JP2010223324A - 防振装置 - Google Patents

Abstract

【課題】アイドル振動、シェイク振動を効果的に減衰吸収することができるうえ、微振幅のシェイク振動が入力された場合であっても第１制限通路を主に利用して振動を効果的に減衰吸収すること。
【解決手段】液体が封入された第１取付部材内の液室を主液室と副液室とに区画する仕切り部材８を備えた装置であって、この仕切り部材には、主液室と副液室とを連通させ、シェイク振動の入力に対して液柱共振を生じさせる第１制限通路Ｒ２と、流通抵抗が第１制限通路より小さく、且つ、アイドル振動の入力に対して液柱共振を生じさせる第２制限通路Ｒ１と、主液室内の液圧変動に応じて第２制限通路と副液室との連通及びその遮断を切り替える切替機構１７と、が設けられ、第２制限通路には、アイドル振動の入力時に該通路内で液柱共振を生じさせるように弾性変形し、且つ、主液室と副液室との連通を遮断する薄膜体１８が配設されている防振装置を提供する。
【選択図】図３

Description

本発明は、自動車や産業機械等に適用され、エンジン等の振動発生部の振動を減衰吸収させる液体封入型の防振装置に関するものである。

乗用車等の車両では、振動発生部となるエンジンと振動受け部となる車体との間に防振装置が介装されており、この防振装置がエンジンから発生する振動を減衰吸収し、車体側に伝達されるのを阻止するような構造となっている。
この種の防振装置の１つとして、振動発生部と振動受け部とのうちいずれか一方に連結される外筒と、他方に連結される内筒と、これら両筒を弾性的に連結する弾性体と、外筒内の液室を主液室と副液室とに区画すると共に、両液室を連通するオリフィス通路（制限通路）が形成された仕切り部材と、を備えた液体封入型の防振装置が従来から知られている。

近年では、シェイクオリフィス通路（第１制限通路）と該通路よりも液体の流通抵抗が小さいアイドルオリフィス通路（第２制限通路）とで、オリフィス通路を構成し、入力振動の周波数や振幅に起因した主液室内の液圧変動に応じて両通路を切り替えることにより、シェイク振動の入力時には液体をシェイクオリフィス通路内に流通させ、アイドル振動の入力時には液体をアイドルオリフィス通路内に流通させる防振装置が提案されている。
この種の防振装置の１つとして、主液室内の液圧変動に応じてスライド移動するピストン部材を利用して、シェイクオリフィス通路とアイドルオリフィス通路とを切り替える防振装置が知られている（特許文献１参照）。

この防振装置では、筒状に形成されて内部がシリンダ室とされたオリフィス部材と、シリンダ室の内周面に沿って軸方向にスライド移動するピストン部材と、オリフィス部材に蓋をしてピストン部材を内部に収容させる蓋部材と、で主に仕切り部材が構成されている。
ピストン部材は、オリフィス部材の内部を、主液室に連通する液圧空間と、副液室に連通するオリフィス空間との２つの空間に区画している。そして、ピストン部材は、主液室内の液圧に応じてスライド移動し、オリフィス部材に形成されたオリフィス開口を閉塞或いは開放する役割を担っている。

また、オリフィス部材の外周面には、共用オリフィス部及び専用オリフィス部からなる溝部が螺旋状に形成されている。この際、溝部の一端側には共用オリフィス部に繋がる一方の連通路が形成され、他端側には専用オリフィス部に繋がる他方の連通路が形成されている。そして、この溝部は、一方の連通路及び蓋部材に形成された切欠孔を介して主液室に一端側が連通していると共に、他方の連通路を介して副液室に他端側が連通している。
よって、共用オリフィス部、専用オリフィス部及び２つの連通路は、上述したシェイクオリフィス通路として機能する。

また、共用オリフィス部と専用オリフィス部との境界付近には、オリフィス部材を貫通してオリフィス空間に連通するオリフィス開口が形成されている。よって、ピストン部材がオリフィス開口を開放している場合には、共用オリフィス部とオリフィス空間とがオリフィス開口を通じて連通するようになっている。
よって、共用オリフィス部、オリフィス開口及びオリフィス空間は、上述したアイドルオリフィス通路として機能する。

このように構成された防振装置において、振動発生部から振動が発生すると、この振動によって弾性体が弾性変形すると共に主液室内に振動に応じた液圧変動が生じる。この際、入力された振動がアイドル振動の場合には、ピストン部材はオリフィス開口を開放する開放位置に保持されている。そのため、主液室内の液体は、シェイクオリフィス通路よりも流通抵抗が小さいアイドルオリフィス通路を優先的に通って、主液室内と副液室内との間を行き来する。この際、アイドルオリフィス通路の流通抵抗が、アイドル振動の周波数及び振幅に対応するようにチューニングされているので、液体に共振現象（液柱共振）が生じ、この液柱共振の作用によってアイドル振動を効果的に減衰吸収する。

一方、入力された振動がシェイク振動の場合には、主液室内に大きな液圧変化が生じるので、液圧空間に液体が流入してピストン部材を下方移動させる。これにより、ピストン部材は、オリフィス開口を閉塞する閉塞位置に移動して、この位置で保持される。そのため、主液室内の液体は、シェイクオリフィス通路のみを通って、主液室内と副液室内との間を行き来する。この際、シェイクオリフィス通路の流通抵抗が、シェイク振動の周波数及び振幅に対応するようにチューニングされているので、アイドル振動時と同様に液柱共振の作用によってシェイク振動を効果的に減衰吸収する。

上述したように、従来の防振装置は、主液室内の液圧変動に応じてスライド移動するピストン部材を利用してシェイクオリフィス通路とアイドルオリフィス通路とを切り替えることで、アイドル振動とシェイク振動とを共に効果的に減衰吸収している。

特開２００７−２４７６６０号公報

ところで、溝部を構成する共用オリフィス部は、アイドルオリフィス通路の一構成部材であると共にシェイクオリフィス通路の一構成部材でもあり、一方の連通路及び蓋部材の切欠孔を通じて常時主液室内に連通している。そのため、入力される振動がアイドル振動であってもシェイク振動であっても、共用オリフィス部には液体が流入するようになっている。
ここで、共用オリフィス部に流入してきた液体をオリフィス空間側に流すか、或いは、専用オリフィス部側に流すか、を決定しているのは、ピストン部材である。つまり、オリフィス開口を開放する開放位置から、閉塞する閉塞位置までピストン部材を下方移動させない限り、液体はオリフィス空間側に流れてしまう。即ち、主液室内の液圧変動を大きくしてピストン部材を下方移動させない限り、アイドルオリフィス通路からシェイクオリフィス通路への切り替えを行うことができない。

