WO2019064410A1 - 表示装置 - Google Patents

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WO2019064410A1
WO2019064410A1 PCT/JP2017/035169 JP2017035169W WO2019064410A1 WO 2019064410 A1 WO2019064410 A1 WO 2019064410A1 JP 2017035169 W JP2017035169 W JP 2017035169W WO 2019064410 A1 WO2019064410 A1 WO 2019064410A1
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WO
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bank
partition
corner
display device
organic
Prior art date
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PCT/JP2017/035169
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English (en)
French (fr)
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信介 齋田
達 岡部
遼佑 郡司
博己 谷山
市川　伸治
芳浩 仲田
浩治 神村
彬 井上
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シャープ株式会社
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Publication date
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Priority to PCT/JP2017/035169 priority patent/WO2019064410A1/ja
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Definitions

  • the present invention relates to a display device in which an end portion of a sealing layer for sealing a light emitting layer is doubly surrounded by a first partition and a second partition.
  • the side surface of the bank 110 formed at the boundary of the pixel 101 is most of the periphery of each pixel Is formed as a cliff 111 having an inclination angle of 90.degree. Or more, and a part of the periphery of each pixel 101 is formed as a gentle inclination 112 having an inclination angle of less than 90.degree.
  • the organic layer 120 of the pixel 101 is easily divided at the side surface of the bank 110 at the cliff portion 111, and the monomer constituting the flattening layer (not shown) is preferably used when forming the sealing layer (not shown) formed on the upper side. It is easy to form a recess that attracts. As a result, the bottom of the planarizing layer is further shortened to lower the film floating probability.
  • the pixel portion 201a and the pixel portion 201b are disposed in a state in which the non-pixel portion 202 is interposed therebetween.
  • the ink for forming the organic light emitting layer is applied in the order of the sub-pixels 201a1, 201a2, and 201a3. The same applies to the formation of the pixel portion 201b. Since the organic light emitting layer is not formed in the non-pixel portion 202, the application of the ink for that is not performed.
  • the inclination angle ⁇ d3 of the inner wall surface 211d3 of the bank 211d is larger than the inclination angle ⁇ c3 of the inner wall surface 211c3 of the bank 211c with respect to the bank 211c and the bank 211d that define the sub-pixel 201a3 of the pixel unit 201a.
  • the inclination angle ⁇ e1 of the inner wall surface 211e1 of the bank 211e is equal to the inclination angle ⁇ f1 of the inner wall surface 211f1 of the bank 211f regarding the bank 211e and the bank 211f that define the sub-pixel 100b1 of the pixel unit 201b.
  • the distribution gradient of the vapor concentration at the time of application of the ink is adjusted, and the film thickness of the organic light emitting layer on the entire panel surface is made uniform, and the luminance unevenness in the surface Provide a display device with a small amount of
  • the end portion of the sealing layer for sealing the light emitting layer is doubled by the first partition wall and the second partition wall formed with a gap outside the first partition wall.
  • fenced display devices are commercially available.
  • the sealing layer peels off because the wall surfaces of the first partition and the second partition are steeply inclined. It has the problem of being easy.
  • the distance between the first partition and the second partition is narrow, and generally, the height of the first partition formed on the inner side is lower than that of the second partition formed on the outer side. For this reason, since the adhesive force of the wall surface at the side of the 2nd partition of the 1st partition is small, it is easy to exfoliate a sealing layer.
  • One aspect of the present invention is made in view of the above-mentioned conventional problems, and an object thereof is to form a first partition and a second partition formed at an end portion of a sealing layer for sealing a light emitting layer. Providing a display device capable of preventing peeling of the sealing layer between the two.
  • the end portion of the sealing layer for sealing the light emitting layer is formed with a space between the first partition wall and the first partition wall.
  • the outer wall surface of the first partition wall on the second partition wall side is more than the inner wall surface of the first partition wall on the opposite side to the second partition wall side. It is characterized in that it is formed on a gentle slope having a small inclination angle.
  • a display device capable of preventing peeling of the sealing layer between the first partition and the second partition formed at the end of the sealing layer sealing the light emitting layer. It plays an effect.
  • (A) shows the structure of EL display apparatus in Embodiment 1 of this invention, Comprising: It is sectional drawing which shows the structure of the 1st bank of EL display apparatus, and a 2nd bank, (b) is a 1st bank. It is a top view which shows the structure of the photomask for forming the outer side wall surface of.
