁心を製造する際に用いられるものであるが、本発明の混合粉末から得られた圧粉磁心も本発明に包含される。
圧粉磁心を製造するに当たっては、上記混合粉末を、成形した後、歪み取り焼鈍すればよい。圧粉成形法は特に限定されず、公知の方法を採用できる。圧粉成形の好適条件は、面圧で490〜1960MPa(より好ましくは390〜1000MPa)である。成形温度は、室温成形または温間成形(例えば、100〜250℃)のいずれも可能である。型潤滑成形で温間成形を行う方が、高強度の圧粉磁心が得られるため好ましい。
成形後は、圧粉磁心のヒステリシス損を低減するため歪み取り焼鈍を行う。歪み取り焼鈍の条件は特に限定されず、公知の条件を適用できる。但し、本発明の混合粉末を用いれば、歪み取り焼鈍の温度を高くすることができる。即ち、本発明の混合粉末は、絶縁性無機皮膜と耐熱性樹脂皮膜を組み合わせて被覆されているため、歪み取り焼鈍の温度を400℃以上にしても、絶縁性無機皮膜の熱的安定性は劣化しない。従って圧粉成形時に導入された歪みを高温で解放することができ、圧粉磁心のヒステリシス損を一層低減できる。
歪み取り焼鈍を行う雰囲気は酸素を含まなければ特に限定されないが、窒素等の不活性ガス雰囲気下が好ましい。歪み取り焼鈍を行う時間は特に限定されないが、20分以上が好ましく、30分以上がより好ましく、1時間以上がさらに好ましい。
以下、本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、下記実施例は本発明を限定する性質のものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更して実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。なお、特に断らない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」をそれぞれ意味する。
[実験例1]
軟磁性鉄基粉末として純鉄粉(神戸製鋼所製「アトメル300NH」;平均粒径80μm、平均結晶粒径30μm)を用い、この純鉄粉の表面に、皮膜を形成して鉄基粉末A〜Cを得た。鉄基粉末Aは、上記純鉄粉の表面に、絶縁性無機皮膜と耐熱性樹脂皮膜がこの順で形成されている鉄基粉末、鉄基粉末Bは、上記純鉄粉の表面に、絶縁性無機皮膜が形成されている鉄基粉末、鉄基粉末Cは、上記純鉄粉の表面に、耐熱性樹脂皮膜が形成されている鉄基粉末である。
絶縁性無機皮膜としては、リン酸皮膜を次の手順で形成した。水1000部、H3PO4193部、MgO31部、H3BO330部を混合して、さらに10倍に希釈した処理液50部を、目開き300μmの篩を通した上記純鉄粉1000部に添加して、V型混合機を用いて5分間混合した後、大気中で、200℃で30分間乾燥し、目開き300μmの篩を通した。
耐熱性樹脂皮膜としては、シリコーン樹脂皮膜を次の手順で形成した。シリコーン樹脂(信越化学工業製の「KR220L」)をトルエンに溶解させて、5質量%の固形分濃度の樹脂溶液を作製した。鉄粉に対して樹脂固形分が0.1%となるように添加混合し、オーブン炉で、大気中、75℃で20分間、加熱乾燥した後、目開き500μmの篩を通した。
得られた鉄基粉末A〜Cの断面をオージェ電子分光装置で500倍で観察し、純鉄粉の表面に形成したリン酸皮膜またはシリコーン樹脂皮膜の膜厚を深さ分析により測定した。膜厚の測定は、PとSiを深さ方向に定量分析し、PまたはSi濃度が一定になるところまでの深さを測定して行った。測定箇所は5箇所とし、測定結果を平均して平均膜厚を算出した。鉄基粉末A〜Cの各膜厚は次の通りであった。
鉄基粉末A:リン酸皮膜の膜厚は40nm、シリコーン樹脂皮膜の膜厚は40nm
鉄基粉末B:リン酸皮膜の膜厚は40nm
鉄基粉末C:シリコーン樹脂皮膜の膜厚は40nm
次に、得られた鉄基粉末A〜Cを、夫々圧粉成形し、成形体を得た。圧粉成形は、ステアリン酸亜鉛をアルコールに分散させて金型表面に塗布した後、鉄粉を入れ、面圧784〜1176MPa、室温(25℃)で、成形体の密度が7.5g/cmとなるように成形した。成形体の寸法は、31.75mm×12.7mm、高さ約5mmである。その後、窒素雰囲気下で、昇温速度を約50℃/分として400℃、450℃、500℃、550℃、或いは600℃に加熱し、この温度で1時間保持した後、炉冷して歪み取り焼鈍した。
歪み取り焼鈍して得られた成形体の表面を400番で研磨し、比抵抗を岩崎通信機製のデジタルマルチメータ「VOAC−7510」を用いて4端子法で測定した。測定結果を下記表1に示す(表1の熱処理温度400〜600℃)。なお、下記表1には、上記鉄基粉末A〜Cを圧粉成形して得られた成形体(歪み取り焼鈍なし)の比抵抗を測定した結果も示す(表1の熱処理温度25℃)。また、表1の結果を図3に示す。なお、図3中、●は鉄基粉末Aの結果、■は鉄基粉末Bの結果、▲は鉄基粉末Cの結果を示している。
表1および図3から明らかなように、純鉄粉の表面に、リン酸皮膜とシリコーン樹脂皮膜(図3中の●)を形成することにより、歪み取り焼鈍温度を高くしても、リン酸皮膜の熱的安定性確保することができ、比抵抗を高く維持できることが分かる。