一般的に、アイドル振動は共振周波数が１８Ｈｚ〜３０Ｈｚ程度と高く、シェイク振動はこれに対して共振周波数が１０Ｈｚ程度と低い。このように、アイドル振動が入力されるアイドルモードと、シェイク振動が入力されるシェイクモードとでは、共振周波数が離れているので、アイドルオリフィス通路とシェイクオリフィス通路とを適切に切り替える必要がある。仮に、アイドルモードで液体がシェイクオリフィス通路に流れたり、シェイクモードで液体がアイドルオリフィス通路に流れたりしてしまった場合には、液柱共振の作用によって振動を減衰吸収できる効果を期待することができなくなってしまう。

通常、シェイク振動の方がアイドル振動よりも振幅が大きいので、主液室内の液圧変動を大きくすることができ、ピストン部材を下方移動させることができる。しかしながら、シェイク振動の中には、振幅がアイドル振動に近い小さな振幅のシェイク振動（微振幅のシェイク振動）が含まれている。
よって、この微振幅のシェイク振動が従来の防振装置に入力された場合には、ピストン部材を下方移動させるほど主液室内の液圧変動を大きくすることができないので、オリフィス開口が開放されたままの状態になってしまっていた。よって、主液室内の液体は、シェイクオリフィス通路ではなくアイドルオリフィス通路に優先的に流れてしまっていた。つまり、本来シェイクオリフィス通路に流すべきところ、アイドルオリフィス通路側に流れてしまっていたので、液柱共振の作用を期待することができず、微振幅のシェイク振動を減衰吸収することが難しかった。

この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、アイドル振動、シェイク振動に応じて第１制限通路と第２制限通路とを適切に切り替えて両振動を効果的に減衰吸収することができるうえ、微振幅のシェイク振動が入力された場合であっても、第１制限通路を主に利用して振動を効果的に減衰吸収することができる防振装置を提供することである。

上記の目的を達成するために、この発明は以下の手段を提供している。
（１）本発明に係る防振装置は、振動発生部と振動受け部とのうちいずれか一方に連結される筒状の第１取付部材及び他方に連結される第２取付部材と、前記第１取付部材と前記第２取付部材とを弾性的に連結する弾性体と、液体が封入された前記第１取付部材内の液室を、前記弾性体を壁面の一部とする一方側の主液室と他方側の副液室とに区画する仕切り部材と、を備えた液体封入型の防振装置であって、前記仕切り部材には、前記主液室と前記副液室とを連通させ、シェイク振動の入力に対して液柱共振を生じさせる第１制限通路と、流通抵抗が前記第１制限通路より小さく、且つ、アイドル振動の入力に対して液柱共振を生じさせる第２制限通路と、前記主液室内の液圧変動に応じて、前記第２制限通路と前記副液室との連通及びその遮断を切り替える切替機構と、が設けられ、前記第２制限通路には、アイドル振動の入力時に該通路内で液柱共振を生じさせるように弾性変形し、且つ、前記主液室と前記副液室との連通を遮断する薄膜体が配設されていることを特徴とする。

この発明に係る防振装置においては、共振周波数が高く振幅が小さいアイドル振動が入力されると、この振動によって弾性体が弾性変形すると共に、主液室内にこの振動に応じた液圧変動が生じる。すると、この液圧変動は、薄膜体を通して第２制限通路内に伝えられる。この際、第２制限通路内の薄膜体は、該通路内で液柱共振を生じさせるように弾性変形するので、第２制限通路内と副液室との間で液体に共振現象（液柱共振）を生じさせることができる。従って、この液柱共振の作用によってアイドル振動を効果的に減衰吸収することができる。
なお、アイドル振動が入力された場合には、シェイク振動時とは異なり主液室内に大きな液圧変動が生じ難い。そのため、切替機構が作動せず第２制限通路が副液室に連通した状態となっている。

一方、共振周波数が低く振幅が大きいシェイク振動が入力されると、この振動によって弾性体が大きく弾性変形すると共に、主液室内にこの振動に応じた大きな液圧変動が生じる。すると、切替機構が、第２制限通路と副液室との連通を遮断する。これにより、液体は流通抵抗がシェイク振動にチューニングされた第１制限通路のみを通って主液室と副液室との間を行き来する。これにより、液体に共振現象（液柱共振）が生じ、この液柱共振の作用によってシェイク振動をやはり効果的に減衰吸収することができる。

ところで、振幅がアイドル振動に近い小さな振幅のシェイク振動（微振幅のシェイク振動）が入力された場合には、シェイク振動時とは異なり主液室内に大きな液圧変動が生じ難い。そのため、切替機構が作動せず第２制限通路が副液室に連通した状態となっている。ところが、第２制限通路には、薄膜体が配設されているので、この通路を通した主液室と副液室との連通を遮断している。よって、主液室内の液体が第２制限通路内に直接流入することがない。しかも、この薄膜体は、アイドル振動の入力時に弾性変形するようになっているので、微振幅のシェイク振動に起因した主液室内の液圧変動を第２制限通路内に伝え難くすることができる。そのため、第２制限通路内で液柱共振が生じ難い。
従って、微振幅のシェイク振動が入力された場合には、主液室内の液体を、第１制限通路を通じて積極的に主液室と副液室との間で行き来させることができる。その結果、従来減衰吸収することが難しかった微振幅のシェイク振動に関しても、第１制限通路を主に利用して効果的に減衰吸収することができる。

（２）本発明に係る防振装置は、上記本発明の防振装置において、前記薄膜体が、前記切替機構よりも前記主液室側に配設されていることを特徴とする。

この発明に係る防振装置においては、薄膜体が第２制限通路内において切替機構よりも主液室側に配設されているので、第２制限通路と副液室との連通及びその遮断を切り替えるという切替機構の動作を阻害することなく、薄膜体としての機能を発揮させることができる。

（３）本発明に係る防振装置は、上記本発明の防振装置において、前記第２制限通路と前記第１制限通路とが、互いに独立した通路として形成されていることを特徴とする。

この発明に係る防振装置においては、第２制限通路と第１制限通路とが一部共通するのではなく、互いに独立した通路であるので、相手側の通路に何ら影響を与えることなくそれぞれの流路抵抗を所望する値にチューニングすることが可能である。例えば、第１制限通路の流路抵抗はそのままで、第２制限通路の流路抵抗をより高い共振周波数側に設定するといったことが可能である。このように、第２制限通路及び第１制限通路のチューニングをそれぞれ自由に行えるので、設計の自由度を向上することができるうえ、それぞれのチューニングを容易且つ微細に行えるので防振性能を向上させることができる。
更に、第２制限通路と第１制限通路とが互いに独立しているうえ、薄膜体が配設されているため、主液室内の液圧のピークが２つになり、アイドル振動が入力されている際のアイドルモードとシェイク振動が入力されている際のシェイクモードとの切り替えをよりスムーズに行うことができる。