  • (A) is a cross-sectional view showing the configuration of the central portion of the EL display device, showing the configuration of the EL display device, and (b) is a cross-sectional view showing the configuration of the end portion of the EL display device .
  • (A) is sectional drawing which shows the structure of the 2nd bank of said EL display device
  • (b) is a top view which shows the structure of the photomask for forming said 2nd bank. It is a top view which shows the structure of the 1st bank which raised the inclination of the corner
  • (A) is sectional drawing which shows the structure of the 1st bank in the corner
  • (b) is a structure of the photomask for forming the outer wall face of the 1st bank in a corner
  • (A) is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank and the second bank other than the corner of the EL display device, and (b) is a photomask for forming the outer wall surface of the first bank other than the corner It is a top view which shows the structure of. It is a top view which shows the structure of the 1st bank which narrowed the corner
  • FIG. (A) is sectional drawing which shows the structure of the 1st bank in the corner
  • (b) is a structure of the photomask for forming the outer wall face of the 1st bank in a corner
  • FIG. (A) is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank and the second bank other than the corner of the EL display device
  • (b) is a photomask for forming the outer wall surface of the first bank other than the corner It is a top view which shows the structure of.
  • FIG. 1 It is a top view which shows the structure which expanded the space
  • A is sectional drawing which shows the structure of the 1st bank in the corner
  • (b) is a structure of the photomask for forming the outer wall face of the 1st bank in a corner
  • (A) is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank and the second bank other than the corner of the EL display device, and (b) is a photomask for forming the outer wall surface of the first bank other than the corner It is a top view which shows the structure of.
  • (A) is a top view which shows the structure of the conventional organic electroluminescence display
  • (b) is sectional drawing which shows the structure of the pixel of the said conventional organic electroluminescence display. It is sectional drawing which shows the structure of the pixel of the other conventional organic electroluminescence display.
  • the configuration of the organic EL display device 1 as a display device of the present embodiment will be described based on (a) and (b) of FIG. (A) of FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the central part of the pixel of the organic EL display device of the present embodiment.
  • (B) of FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration of an end portion of the organic EL display device of the present embodiment.
  • the organic EL display device 1 of the present embodiment is a top emission type organic EL display device that emits light upward, and as shown in (a) of FIG. A layer 3, a barrier layer 4 (undercoat layer), a TFT layer 10, a light emitting element layer 20, a sealing layer 30, an adhesive layer 5 and a functional film 6 are provided.
  • Examples of the material of the substrate 2 include polyethylene terephthalate (PET). Moreover, as a resin layer 3 material, a polyimide, an epoxy, a polyamide etc. are mentioned, for example.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a resin layer 3 material a polyimide, an epoxy, a polyamide etc. are mentioned, for example.
  • the barrier layer 4 is a layer that prevents moisture and impurities from reaching the TFT layer 10 and the light emitting element layer 20 when the display device is used.
  • the barrier layer 4 can be formed of, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, or a laminated film thereof formed by chemical vapor deposition (CVD).
  • the TFT layer 10 is formed over the semiconductor film 11, the inorganic insulating film 12 formed over the semiconductor film 11, the gate electrode G formed over the inorganic insulating film 12, and the gate electrode G.
  • the capacitor wiring (not shown) formed on the upper layer than the inorganic insulating film 13, the inorganic insulating film 14 formed on the upper layer than the capacitive wiring, and the inorganic insulating film 14 Source electrode S and drain electrode D, and a planarization film 15 formed on the upper layer of the source electrode S and drain electrode D.
  • a thin film transistor Td functioning as a light emission control transistor is constituted by the semiconductor film 11, the inorganic insulating film 12 which is a gate insulating film, and the gate electrode G.
  • the source electrode S is connected to the source region of the semiconductor film 11, and the drain electrode D is connected to the drain region of the semiconductor film 11.
  • the semiconductor film 11 is made of, for example, low temperature polysilicon (LTPS) or an oxide semiconductor.
  • LTPS low temperature polysilicon
  • FIGS. 2A and 2B the TFT having the semiconductor film 11 as a channel is shown in a top gate structure, but may be a bottom gate structure.
