JP2010211983A - 有機エレクトロルミネッセンス装置、その製造方法および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機EL装置100の素子基板10において、隔壁層外壁512が基板本体10dに対してなす角度Θ2は、隔壁層内壁511が基板本体10dに対してなす角度Θ1よりも小さい。従って、封止層60は、基板本体10dに対してなす角度Θ1が小さな隔壁層外壁512上に積層されるので、封止層60にはクラックが発生しにくい。また、隔壁層内壁511は、基板本体10dに対してなす角度Θ1が大きいため、有機EL素子80の形成領域に大きく張り出すことがない。
【選択図】図3
Description
(全体構成)
図1は、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。図2(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置をその上に形成された各構成要素と共に封止基板の側から見た平面図、およびそのJ−J′断面図である。
図2(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の平面的な構成を各構成要素と共に第2基板側から見た平面図、およびそのJ−J′断面図である。なお、図2(b)にはカラーフィルター層などの図示を省略してある。図2(a)、(b)において、本形態の有機EL装置100は、素子基板10と、封止部材およびカラーフィルター基板としての機能を担う封止基板20とを備えており、素子基板10において、複数の有機EL素子80が形成されている面側に封止基板20が重ねて配置されている。
図3(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその一部を拡大して示す説明図である。なお、図3には、有機EL素子として、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応する3つの有機EL素子のみを示してあり、回路部を構成する配線などの図示は省略してある。図4(a)、(b)は、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置100の相隣接する画素2つ分の平面図、およびそのB−B′線に相当する位置で素子基板10を切断したときの断面図である。なお、図4(a)では、第1電極層81は長い点線で示し、データ線6aおよびそれと同時形成された薄膜は一点鎖線で示し、走査線3aおよびそれと同時形成された薄膜は実線で示し、半導体層は短い点線で示してある。また、図4(a)において隔壁層は右上がりの点線を付した領域として示してある。
第1電極層81の上層側には、発光領域を規定するための開口部を備えた厚い隔壁層51が形成されている。隔壁層51は感光性樹脂からなり、本形態では、かかる感光性樹脂として感光性アクリル樹脂が用いられている。
第1電極層81の上層には、有機機能層82および第2電極層83が積層されており、第1電極層81、有機機能層82および第2電極層83によって、有機EL素子80が形成されている。本形態において、有機機能層82および第2電極層83は、隔壁層51が形成されている領域も含めて、画素領域10aの全面にわたって形成されている。隔壁層51の上面部において、有機機能層82と第2電極層83との間には補助陰極線84が形成されている。かかる補助陰極線84は、第2電極層83の上層に形成されることもある。
このように構成した有機EL装置100において、有機機能層82、陰極として用いた第2電極層83、電子注入層などは、水分により劣化しやすく、かかる劣化は、電子注入効果の劣化を惹き起こし、ダークスポットと呼ばれる非発光部分を発生させてしまう。そこで、本形態では、素子基板10に対して以下に説明する封止層60を形成した構成と、封止基板20と素子基板10とを貼り合せた構成とを併用する。
図5は、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置100における反射層41と隔壁層51との関係を示す説明図である。
Θ1 > Θ2
になるように設定してある。すなわち、隔壁層外壁512が基板本体10dに対してなす角度Θ2は、隔壁層内壁511が基板本体10dに対してなす角度Θ1よりも小さい。例えば、隔壁層内壁511が基板本体10dに対してなす角度Θ1は60〜70°であり、隔壁層外壁512が基板本体10dに対してなす角度Θ2は45°以下である。
本形態では、図2(a)、(b)、および図3(a)に示すように、素子基板10と封止基板20との間では、周辺領域10cに沿って第1シール材層91が矩形枠状に形成され、周辺領域10cで囲まれた領域の全体にわたって透光性の第2シール材層92が形成されており、素子基板10と封止基板20とは、第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わされている。
図6および図7を参照して、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の製造方法の第1例を説明する。図6は、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の製造工程のうち、反射層および第1電極層を形成する工程の工程断面図であり、図7は、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の製造工程のうち、隔壁層を形成する工程の工程断面図である。なお、図7では、感光性樹脂において露光されていない部分には右上がりの破線のみを付し、露光された部分には右上がりの破線および右下がりの破線を付してある。また、図6および図7では、下地絶縁層10eの図示を省略してある。
Θ1 > Θ2
になっている。例えば、隔壁層内壁511が基板本体10dに対してなす角度Θ1は60〜70°であり、隔壁層外壁512が基板本体10dに対してなす角度Θ2は45°以下である。
図8を参照して、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の製造方法の第2例を説明する。図8は、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の製造工程のうち、素子基板10上に隔壁層を形成する別の方法を示す工程断面図である。図8では、感光性樹脂において露光されていない部分には右上がりの破線のみを付し、露光された部分には右上がりの破線および右下がりの破線を付してある。なお、本形態の方法で製造した有機EL装置100の構造は、図1〜図5を参照して説明した構成と同一であるため、構造についての詳細な説明を省略する。