（４）本発明に係る防振装置は、上記本発明の防振装置において、前記仕切り部材には、前記アイドル振動よりも共振周波数が高い高周波振動を減衰吸収させる高周波用薄膜体が前記主液室に面して形成されていることを特徴とする。

この発明に係る防振装置においては、主液室に面して高周波用薄膜体が形成されているので、共振周波数が非常に高い周波数（例えば、１００Ｈｚ以上）である高周波振動が入力された場合であっても、高周波用薄膜体の弾性変形によって高周波振動を減衰吸収することができる。従って、例えばこもり音等、高周波振動に起因する悪影響の発生を抑制することができる。

（５）本発明に係る防振装置は、上記本発明の防振装置において、前記仕切り部材が、前記主液室及び前記副液室にそれぞれ連通され、内周面にオリフィス開口部が形成されたシリンダ室を有し、前記切替機構が、前記シリンダ室内を、前記第２制限通路の一部を構成すると共に前記副液室に連通したオリフィス空間と、前記第２制限通路から隔離されると共に前記主液室に連通した加圧空間と、に区画すると共に、主液室内の液圧変動に応じて両空間の拡縮方向に移動するピストン部材を有し、前記オリフィス開口部が、前記第２制限通路における前記オリフィス空間と他の部分とを連通させていると共に、前記ピストン部材の移動によって閉塞或いは開放させられることを特徴とする。

この発明に係る防振装置においては、アイドル振動が入力されている場合には、ピストン部材がオリフィス開口部を開放させている。これにより、第２制限通路におけるオリフィス空間と他の部分とが連通するので、第２制限通路を副液室に連通させることができる。一方、シェイク振動が入力され、主液室内に大きな液圧変動が生じると、加圧空間の液圧が高まるので、加圧空間の内容積を拡大し、オリフィス空間の内容積を縮小させるようにピストン部材が移動する。この移動によって、ピストン部材はオリフィス開口部を閉塞させる。これにより、第２制限通路と副液室との連通を遮断することができる。
このように、主液室内の液圧変動に応じて自然且つスムーズに第２制限通路と副液室との連通及びその連通の遮断を切り替えることできるので、アイドルモードとシェイクモードとの切り替えをよりスムーズに行うことができる。

（６）本発明に係る防振装置は、上記本発明の防振装置において、前記仕切り部材には、規定値以上の前記薄膜体の弾性変形を規制する規制部材が設けられていることを特徴とする。

この発明に係る防振装置においては、仮に薄膜体が規定値を超えて過度に弾性変形しようとしても、規制部材が弾性変形を途中で規制してそれ以上弾性変形してしまうことを抑制することができる。従って、薄膜体の作動の信頼性を高めることができ、微振幅のシェイク振動を第１制限通路側により確実に流入させることができる。

本発明に係る防振装置によれば、アイドル振動又はシェイク振動に応じて、第１制限通路と第２制限通路とを適切に切り替えて両振動を効果的に減衰吸収することができるうえ、微振幅のシェイク振動が入力された場合であっても、第１制限通路を主に利用して振動を効果的に減衰吸収することができる。

本発明に係る防振装置の一実施形態を示す縦断面図であって、図６に示すＡ−Ａ断面線に沿って仕切り部材を断面視した状態の図である。 図１に示す防振装置を別の視点から見たときの縦断面図であって、図６に示すＢ−Ｂ断面線に沿って仕切り部材を断面視した状態の図である。 図１に示す防振装置を構成する仕切り部材の分解斜視図である。 図３に示す仕切り部材の縦断面図であって、図１と同じ視点で断面視した状態の図である。 図３に示す仕切り部材の縦断面図であって、図２と同じ視点で断面視した状態の図である。 図３に示す仕切り部材を構成するオリフィス部材を上面から見た平面図である。 図６に示す仕切り部材の斜視図であって、図３に示す矢印Ｃ方向から見た斜視図である。 図６に示す仕切り部材の側面図であって、図３に示す矢印Ｄ方向から見た側面図である。 図２に示す状態から、オリフィス開口部を閉塞する位置にピストン部材がスライド移動して、第２制限通路と副液室との連通を遮断した状態の断面図である。

以下、本発明に係る一実施形態について、図１から図９を参照して説明する。本実施形態の防振装置は、振動発生部と振動受け部との間に介装され、振動発生部で発生した振動を減衰吸収及び減衰させる液体封入型の防振装置である。

図１及び図２に示すように、この防振装置１は、振動発生部と振動受け部とのうちいずれか一方に連結される筒状の第１取付部材２と、他方に連結される第２取付部材３と、第１取付部材２と第２取付部材３とを弾性的に連結すると共に、第１取付部材２の一端側開口を閉塞するゴム弾性体（弾性体）４と、第１取付部材２の他端側開口を閉塞するダイヤフラム５と、液体Ｗが封入された第１取付部材２の内部を、ゴム弾性体４を壁面の一部とする一方側の主液室６と、ダイヤフラム５を壁面の一部とする他方側の副液室７とに区画する仕切り部材８と、で主に構成されている。

なお、図１及び図２は共に防振装置１の縦断面を示す図であり、図１は図６に示すＡ−Ａ断面線に沿って仕切り部材８を断面視した状態の断面図であり、図２は図６に示すＢ−Ｂ断面線に沿って仕切り部材８を断面視した状態の断面図である。
また、上述した各構成品は、それぞれ上面視円形状或いは円環状に形成されると共に、それぞれの中心軸が共通軸上に位置している。よって、本実施形態ではこの共通軸を中心軸Ｏという。また、中心軸Ｏに直交する方向を径方向といい、さらに中心軸Ｏを中心に周回する方向を周方向という。なお、図２では、仕切り部材８の断面状況に伴って中心軸Ｏが紙面に対して左側に寄った状態となっている。

このように構成された防振装置１が例えば自動車に装着された場合には、第２取付部材３が振動発生部としてのエンジンに連結され、第１取付部材２が振動受け部としての車体に連結される。これにより、エンジンの振動が車体に伝達されるのを抑えることができるようになっている。