  • the channel of the TFT is an oxide semiconductor.
  • the inorganic insulating films 12, 13 and 14 can be made of, for example, a silicon oxide (SiOx) film or a silicon nitride (SiNx) film formed by a CVD method, or a laminated film of these.
  • the planarizing film 15 functions as an interlayer insulating film, and can be made of, for example, a coatable photosensitive organic material such as polyimide or acrylic.
  • the gate electrode G, the source electrode S, the drain electrode D, and the terminal are made of, for example, aluminum (Al), tungsten (W), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), chromium (Cr), titanium (Ti), copper (Cu) And a single layer film or laminated film of a metal containing at least one of the above.
  • a terminal portion 40 is provided at an end portion of the TFT layer 10, that is, a non-active area NA which does not overlap with the light emitting element layer 20.
  • the terminal portion 40 includes a terminal TM used for connection with the electronic circuit board 41 and a terminal wire TW connected to the terminal TM.
  • the terminal wiring TW is electrically connected to various wirings of the TFT layer 10 through the relay wiring LW and the lead wiring DW.
  • the electronic circuit board 41 is, for example, an IC chip or a flexible printed circuit (FPC) mounted on the terminal TM via the anisotropic conductive material 42.
  • FPC flexible printed circuit
  • the terminal TM, the terminal wiring TW, and the lead wiring DW are formed in the same process as the source electrode S, for example. Therefore, the same material is formed on the inorganic insulating film 14 which is the same layer as the source electrode S. Specifically, for example, two titanium films and an aluminum film sandwiched therebetween are formed.
  • the relay wiring LW is formed, for example, in the same process as the capacitive electrode.
  • An edge which is an end face of the terminal TM, the terminal wiring TW, and the lead wiring DW is covered with a planarization film 15.
  • the light emitting element layer 20 is, for example, an organic light emitting diode layer, and the anode electrode 21 formed above the planarization film 15 and the active area DA overlapping the light emitting element layer 20.
  • an organic light emitting diode is configured to include the cathode electrode 24 and the cathode electrode 24.
  • the pixel bank 22 covers the edge of the anode electrode 21, and the light emitting layer 23 is formed in a light emitting region which is a region surrounded by the pixel bank 22 by a vapor deposition method or an inkjet method.
  • the light emitting element layer 20 is an organic light emitting diode (OLED) layer, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer 23, and electrons are formed on the bottom of the pixel bank 22, that is, the exposed portion of the anode electrode 21.
  • a transport layer and an electron injection layer are stacked.
  • layers other than the light emitting layer 23 can be used as the common layer.
  • the anode (anode) electrode 21 is formed of, for example, a laminate of ITO (Indium Tin Oxide) and an alloy containing silver (Ag), and has light reflectivity.
  • the cathode electrode 24 can be made of a translucent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide).
  • the driving current between the anode electrode 21 and the cathode electrode 24 causes holes and electrons to recombine in the light emitting layer 23, thereby causing excitons to fall to the ground state. Light is emitted. Since the cathode electrode 24 is translucent and the anode electrode 21 is light reflective, light emitted from the light emitting layer 23 is directed upward to be top emission.
  • the light emitting element layer 20 is not limited to the case of constituting an OLED element, and may constitute an inorganic light emitting diode or a quantum dot light emitting diode.
  • a sealing layer 30 is formed on the light emitting element layer 20.
  • the sealing layer 30 is translucent, and the inorganic sealing film 31 covering the cathode electrode 24 of the light emitting element layer 20, the organic sealing film 32 formed in the upper layer of the inorganic sealing film 31, and the organic sealing And an inorganic sealing film 33 covering the film 32.
  • the inorganic sealing films 31 and 33 can be made of, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film or a silicon oxynitride film formed by CVD using a mask, or a laminated film of these.
  • the organic sealing film 32 is a translucent organic film thicker than the inorganic sealing films 31 and 33, and can be made of a coatable photosensitive organic material such as polyimide or acrylic.
  • a coatable photosensitive organic material such as polyimide or acrylic.
  • an ink containing such an organic material is inkjet-coated on the inorganic sealing film 31 and then cured by UV irradiation.
  • the sealing layer 30 covers the light emitting element layer 20 and prevents the penetration of foreign matter such as water and oxygen into the light emitting element layer 20.