Θ1 > Θ2
になっている。例えば、隔壁層内壁511が基板本体10dに対してなす角度Θ1は60〜70°であり、隔壁層外壁512が基板本体10dに対してなす角度Θ2は45°以下である。このため、封止層60を形成した際、隔壁層外壁512が基板本体10dに対してなす角度Θ2が小さいため、封止層60において隔壁層外壁512を覆う部分にクラックが発生することがない。また、本形態では、ハーフ露光を行なう際、反射層41に形成したスリット状の開口部41cを介して背面露光を行なう。このため、ハーフ露光用の高価な露光マスクを必要としない。また、反射層41に対する遮光層外壁512の位置に高い精度で得ることができる。
図9は、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の一部を拡大して示す説明図であり、図3(b)に対応する。図10(a)、(b)は、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置100の製造工程のうち、素子基板10上に隔壁層を形成する工程の工程断面図、および別の方法を示す工程断面図である。図10では、感光性樹脂において露光されていない部分には右上がりの破線のみを付し、露光された部分には右上がりの破線および右下がりの破線を付してある。なお。本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同一であるため、共通する部分の説明を省略する。
Θ1 > Θ2
になるように設定してある。すなわち、隔壁層外壁512が基板本体10dに対してなす角度Θ2は、隔壁層内壁511が基板本体10dに対してなす角度Θ1よりも小さい。例えば、隔壁層内壁511が基板本体10dに対してなす角度Θ1は60〜70°であり、隔壁層外壁512が基板本体10dに対してなす角度Θ2は45°以下である。
上記実施の形態1、2では、封止基板20にカラーフィルター層22(R)、(G)、(B)を設けた場合を例に説明したが、有機EL素子自身が各色の光を出射する有機EL装置に本発明を適用してもよく、この場合、封止基板20は封止基板のみとして機能する。また、上記実施の形態では、カラー表示用の有機EL装置100を例に説明したが、複写機の光学ヘッドなどとして利用する場合には、モノクロ仕様でよく、このようなモノクロ仕様の有機EL装置に本発明を適用してもよい。この場合も、封止基板20は封止部材のみとして機能する。
図11を参照して、上述した実施形態に係る有機EL装置100を搭載した電子機器について説明する。図11は、本発明に係る有機EL装置を用いた電子機器の説明図である。
Claims (7)
- 基板上で画素領域を複数の領域に区画する隔壁層と、
該隔壁層により囲まれた領域に設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記隔壁層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子を覆う封止層と、
を有し、
前記隔壁層において前記画素領域の外側に位置する隔壁層外壁は、当該隔壁層において前記画素領域の内側に位置する隔壁層内壁に比較して前記基板に対してなす角度が小さいテーパー面になっていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記隔壁層内壁が前記基板に対してなす角度は60〜70°であり、
前記隔壁層外壁が前記基板に対してなす角度は45°以下であることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 前記封止層は、無機膜からなる第1封止層と、該第1封止層の上層に積層された樹脂層からなる第2封止層と、該第2封止層の上層に積層された無機膜からなる第3封止層と、を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
- 前記基板上において前記有機エレクトロルミネッセンス素子の下層側には、少なくとも、前記有機エレクトロルミネッセンス素子と平面的に重なる領域、および前記隔壁層外壁と平面的に重なる領域に反射層を備え、
当該反射層において前記隔壁層外壁と平面的に重なる領域には、前記画素領域に近い領域と前記画素領域から遠い領域との間で開口密度が相違する開口部が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 基板上で画素領域を複数の領域に区画する隔壁層と、
該隔壁層により囲まれた領域に設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記隔壁層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子を覆う封止層と、
を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記隔壁層を形成するにあたっては、前記基板上に感光性樹脂を塗布する感光性樹脂塗布工程と、当該感光性樹脂のうち、前記隔壁層において前記画素領域の外側に位置する隔壁層外壁を形成する樹脂部分については、前記画素領域に近い領域と前記画素領域から遠い領域との間で異なる光量で露光する露光工程と、を行ない、
当該隔壁層外壁を前記隔壁層において前記画素領域の内側に位置する隔壁層内壁に比較して前記基板に対してなす角度が小さいテーパー面とすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 前記基板上に前記隔壁層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成する前に、前記有機エレクトロルミネッセンス素子と平面的に重なる領域、および前記隔壁層外壁と平面的に重なる領域に反射層を形成する反射層形成工程を有し、
当該反射層形成工程では、前記反射層において前記隔壁層外壁と平面的に重なる領域に、前記画素領域に近い領域と前記画素領域から遠い領域との間で開口密度が相違する開口部を形成し、
前記露光工程では、前記反射層において前記感光性樹脂が位置する側とは反対側から前記開口部を介して前記感光性樹脂において前記隔壁層外壁を形成する樹脂部分を露光することを特徴とする請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 請求項1乃至4の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えていることを特徴とする電子機器。
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