以下、各構成品について、詳細に説明する。
第１取付部材２は、中心軸Ｏ方向の略中間部から下端部に亘る部分が仕切り部材８の形状に合わせて径方向内方に縮径している。また、この縮径した部分よりも上端部側に位置する部分には、径方向内方に凹む絞り部２ａが全周に亘って形成されている。そして、上述したように、この絞り部２ａよりも上端部側に位置する一端側開口がゴム弾性体４で閉塞され、絞り部２ａよりも下端部側に位置する他端側開口がダイヤフラム５で閉塞されている。
なお、第１取付部材２の下端部は、径方向内方に向けてテーパ状に折り曲げられたカシメ部２ｂとなっており、ダイヤフラム５の脱落防止に貢献している。

第２取付部材３は、柱状に形成されていると共に、下端部が下方に向かってテーパ状に漸次縮径する略円錐台状に形成されている。また、この第２取付部材３には、上端部から下方に向かって中心軸Ｏに沿ったねじ部３ａが形成されている。第２取付部材３は、このねじ部３ａを利用することで、例えば振動発生部に連結されるようになっている。

ゴム弾性体４は、第１取付部材２の一端側開口の内周面と第２取付部材３の外周面とに接着されており、第１取付部材２の一端側開口を閉塞している。この際、ゴム弾性体４は、絞り部２ａよりも中心軸Ｏ方向の一端側に位置する一端側部分２ｃの内周面の全域に亘って接着されている。また、ゴム弾性体４には、絞り部２ａ付近から下方に延在する薄肉筒状のゴム膜４ａが一体的に形成されている。このゴム膜４ａは、第１取付部材２の内周面を被覆しながらカシメ部２ｂまで延在しており、第１取付部材２の内周面に対して加硫接着されている。
なお、ゴム弾性体４及びゴム膜４ａは、天然ゴム等を主成分とする同一のゴム材料で一体的に形成されている。

ダイヤフラム５は、上面視円形状に形成されており、外周縁部が全周に亘って嵌合筒９の内周面に加硫接着されている。そして、この嵌合筒９が、ゴム膜４ａを挟んで第１取付部材２のカシメ部２ｂに嵌合されることにより、ダイヤフラム５が第１取付部材２の他端側を閉塞している。

ところで、第１取付部材２の内部は、ゴム弾性体４及びダイヤフラム５によって液密に閉塞され、エチレングリコール、水やシリコンオイル等の液体Ｗが充填された液室として機能する。この液室は、仕切り部材８によって、ゴム弾性体４を壁面の一部とし、ゴム弾性体４の弾性変形により内容積が変化する主液室６と、ダイヤフラム５を壁面の一部とし、ダイヤフラム５の弾性変形により内容積が変化する副液室７と、に区画されている。

仕切り部材８は、図３から図５に示すように、断面視ハット状に形成されたオリフィス部材１０と、オリフィス部材１０に組み合わされるメンブランプレート１１と、オリフィス部材１０に嵌合され、メンブランプレート１１を主液室６側から覆うオリフィスプレート１２と、を備えている。
なお、図３は、仕切り部材８の分解斜視図である。図４は、図１に示す視点における仕切り部材８の断面図である。図５は、図２に示す視点における仕切り部材８の断面図である。

また、この仕切り部材８には、アイドルオリフィス通路（第２制限通路）Ｒ１と、シェイクオリフィス通路（第１制限通路）Ｒ２と、アイドルオリフィス通路Ｒ１の入口に相当するアイドル開口部１５と、シェイクオリフィス通路Ｒ２の入口に相当するシェイク開口部１６と、主液室６の液圧変動に応じてアイドルオリフィス通路Ｒ１と副液室７との連通及びその遮断を切り替える切替機構１７と、アイドルオリフィス通路Ｒ１に配設され、該通路Ｒ１を通しての主液室６と副液室７との連通を遮断するアイドルメンブラン（薄膜体）１８と、主液室６に面するように形成された高周波メンブラン（高周波用薄膜体）１９と、が設けられている。

以下、この仕切り部材８について詳細に説明する。
オリフィス部材１０は、図３から図８に示すように、合成樹脂やアルミニウム等の金属材料により略円柱状に形成されており、主液室６に面する一端側には径方向外方に延在したリング状のフランジ部１０ａが一体的に形成されている。
なお、図６は、オリフィス部材１０の平面図である。図７は、図３に示す矢印Ｃ方向から見たオリフィス部材１０の斜視図である。図８は、図３に示す矢印Ｄ方向から見たオリフィス部材１０の側面図である。

主液室６に面するオリフィス部材１０の一端側には、主に大きく４つに区画された部屋が中心軸Ｏに沿って凹み形成されている。即ち、アイドルメンブラン室２０と、シェイクオリフィス室２１と、高周波メンブラン室２２と、シリンダ室２３と、がそれぞれ区画された状態で形成されている。

アイドルメンブラン室２０は、オリフィス部材１０の厚みの略中間部まで凹み形成された部屋であり、連通開口部２５を通じてオリフィス部材１０の外側に連通している。ここで、オリフィス部材１０の外周面には、周方向にそって延びる２つの周溝２６、２７がそれぞれ形成されている。
この２つの周溝２６、２７のうち、一方の周溝２６は、オリフィス部材１０の厚みの略中間部に形成された溝であり、アイドルメンブラン室２０とシリンダ室２３とを外側で繋ぐように略半周程度周方向に沿って形成されている。
これに対して、他方の周溝２７は、オリフィス部材１０の厚みの略中間部付近で、且つ、シェイクオリフィス室２１の外側に位置する部分を起点として、略１周半程度周方向に沿って形成された溝である。この際、途中でオリフィス部材１０の下端部側に落ちるように形成されている。つまり、他方の周溝２７は、オリフィス部材１０の外周面を、途中で高さを変えながら略１周半程周回するように形成されている。

そして、上述した連通開口部２５は、一方の周溝２６の一方側に連通するように形成されている。つまり、アイドルメンブラン室２０は、連通開口部２５を通じて一方の周溝２６に連通するようになっている。なお、連通開口部２５の開口面積は、一方の周溝２６の流路断面積よりも大きくなるように設計されている。