  • a first bank 34A and a second bank 35A which define the edge of the organic sealing film 32 are provided.
  • the first bank 34A is a convex portion, and functions as a liquid stopper when the organic sealing film 32 is applied by ink jet application.
  • the second bank 35A is formed of a convex portion and formed outside the first bank 34A to function as a spare liquid stopper.
  • the lower part of the second bank 35A is constituted by the flattening film 15, and functions as a protective film of the end face of the lead wiring DW.
  • the pixel bank 22, the first bank 34A, and the second bank 35A can be formed, for example, in the same process using a coatable photosensitive organic material such as polyimide, epoxy, or acrylic.
  • the functional film 6 is, for example, a film having an optical compensation function, a touch sensor function, a protection function, and the like, and is adhered by the adhesive layer 5.
  • the end portion of the sealing layer 30 for sealing the light emitting element layer 20 as the light emitting layer is the first bank 34A as the first partition and the first bank 34A. It is doubly surrounded by a second bank 35A as a second partition formed with a space outside the one bank 34A.
  • the sealing layer 30 is composed of three layers of the inorganic sealing film 31, the organic sealing film 32 and the inorganic sealing film 33, and in the process of forming the organic sealing film 32, the organic resin This is because the first bank 34A may be exceeded.
  • the organic resin of the organic sealing film 32 be blocked by the first bank 34A.
  • the inorganic sealing films 31 and 33 are formed between the first bank 34A and the second bank 35A.
  • the wall surfaces of the first bank 34A and the second bank 35A are steeply inclined.
  • the inorganic sealing films 31 and 33 as the sealing layer 30 are easily peeled off.
  • the distance between the first bank 34A and the second bank 35A is narrow. For this reason, since the adhesion of the wall surface of the first bank 34A on the second bank 35A side is small, the inorganic sealing films 31 and 33 as the sealing layer 30 are easily peeled off.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank 34A and the second bank 35A of the organic EL display device 1 according to the present embodiment.
  • FIG. 1B is a plan view showing a configuration of a photomask for forming the outer wall surface 34 a of the first bank 34A.
  • FIG. 3A is a cross-sectional view showing the configuration of the second bank 35A of the organic EL display device 1. As shown in FIG. FIG. 3B is a plan view showing a configuration of a photomask for forming the second bank 35A.
  • the outer wall surface 34a of the first bank 34A on the second bank 35A side is the second bank 35A side of the first bank 34A. Is formed on a gentle slope whose inclination angle is smaller than that of the opposite inner wall surface 34b.
  • the area of the outer wall surface 34a on the second bank 35A side in the first bank 34A is increased, so the adhesion area of the sealing layer 30 is increased.
  • the adhesion area of the outer wall surface 34a on the second bank 35A side in the first bank 34A is increased, and the adhesion and adhesion are increased.
  • the organic EL display device 1 can prevent peeling of the sealing layer 30 between the first bank 34A and the second bank 35A formed at the end of the sealing layer 30 sealing the light emitting element layer 20. Can be provided.
  • the organic resin of the organic sealing film 32 which is the sealing layer 30 be blocked by the first bank 34A, but in some cases, the organic resin exceeds the first bank 34A. There is. In this case, it is necessary to prevent the organic resin from further crossing the second bank 35A.
  • various structures for preventing the organic resin from further crossing the second bank 35A will be described.
  • the second bank inner wall surface 35a on the first bank 34A side in the second bank 35A has a larger inclination angle than the outer wall surface 34a of the first bank 34A.
  • the inclination of the second bank inner wall surface 35a of the second bank 35A becomes steep, so that in the step of forming the sealing layer 30, the organic resin that has passed over the first bank 34A that is the first weir further It is possible to prevent crossing over the second bank 35A, which is the second base.
  • the second bank 35A is higher than the first bank 34A.
  • the organic resin that has surmounted the first bank 34A, which is the first weir is the second bank, which is the second weir. It is possible to prevent overcoming 35A.
  • the method of forming the second bank 35A side in the first bank 34A in the organic EL display device 1 of the present embodiment is based on (a) and (b) of FIG. 1 and (a) and (b) of FIG. Explain.
  • a photomask shown in FIG. 3B is used.