Figure 2010225673
[実験例2]
上記実験例1で調製した鉄基粉末Aと鉄基粉末Bをベースとし、リン酸皮膜とシリコーン樹脂皮膜の膜厚を下記表2に示したように変えた鉄基粉末A−1〜A−3と鉄基粉末B−1〜B−3を調製した。鉄基粉末A−1〜A−3は上記実験例1で得られた鉄基粉末Aをベースとしており、鉄基粉末B−1〜B−3は上記実験例1で得られた鉄基粉末Bをベースとしている。なお、リン酸皮膜の膜厚は、リン酸処理液の希釈倍率を調整し、リン酸濃度を変えて制御した。シリコーン樹脂皮膜の膜厚は、シリコーン樹脂溶液のシリコーン樹脂濃度を調整して制御した。
得られた鉄基粉末A−1と鉄基粉末B−1、鉄基粉末A−2と鉄基粉末B−2、鉄基粉末A−3と鉄基粉末B−3を、それぞれ質量比1:1で混合した混合粉末(下記表3のNo.1〜3)、または鉄基粉末A−1〜A−3のみ(下記表3のNo.4〜6)を用い、圧粉成形して成形体を得た。圧粉成形は、ステアリン酸亜鉛をアルコールに分散させて金型表面に塗布した後に鉄粉を入れ、面圧980〜1176MPaで150℃で、成形体の密度が7.65g/cm3となるように行った。成形体の寸法は、31.75mm×12.7mm、高さ約5mmである。その後、窒素雰囲気下で、昇温速度を約50℃/分として600℃に加熱し、この温度で1時間保持した後、炉冷して歪み取り焼鈍した。
歪み取り焼鈍して得られた成形体の磁束密度を横河電機製の自動磁気試験装置「Y−1807」を用いて周波数200Hz、励磁磁場10000A/mとして測定した。結果を下記表3に示す。また、鉄基粉末の全膜厚(図1または図2に示した原料鉄基粉末間の距離x)と磁束密度の関係を図4に示す。なお、図4中、■は下記表3のNo.1〜3の結果、●は下記表3のNo.4〜6の結果を示している。
表3および図4から明らかなように、鉄基粉末Aと鉄基粉末Bを混合することで、磁束密度を大きくできることが分かる。
Figure 2010225673
Figure 2010225673
[実験例3]
上記実験例1で得られた鉄基粉末Aと鉄基粉末Bを、下記表4に示す割合で混合した混合粉末を用い、圧粉成形して成形体を得た。圧粉成形は、ステアリン酸亜鉛をアルコールに分散させて金型表面に塗布した後に鉄粉を入れ、面圧980〜1176MPaで150℃で、成形体の密度が7.65g/cm3となるように成形した。成形体の寸法は、31.75mm×12.7mm、高さ約5mmである。その後、窒素雰囲気下で、昇温速度を約50℃/分として500℃に加熱し、この温度で1時間保持した後、炉冷して歪み取り焼鈍した。
歪み取り焼鈍して得られた成形体の比抵抗、磁束密度および鉄損を測定した。成形体の比抵抗は、上記実験例1と同じ条件で測定した。測定結果を下記表4に示す。成形体の磁束密度は、上記実験例2と同じ条件で測定した。測定結果を下記表4に示す。また、鉄基粉末Bの混合割合と磁束密度の関係を図5に示す。成形体の鉄損は、横河電気製の自動磁気試験装置「Y−1807」を用いて周波数200Hz、励磁磁束密度1.5Tとして測定した。結果を下記表4に示す。また、鉄基粉末Bの混合割合と鉄損の関係を図6に示す。
表4および図5から明らかなように、鉄基粉末Bの混合割合を増やすことによって、磁束密度を大きくすることができる。一方、表4および図6から明らかなように、鉄基粉末Bの混合割合が60%までであれば、鉄損を低いまま維持できる。従って鉄基粉末Bの混合割合が60%以下であれば、圧粉磁心の鉄損を増大させることなく、磁束密度を高めることができる。
Figure 2010225673
1 原料鉄基粉末
a 絶縁性無機皮膜
b 耐熱性樹脂皮膜
c 絶縁性無機皮膜
AとB 鉄基粉末
x 原料鉄基粉末1間の距離

Claims (5)

  1. 表面に絶縁性無機皮膜aと耐熱性樹脂皮膜bがこの順で形成されている鉄基粉末Aと、表面に絶縁性無機皮膜cが形成されている鉄基粉末Bを含むことを特徴とする圧粉磁心用混合粉末。
  2. 前記鉄基粉末Aと前記鉄基粉末Bの混合割合が下記(1)式を満足する請求項1に記載の混合粉末。
    0%<[鉄基粉末Bの質量/(鉄基粉末Aの質量+鉄基粉末Bの質量)]×100≦60% ・・・(1)
  3. 前記絶縁性無機皮膜aの平均膜厚が1nm以上、
    前記耐熱性樹脂皮膜bの平均膜厚が20nm以上、
    前記絶縁性無機皮膜cの平均膜厚が1nm以上で、且つ
    前記絶縁性無機皮膜aと前記耐熱性樹脂皮膜bと前記絶縁性無機皮膜cの平均膜厚の合計が250nm以下である請求項1または2に記載の混合粉末。
  4. 前記絶縁性無機皮膜aと前記絶縁性無機皮膜cとしてリン酸皮膜が形成されており、前記耐熱性樹脂皮膜bとしてシリコーン樹脂皮膜が形成されている請求項1〜3のいずれかに記載の混合粉末。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載の混合粉末を圧粉成形した後、歪み取り焼鈍を400℃以上で行うことを特徴とする圧粉磁心の製造方法。
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