また、オリフィス部材１０の外周面に形成された２つの周溝２６、２７は、図１及び図２に示すように、径方向外方から第１取付部材２の内周面に被覆されたゴム膜４ａによって閉塞されている。また、これら２つの周溝２６、２７は、それぞれ流路断面積が異なるように設計されている。
具体的には、一方の周溝２６の流路断面積は、車両のアイドリング運転時に発生するアイドル振動の共振周波数及び振幅（例えば、周波数が１８Ｈｚ〜３０Ｈｚで、振幅が±０．２ｍｍ以下）に対応するように設計されている。つまり、一方の周溝２６は、流路抵抗がアイドル振動に対応するようにチューニングされ、アイドル振動の入力に対して液柱共振を生じさせるように設計されている。

これに対して、他方の周溝２７の流路断面積は、車両の通常運転時に発生するシェイク振動の共振周波数及び振幅（例えば、周波数が１０Ｈｚ以下で振幅が±０．２ｍｍより大きい）に対応するように設計されている。つまり、他方の周溝２７は、流路抵抗がシェイク振動に対応するようにチューニングされ、シェイク振動の入力に対して液柱共振を生じさせるように設計されている。
なお、他方の周溝２７に関しては、オリフィス部材１０の下端部側に一段落ちた後に、流路断面積が上述したように設計されている。

シリンダ室２３は、図３から図８に示すように、平面視円形状でオリフィス部材１０の下端部付近まで凹み形成された部屋であり、底壁部に形成された流通開口３０を通じて副液室７に連通している。なお、本実施形態の流通開口３０は、後述する軸部３２を中心とする周方向に沿って円弧状に形成されているうえ、軸部３２を挟んで対向するように２つ形成されている。但し、流通開口３０の形状や数は、この場合に限定されるものではなく自由に設計して構わない。
また、底壁部の中央部（流通開口３０よりも径方向の内側に位置する部分）３１は、他の部分よりも副液室７側に向けて突出し且つ厚みが大きくなるように設計されている。

また、底壁部の中央部３１には、主液室６に向けて中心軸Ｏに沿った軸部３２が立設されている。この軸部３２は、例えば中実の円柱状に形成されており、先端がメンブランプレート１１の後述する逆止弁６２の嵌合孔６２ｂに嵌り込むようになっている。また、底壁部には、軸部３２を囲むように環状に凹んだ収容溝３３が形成されており、後述するコイルスプリング３２の下端部が嵌り込むようになっている。更に、底壁部には、収容溝３３の径方向の外側に２つの挿入孔３４が軸部３２を挟んで対向するように形成されている。この挿入孔３４は、後述するストッパ筒４２の脚部４２ａが挿入される孔であり、ストッパ筒４２の位置決めに利用されるものである。

シリンダ室２３の内周面には、オリフィス部材１０の外側に連通するアイドルオリフィス開口部（オリフィス開口部）３５が形成されている。この際、アイドルオリフィス開口部３５は、一方の周溝２６の他方側に連通するように形成されている。これにより、アイドルメンブラン室２０とシリンダ室２３とは、一方の周溝２６を通じて連通するようになっている。
なお、このアイドルオリフィス開口部３５は、正面視した際に一方の周溝２６の延在方向に長いスロット状に形成されており、その延在方向の大きさは延在方向に直交する方向の大きさの略２倍以上となっている。また、開口面積は、一方の周溝２６の流路断面積よりも大きくなるように設計されている。

ところで、シリンダ室２３内には、軸部３２に沿ってスライド移動するピストン部材４０が収容されている。このピストン部材４０は、シリンダ室２３内を、主液室６に連通した加圧空間２３ａと、アイドルオリフィス開口部３５及び副液室７に連通したオリフィス空間２３ｂとに区画する役割を担っていると共に、主液室６内の液圧変動に応じてシリンダ室２３の内周面に摺接しながら両空間２３ａ、２３ｂをそれぞれ拡縮する方向（中心軸Ｏ方向）に移動して、アイドルオリフィス開口部３５を閉塞又は開放させる役割を担っている。なお、図４及び図５では、アイドルオリフィス開口部３５を開放している開放位置にピストン部材４０が位置している状態を図示している。

つまり、ピストン部材４０がアイドルオリフィス開口部３５を開放している場合には、アイドルメンブラン室２０、連通開口部２５、一方の周溝２６、アイドルオリフィス開口部３５及びオリフィス空間２３ｂが全て連通しており、流通開口３０を通じて副液室７に繋がった状態となっている。
よって、これらアイドルメンブラン室２０、連通開口部２５、一方の周溝２６、アイドルオリフィス開口部３５、オリフィス空間２３ｂ及び流通開口３０は、流通抵抗がシェイクオリフィス通路Ｒ２より小さく、且つ、アイドル振動の入力に対して液柱共振を生じさせるアイドルオリフィス通路Ｒ１として機能する。

これに対して、ピストン部材４０がアイドルオリフィス開口部３５を閉塞している場合には、一方の周溝２６とオリフィス空間２３ｂとの連通を遮断できるようになっている。つまり、ピストン部材４０は、主液室６内の液圧変動に応じてアイドルオリフィス通路Ｒ１と副液室７との連通及びその遮断を切り替える上記切替機構１７として機能する。

また、シリンダ室２３の底壁部とピストン部材４０との間には、コイルスプリング４１が介装されている。そのため、ピストン部材４０は、このコイルスプリング４１によって主液室６側に向けて付勢されている。この際、コイルスプリング４１の付勢力は、アイドル振動の入力時における加圧空間２３ａ内の液圧に平衡する力よりも大きく、且つ、シェイク振動の入力時における加圧空間２３ａ内の液圧に平衡する力よりも小さくなっている。なお、コイルスプリング４１は、下端部が収容溝３３に嵌り込んだ状態で軸部３２の周囲を囲むように介装されている。

更に、シリンダ室２３の底壁部には、ゴム材料でリング状に形成されたストッパ筒４２が嵌合されている。この際、ストッパ筒４２は、下方に向けて突出した２つの脚部４２ａを有しており、この脚部４２ａを底壁部に形成された挿入孔３４に挿入されることで位置決めされている。このストッパ筒４２は、ピストン部材４０が副液室７側に移動してきた際に、該ピストン部材４０の移動を停止させる役割を担っている。つまり、ピストン部材４０の副液室７側の終端位置を、ストッパ筒４２を利用して決めることができるようになっている。なお、ピストン部材４０の主液室６側の終端位置は、後述する逆止弁６２を利用して決められている。
これらコイルスプリング４１及びストッパ筒４２は、切替機構１７の一部として機能する。