  • the first bank 34A and the second bank 35A are made of a coatable photosensitive organic material such as polyimide, epoxy, acrylic or the like, and are made of the same material as the planarizing film 15. Therefore, in the present embodiment, the planarizing film 15 and the first bank 34A and the second bank 35A are formed in the same step.
  • a so-called positive type photosensitive organic material is used, and as a photomask, an exposure mask which transmits light to a region to be removed of the photosensitive organic material film is used. It is also possible to use a so-called negative photosensitive organic material film.
  • a photosensitive organic material such as polyimide, epoxy, acrylic or the like is applied on the inorganic insulating film 14 in the TFT layer 10 by, for example, inkjet. Then, the coated surface is exposed from the upper side through a photomask in which the blackened portion shown in (b) of FIG. 3 is shielded. Thereby, the coated surface of the opening of the white-painted portion of the photomask shown in FIG. 3B is exposed. Thereafter, by removing and developing the photomask, the photosensitive organic material on the coated surface of the opening of the white-coated portion of the photomask is dissolved away, and the black-coated portion of the photomask remains.
  • a photosensitive organic material such as polyimide, epoxy, acrylic or the like
  • each end wall is not a vertical wall but a steeply inclined surface having a slight inclined surface.
  • a photomask shown in FIG. 1B is used.
  • the photo mask shown in FIG. 1B is a photo mask having a gray tone pattern, and in this photo mask, a portion forming the outer wall surface 34 a of the first bank 34 A is a gray tone pattern.
  • the gray tone pattern means that the photomask has a so-called line & space shape in which lines and spaces are repeated.
  • the space indicates a white-painted opening portion, and the line indicates a black-painted shielding portion.
  • the widths of the spaces and lines of the photomask are, for example, 0.8, 1.4, 1.4, 1.1 from the top of the first bank 34A to the bottom of the outer wall 34a. , 1.1 ⁇ m. That is, the width of the line & space shape is changed stepwise.
  • the exposure amount of the portion forming the outer wall surface 34a becomes larger as it goes to the bottom of the outer wall surface 34a.
  • the exposure amount of the photosensitive organic material film increases as it goes to the bottom of the outer wall surface 34a, and the dissolution amount of the photosensitive organic material film as it goes to the bottom of the outer wall surface 34a when developed. growing. Therefore, it is possible to form the inclined surface of the outer wall surface 34a as a continuous gentle slope.
  • the width of the first bank 34A is increased by preparing a gray tone pattern photomask having different pattern sizes and pattern pitches. It is possible to adjust the outer wall surface 34a to any inclination angle without.
  • a so-called line & space photomask is used to make the outer wall surface 34a a gentle slope, but the photomask is not necessarily limited to the so-called line & space photomask .
  • the outer wall surface 34a of the first bank 34A can be made to have a gentle inclined surface by using a so-called halftone photomask or performing oblique exposure.
  • the halftone photomask is a photomask in which the transmittance of the portion forming the inclined surface is half that of the aperture.
  • tilt exposure refers to a method of providing a difference in exposure intensity by irradiating light obliquely.
  • the inclination angle ⁇ of the outer wall surface 34a of the first bank 34A of this embodiment is, for example, 30 degrees or less.
  • the inclination angle ⁇ of the inner wall surface 34b of the first bank 34A is, for example, larger than 50 degrees.
  • the inclination angle ⁇ of the second bank inner wall surface 35a of the second bank 35A of the present embodiment is, for example, larger than 50 degrees.
  • the inclination angle ⁇ of the second bank inner wall surface 35a of the second bank 35A is larger than the inclination angle ⁇ of the outer wall surface 34a of the first bank 34A.
  • the first bank 34A as the first partition and the first bank are the end portions of the sealing layer 30 that seals the light emitting element layer 20 as the light emitting layer. It is doubly surrounded by the 2nd bank 35A as a 2nd partition formed with an interval outside 34A.
  • the outer wall surface 34a on the second bank 35A side in the first bank 34A is formed as a gentle slope having a smaller inclination angle than the inner wall surface 34b on the opposite side to the second bank 35A side in the first bank 34A.
  • the organic EL display device 1 can prevent peeling of the sealing layer 30 between the first bank 34A and the second bank 35A formed at the end of the sealing layer 30 sealing the light emitting element layer 20. Can be provided.