シェイクオリフィス室２１は、オリフィス部材１０の厚みの略中間部付近まで凹み形成された部屋であり、連通開口部４５を通じてオリフィス部材１０の外側に連通している。この際、連通開口部４５は、流路抵抗がシェイク振動に対応するようにチューニングされた他方の周溝２７の一方側に連通するように形成されている。つまり、シェイクオリフィス室２１は、連通開口部４５を通じて他方の周溝２７に連通するようになっている。
なお、連通開口部４５の開口面積は、他方の周溝２７の流路断面積よりも大きくなるように設計されている。

ところで、他方の周溝２７の他方側には、連通切欠部４６が形成されており、この連通切欠部４６を通じて他方の周溝２７と副液室７とが連通するようになっている。つまり、シェイクオリフィス室２１、連通開口部４５、他方の周溝２７及び連通切欠部４６は、流通抵抗がシェイク振動にチューニングされ、シェイク振動の入力に対して液柱共振を生じさせるシェイクオリフィス通路Ｒ２として機能する。
特に本実施形態では、アイドルオリフィス通路Ｒ１とシェイクオリフィス通路Ｒ２とが、一部共通するのではなく互いに完全に独立した通路として形成されている。

高周波メンブラン室２２は、オリフィス部材１０を貫通して副液室７にそのまま連通するように凹み形成された部屋であるが、部屋の途中には大きさの異なる複数の開口部４７ａが形成された仕切りプレート４７が部屋を上下に区切るように形成されている。
また、高周波メンブラン室２２とアイドルメンブラン室２０とシリンダ室２３との間には、主液室６側に突出した突起部４８が形成されている。この突起部４８は、メンブランプレート１１及びオリフィスプレート１２を取り付ける際の位置決めピンとして機能する。

ところで、オリフィス部材１０の一端側には、上述した４つの各室（アイドルメンブラン室２０、シェイクオリフィス室２１、シリンダ室２３、高周波メンブラン室２２）の周囲を一体的に囲繞するように、環状溝４９が形成されている。
そして、この環状溝４９を利用してメンブランプレート１１が組み合わされるようになっている。この際、メンブランプレート１１の上面は、フランジ部１０ａの上面と略面一になるように組み合わされている。そして、フランジ部１０ａに重なるようにオリフィスプレート１２が固定されており、組み合わされたメンブランプレート１１をオリフィス部材１０との間に収容している。

なお、メンブランプレート１１及びオリフィスプレート１２には、オリフィス部材１０に形成された突起部４８が嵌合する位置決め孔５０がそれぞれ形成されている。これにより、メンブランプレート１１及びオリフィスプレート１２は、オリフィス部材１０に対して、それぞれ位置ずれすることなく確実に取り付けられている。

オリフィスプレート１２は、フランジ部１０ａを含めたオリフィス部材１０と略同一のサイズに形成された平面視円形状の薄板であり、オリフィス部材１０に形成されたアイドルメンブラン室２０、シェイクオリフィス室２１及び高周波メンブラン室２２に対向する位置に、それぞれアイドル開口部１５、シェイク開口部１６及び高周波開口部５１が各室の形状に倣って形成されている。
アイドル開口部１５は、アイドルオリフィス通路Ｒ１を構成する一部材であり、主液室６に繋がる入口開口部として機能する。同様に、シェイク開口部１６は、シェイクオリフィス通路Ｒ２を構成する一部材であり、主液室に繋がる入口開口部として機能する。更に、高周波開口部５１は、高周波メンブラン室２２と主液室６とを連通させる開口部として機能する。

また、オリフィスプレート１２には、ピストン部材４０に対向する位置に弁座開口５２が形成されている。この際、弁座開口５２は、軸部３２を中心とする周方向に間隔を開けて複数形成されている。また、これら複数の弁座開口５２の略中心には、後述する逆止弁６２の突起部６２ａが嵌まり込む嵌合孔５３が形成されている。

メンブランプレート１１は、平面視円形状に形成されており、外周縁部からオリフィス部材１０側に向かって周壁１１ａが折曲されている。そして、この周壁１１ａを環状溝４９に嵌合させることで、メンブランプレート１１はオリフィス部材１０に組み込まれている。また、このメンブランプレート１１には、オリフィスプレート１２のアイドル開口部１５、シェイク開口部１６及び高周波開口部５１に対向する位置に、アイドルメンブラン１８、シェイクオリフィス通路Ｒ２を構成する一部材であるシェイク連通孔６０、高周波メンブラン１９がそれぞれ形成されている。

アイドルメンブラン１８は、剛性がアイドル振動にチューニングされた薄膜状の弾性部材であり、アイドル振動の入力時にアイドルオリフィス通路Ｒ１内で液柱共振を生じさせるように弾性変形するように設計されている。この、アイドルメンブラン１８は、主液室６と副液室７との連通を遮断するようにアイドルオリフィス通路Ｒ１に配設されている。
なお、本実施形態では、アイドルメンブラン１８を、アイドル開口部１５に隣接する位置、即ち、ピストン部材４０等で構成される切替機構１７よりも主液室６側に配設された場合を例に挙げて説明している。また、このアイドルメンブラン１８は、高周波メンブラン１９よりも厚みが薄く形成されている。

更に、本実施形態では、アイドルメンブラン室２０の底壁部から主液室６側に向かって円柱ロッド（規制部材）６１が立設されている。この円柱ロッド６１は、アイドルメンブラン１８が規定値以上に弾性変形することを規制する役割を担っており、過度に弾性変形してしまうことを抑制している。但し、円柱ロッド６１に限定されるものではなく、アイドルメンブラン１８の過度の弾性変形を規制できれば、規制部材をどのように設計しても構わない。

高周波メンブラン１９は、アイドル振動よりも共振周波数が高い高周波振動（例えば、１００Ｈｚ以上）にチューニングされた薄膜状の弾性部材であり、高周波メンブラン室２２を塞ぎ、且つ、主液室６に面するように形成されている。

また、メンブランプレート１１には、ピストン部材４０に対向する位置に逆止弁６２が形成されている。この逆止弁６２は、例えば、ＮＲ、ＮＢＲ等のゴム組成物により平面視円形状に形成されており、２箇所の連結部６３によってメンブランプレート１１に連結されている。逆止弁６２の中央部分には、オリフィスプレート１２側に突出する突起部６２ａが形成されており、この突起部６２ａがオリフィスプレート１２の嵌合孔５３内に嵌まり込むことで、逆止弁６２が位置決めされた状態となっている。この際、逆止弁６２の上面は、オリフィスプレート１２の下面に圧接しており、複数の弁座開口５２を閉塞している。また、突起部６２ａの内部は、ピストン部材４０側に開口した嵌合孔６２ｂとなっており、この嵌合孔６２ｂ内に軸部３２の先端が嵌り込んでいる。つまり、逆止弁６２は、軸部３２によってオリフィスプレート１２側に押し付けられた状態となっている。

逆止弁６２の外縁部は、主液室６から弁座開口５２を通じて作用した液圧によって副液室７側に撓み変形するようになっている。これにより、主液室６の液体Ｗは、逆止弁６２を通って加圧空間２３ａに流入して、ピストン部材４０を副液室７側に押し下げ移動させることが可能とされている。しかしながら、液体Ｗがこれとは逆に、加圧空間２３ａ側から主液室６内に流入しようとしても、逆止弁６２がオリフィスプレート１２に圧接して弁座開口５２を閉塞するので、この流入を阻止するようになっている。

次に、上述したように構成された防振装置１に振動発生部で発生した振動が伝わってきた場合について説明する。
まず、第１取付部材２又は第２取付部材３のいずれかに、共振周波数が高く振幅が小さいアイドル振動が入力された場合には、この振動によってゴム弾性体４が弾性変形すると共に、主液室６内にこの振動に応じた液圧変動が生じる。
この際、コイルスプリング４１の付勢力がアイドル振動の入力時における加圧空間２３ａ内の液圧に平衡する力よりも大きいので、図１及び図２に示すように、ピストン部材４０はコイルスプリング４１によって押し上げられたままの状態になっている。よって、アイドルオリフィス開口部３５は開放されており、一方の周溝２６とオリフィス空間２３ｂとが連通した状態となっている。従って、アイドルオリフィス通路Ｒ１は、副液室７に連通した状態となっている。

そして、主液室６内の液圧変動は、アイドルメンブラン１８を通してアイドルオリフィス通路Ｒ１内に伝えられる。この際、アイドルオリフィス通路Ｒ１内のアイドルメンブラン１８は、該通路Ｒ１内で液柱共振を生じさせるように弾性変形するので、アイドルオリフィス通路Ｒ１内と副液室７との間で液体Ｗに共振現象（液柱共振）を生じさせることができる。従って、この液柱共振の作用によってアイドル振動を効果的に減衰吸収することができる。

一方、第１取付部材２又は第２取付部材３のいずれかに、共振周波数が低く振幅が大きいシェイク振動が入力された場合には、この振動によってゴム弾性体４が大きく弾性変形すると共に、主液室６内にこの振動に応じた液圧変動が生じる。
すると、切替機構１７が、アイドルオリフィス通路Ｒ１と副液室７との連通を遮断する。つまり、コイルスプリング４１の付勢力がシェイク振動の入力時における加圧空間２３ａ内の液圧に平衡する力よりも小さいので、主液室６内の液体Ｗは、図９に示すように、弁座開口５２を通った後、逆止弁６２の外縁部を撓み変形させながら加圧空間２３ａに流れ込み、加圧空間２３ａ内の液圧を高める。そのため、ピストン部材４０は、加圧空間２３ａの内容積を拡大し、オリフィス空間２３ｂ内の内容積を縮小させるように、シリンダ室２３の内周面に摺接しながら副液室７側に移動する。そして、ピストン部材４０は、この移動によってアイドルオリフィス開口部３５を閉塞させる。これにより、上述したように、アイドルオリフィス通路Ｒ１と副液室７との連通を遮断することができる。

よって、液圧変動が生じた後の主液室６内の液体Ｗは、流通抵抗がシェイク振動に対応してチューニングされたシェイクオリフィス通路Ｒ２のみを通って主液室６と副液室７との間を行き来する。これにより、液体Ｗに共振現象（液柱共振）が生じ、この液柱共振の作用によってシェイク振動をやはり効果的に減衰吸収することができる。

ところで、第１取付部材２又は第２取付部材３のいずれかに、共振周波数の振幅がアイドル振動に近い小さな振幅のシェイク振動（微振幅のシェイク振動）が入力された場合には、シェイク振動時とは異なり、主液室６内に大きな液圧変動が生じ難い。そのため、図１及び図２に示すように、切替機構１７が作動せずアイドルオリフィス開口部３５が開放されたままになるので、アイドルオリフィス通路Ｒ１が副液室７に連通した状態となってしまう。
ところが、アイドルオリフィス通路Ｒ１には、アイドルメンブラン１８が配設されているので、この通路Ｒ１を通じた主液室６と副液室７との連通を遮断している。よって、主液室６内の液体Ｗがアイドルオリフィス通路Ｒ１内に直接流入することがない。しかも、このアイドルメンブラン１８は、剛性がアイドル振動にチューニングされ、アイドル振動の入力時に弾性変形するように設計されている。そのため、微振幅のシェイク振動に起因した主液室６内の液圧変動をアイドルオリフィス通路Ｒ１内に伝え難くすることができる。よって、アイドルオリフィス通路Ｒ１内で液柱共振が生じ難い。

従って、微振幅のシェイク振動が入力された場合には、主液室６内の液体Ｗを、シェイクオリフィス通路Ｒ２を通じて積極的に主液室６と副液室７との間で行き来させることができる。その結果、従来減衰吸収することが難しかった微振幅のシェイク振動に関しても、シェイクオリフィス通路Ｒ２を主に利用して効果的に減衰吸収することができる。

上述したように、本実施形態の防振装置１によれば、アイドル振動又はシェイク振動に応じて、アイドルオリフィス通路Ｒ１とシェイクオリフィス通路Ｒ２とを適切に切り替えて両振動を効果的に減衰吸収することができる。また、これに加え、微振幅のシェイク振動が入力された場合であっても、シェイクオリフィス通路Ｒ２を主に利用して振動を効果的に減衰吸収することができる。
特に、ピストン部材４０を利用するので、主液室６内の液圧変動に応じて自然且つスムーズにアイドルオリフィス通路Ｒ１と副液室７との連通及びその遮断を切り替えることができ、アイドル振動が入力されている際のアイドルモードと、シェイク振動が入力されている際のシェイクモードとの切り替えをスムーズに行うことができる。

また、アイドルメンブラン１８が、アイドルオリフィス通路Ｒ１内において切替機構１７よりも主液室６側に配設されているので、アイドルオリフィス通路Ｒ１と副液室７との連通及びその遮断を切り替えるという切替機構１７の動作を阻害することなく、より具体的にはピストン部材４０の動きを阻害することなく、アイドルメンブラン１８としての機能を発揮させることができる。お
また、アイドル振動が入力された際、仮にアイドルメンブラン１８が過度に弾性変形しようとしても、円柱ロッド６１に接触してそれ以上の弾性変形が規制される。従って、アイドルメンブラン１８の作動の信頼性を高めることができる。