  • the second bank inner wall surface 35a of the second bank 35A has a larger inclination angle than the outer wall surface 34a of the first bank 34A.
  • the inclination angle ⁇ of the second bank inner wall surface 35a is, for example, larger than 50 degrees, and as described above, the inclination angle ⁇ of the outer wall surface 34a of the first bank 34A is, for example, 30 Degree or less.
  • the second bank 35A is higher than the first bank 34A. Therefore, in the step of forming the sealing layer 30, it is possible to prevent the organic resin which has passed over the first bank 34A which is the first weir further from passing over the second bank 35A which is the second weir.
  • the organic EL display device 1 according to the present embodiment is characterized in that the outer wall surface 34a of the first bank 34B has loose corners at the corners 1a of the rectangular display area.
  • the slope is different in that the inclination angle is larger than that of the slope other than the corner in the corner 1b except the corner of the rectangular display area. That is, in the present embodiment, when the organic resin of the organic sealing film 32 which is the sealing layer 30 exceeds the first bank 34B, the structure for preventing the organic resin from further exceeding the second bank 35A is described. Do.
  • FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the first bank 34B and the second bank 35A in which the slope 1a of the corner portion 1a of the organic EL display 1 according to the present embodiment is inclined.
  • FIG. 5A is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank 34B and the second bank 35A at the corner 1a of the organic EL display device 1.
  • FIG. 5B is a plan view showing the configuration of a photomask for forming the corner gentle slopes 34a1 of the outer wall surface 34a of the first bank 34B at the corners 1a.
  • FIG. 6A is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank 34B and the second bank 35A in portions other than the corner portions 1b of the organic EL display device 1.
  • FIG. 6B is a plan view showing a configuration of a photomask for forming a gentle slope 34a2 other than the corner in the outer wall surface 34a of the first bank 34B.
  • the gentle slope of the outer wall surface 34a of the first bank 34B as the first partition of the present embodiment is a corner of the rectangular display area
  • the angle of the corner gentle slope 34a1 in the portion 1a is larger than that of the gentle slope 34a2 other than the corner in the non-corner 1b of the rectangular display area.
  • the organic resin may exceed the first bank 34B as shown by the arrow in FIG.
  • the distance between the second bank 35B and the second bank 35A is, for example, about 60 ⁇ m. Therefore, for this case, in the organic EL display device 1 according to the present embodiment, as shown in FIG. 5A, the corner gentle slope 34a1 of the first bank 34B at the corner 1a is shown in FIG. Except for the corner shown in (a), the slope is steeper than the gentle slope 34a2.
  • the organic resin beyond the first bank 34B is the first bank 34B and the second bank 35A of the gentle slope 34a2 other than the corner. makes it easier to escape during the Therefore, in the corner portion 1a, the organic resin can be prevented from passing over the second bank 35A.
  • the inclination angle ⁇ 1 of the corner gentle slope 34a1 of the outer wall surface 34a at the corner 1a of the first bank 34B of this embodiment is, for example, 20 to 30 degrees.
  • the width of each space and line of the photomask for forming the corner gentle slope 34a1 is, for example, from the top of the first bank 34B toward the hem of the outer wall surface 34a, as shown in FIG. , 0.8, 1.4, 1.1, 1.1 ⁇ m.
  • the inclination angle ⁇ 2 of the gentle slope 34a2 other than the corner portion of the outer wall surface 34a of the first bank 34B is, for example, 10 to 20 degrees.
  • the width of the space and line of the photomask for forming the gentle slope 34a2 other than this corner is, as shown in FIG. 6B, from the top of the first bank 34B toward the hem of the outer wall surface 34a. For example, it is 0.8, 1.4, 1.1, 1.1, 1.4, 0.8 ⁇ m.
  • the inclination angle ⁇ 1 of the corner gentle slope 34a1 of the outer wall surface 34a of the first bank 34B is larger than the inclination angle ⁇ 2 of the gentle slope 34a2 other than the corner of the outer wall 34a of the first bank 34B. Therefore, in the step of forming the sealing layer 30, the organic resin that has flowed between the first bank 34B and the second bank 35A at the corner portion 1a has the first bank 34B and the second bank 35A at the corner other than the corner portion 1b. Of the organic resin can be prevented from passing over the second bank 35A.