また、本実施形態では、アイドルオリフィス通路Ｒ１とシェイクオリフィス通路Ｒ２とが一部共通するのではなく、互いに独立した通路とされている。従って、相手側の通路に何ら影響を与えることなくそれぞれの流路抵抗を所望する値にチューニングすることが可能である。例えば、シェイクオリフィス通路Ｒ２の流路抵抗はそのままで、アイドルオリフィス通路Ｒ１の流路抵抗をより高い共振周波数側に設定することが可能である。
このように、アイドルオリフィス通路Ｒ１及びシェイクオリフィス通路Ｒ２のチューニングをそれぞれ自由に行えるので、設計の自由度を向上することができるうえ、それぞれのチューニングを容易且つ微細に行うことができるので防振性能を向上させることができる。
更に、アイドルオリフィス通路Ｒ１とシェイクオリフィス通路Ｒ２とが互いに独立しているうえ、アイドルメンブラン１８が配設されているので、主液室６内の液圧のピークが２つになり、この点においてもアイドルモードとシェイクモードとの切り替えをスムーズに行える。

また、車速が例えば１００Ｋｍ／ｈ以上の場合、或いは、エンジン回転数が３０００ｒｐｍ以上の場合等には、高周波振動（例えば、共振周波数が１００Ｈｚ以上の振動）が発生する。しかしながら、本実施形態の防振装置１では、剛性が高周波振動にチューニングされた高周波メンブラン１９が高周波開口部５１を通じて主液室６に面するように形成されているので、高周波振動が入力されたとしても、高周波メンブラン１９の弾性変形によって高周波振動を減衰吸収することができる。従って、例えば、こもり音等、高周波振動に起因する悪影響の発生を抑制することができる。

なお、本発明の技術範囲は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変更を加えることが可能である。

例えば、上記実施形態では、アイドルオリフィス通路Ｒ１とシェイクオリフィス通路Ｒ２とを互いに独立するように形成した場合を例に挙げて説明したが、両通路Ｒ１、Ｒ２が途中で合流して共有する部分を有するように形成しても構わない。

また、上記実施形態では、アイドルメンブラン１８をアイドル開口部１５に隣接するように形成して、アイドルオリフィス通路Ｒ１の主液室６側の端部に配設した場合を例に挙げて説明したが、アイドルオリフィス通路Ｒ１のどこにあっても構わない。例えば、アイドルメンブラン室２０と一方の周溝２６とを連通する連通開口部２５を塞ぐように配設しても構わない。
0 なお、アイドルメンブラン１８は１つに限られるものではなく、複数用いても構わない。例えば、１つをアイドル開口部１５に隣接した位置に形成し、この位置とは別の位置にさらに形成しても構わない。また、太鼓のようにアイドルメンブラン１８を微小の間隔を開けて並列配置させても構わない。

また、上記実施形態では、ピストン部材４０を利用することで、液圧変動に応じて自動的にアイドルオリフィス開口部３５を遮断する構成としたが、アイドルオリフィス通路Ｒ１と副液室７との連通及びその遮断を切り替えることができれば切替機構をどのように構成しても構わない。例えば、アイドルオリフィス開口部３５を機械的に閉塞或いは開放できるように構成しても構わない。

Ｒ１…アイドルオリフィス通路（第２制限通路）
Ｒ２…シェイクオリフィス通路（第１制限通路）
１…防振装置
２…第１取付部材
３…第２取付部材
４…ゴム弾性体（弾性体）
６…主液室
７…副液室
８…仕切り部材
１７…切替機構
１８…アイドルメンブラン（薄膜体）
１９…高周波メンブラン（高周波用薄膜体）
２３…シリンダ室
２３ａ…加圧空間
２３ｂ…オリフィス空間
３５…アイドルオリフィス開口部（オリフィス開口部）
４０…ピストン部材
６１…円柱ロッド（規制部材）

Claims (6)

1. 振動発生部と振動受け部とのうちいずれか一方に連結される筒状の第１取付部材及び他方に連結される第２取付部材と、
   前記第１取付部材と前記第２取付部材とを弾性的に連結する弾性体と、
   液体が封入された前記第１取付部材内の液室を、前記弾性体を壁面の一部とする一方側の主液室と他方側の副液室とに区画する仕切り部材と、を備えた液体封入型の防振装置であって、
   前記仕切り部材には、
   前記主液室と前記副液室とを連通させ、シェイク振動の入力に対して液柱共振を生じさせる第１制限通路と、
   流通抵抗が前記第１制限通路より小さく、且つ、アイドル振動の入力に対して液柱共振を生じさせる第２制限通路と、
   前記主液室内の液圧変動に応じて、前記第２制限通路と前記副液室との連通及びその遮断を切り替える切替機構と、が設けられ、
   前記第２制限通路には、アイドル振動の入力時に該通路内で液柱共振を生じさせるように弾性変形し、且つ、前記主液室と前記副液室との連通を遮断する薄膜体が配設されていることを特徴とする防振装置。
2. 請求項１に記載の防振装置において、
   前記薄膜体は、前記切替機構よりも前記主液室側に配設されていることを特徴とする防振装置。
3. 請求項１又は２に記載の防振装置において、
   前記第２制限通路と前記第１制限通路とは、互いに独立した通路として形成されていることを特徴とする防振装置。
4. 請求項１から３のいずれか１項に記載の防振装置において、
   前記仕切り部材には、前記アイドル振動よりも共振周波数が高い高周波振動を減衰吸収させる高周波用薄膜体が前記主液室に面して形成されていることを特徴とする防振装置。
5. 請求項１から４のいずれか１項に記載の防振装置において、
   前記仕切り部材は、前記主液室及び前記副液室にそれぞれ連通され、内周面にオリフィス開口部が形成されたシリンダ室を有し、
   前記切替機構は、前記シリンダ室内を、前記第２制限通路の一部を構成すると共に前記副液室に連通したオリフィス空間と、前記第２制限通路から隔離されると共に前記主液室に連通した加圧空間と、に区画すると共に、主液室内の液圧変動に応じて両空間の拡縮方向に移動するピストン部材を有し、
   前記オリフィス開口部は、前記第２制限通路における前記オリフィス空間と他の部分とを連通させていると共に、前記ピストン部材の移動によって閉塞或いは開放させられることを特徴とする防振装置。
6. 請求項１から５のいずれか１項に記載の防振装置において、
   前記仕切り部材には、規定値以上の前記薄膜体の弾性変形を規制する規制部材が設けられていることを特徴とする防振装置。

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