  • the inclination angle ⁇ of the inner wall surface 34b of the first bank 34B is the same as in the first and second embodiments, and is larger than 50 degrees.
  • the first bank 34 B and the second bank 35 A are formed using one photomask formed in different spaces and line widths for each of the corner 1 a and the non-corner 1 b regions. It is possible to form.
  • the gap between the first bank 34C and the second bank 35A is narrowed at the corner portion 1a.
  • the organic resin of the organic sealing film 32 which is the sealing layer 30 exceeds the first bank 34C, a structure will be described in which the organic resin does not further exceed the second bank 35A.
  • FIG. 7 is a plan view showing the configuration of a first bank 34C and a second bank 35A in which the corner portion 1a of the organic EL display device 1 according to the present embodiment is narrowed.
  • FIG. 8A is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank 34C and the second bank 35A at the corner 1a of the organic EL display device 1.
  • FIG. 8B is a plan view showing the configuration of a photomask for forming the outer wall surface 34a of the first bank 34C in the corner portion 1a.
  • FIG. 9A is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank 34C and the second bank 35A in portions other than the corner portions 1b of the organic EL display device 1.
  • FIG. 9B is a plan view showing a configuration of a photomask for forming the outer wall surface 34a of the first bank 34C in the corner 1b.
  • the distance between the first bank 34C and the second bank 35A at the corner 1a is narrower than the distance between the first bank 34C at the corner 1b and the second bank 35A. It has become.
  • the distance between the first bank 34C and the second bank 35A in the corner 1a is about 20 ⁇ m
  • the distance between the first bank 34C in the corner 1b and the second bank 35A is about 60 ⁇ m.
  • the organic resin may exceed the first bank 34C. Therefore, in this case, in the organic EL display device 1 of the present embodiment, as shown in FIG. 7, the distance between the first bank 34C of the corner 1a and the second bank 35A is 1b other than the corner The distance between the first bank 34C and the second bank 35A is set smaller.
  • the organic resin beyond the first bank 34C easily escapes between the first bank 34C and the second bank 35A other than the corner portion 1b. Therefore, the organic resin can be prevented from further crossing over the second bank 35A at the corner portion 1a.
  • the inclination angle ⁇ 3 of the corner gentle slope 34a3 of the outer wall surface 34a of the first bank 34C of this embodiment is, for example, 10 to 20 degrees.
  • Each width of the space and line of the photomask for forming the corner gentle slope 34a3 is, for example, from the top of the first bank 34C toward the hem of the outer wall 34a, as shown in FIG. , 0.8, 1.4, 1.1, 1.1, 1.4, 0.8 ⁇ m.
  • the inclination angle ⁇ 4 of the gentle slope 34a4 other than the corner portion of the outer wall surface 34a of the first bank 34C is, for example, 20 to 30 degrees.
  • the width of the space and line of the photomask for forming the gentle slope 34a4 other than this corner is, as shown in (b) of FIG. 9, from the top of the first bank 34C toward the hem of the outer wall surface 34a. For example, it is 0.8, 1.4, 1.1, 1.1 ⁇ m.
  • the inclination angle ⁇ 3 of the corner gentle slope 34a3 of the outer wall surface 34a of the first bank 34C is smaller than the inclination angle ⁇ 4 of the gentle slope 34a4 other than the corner of the outer wall 34a of the first bank 34C. Therefore, the sealing layer 30 can be prevented from peeling off at the corner portion 1a.
  • the inclination angle ⁇ of the inner wall surface 34b of the first bank 34C is the same as in the first and second embodiments, and is larger than 50 degrees.
  • the first bank 34C is protruded outward.
  • the method is not limited to this.
  • the second bank 35A may be protruded inward.
  • the distance between the first bank 34D and the second bank 35B in the corner portion 1a is other than the corner portion The difference is that the distance between the first bank 34D and the second bank 35B is wider than the distance between the first bank 34D and the second bank 35B. Also in this embodiment, when the organic resin of the organic sealing film 32 which is the sealing layer 30 exceeds the first bank 34D, a structure for preventing the organic resin from further exceeding the second bank 35B will be described.
  • FIG. 10 is a plan view showing a configuration in which the distance between the first bank 34D and the second bank 35B in the corner portion 1a of the organic EL display device 1 in the present embodiment is increased.
  • FIG. 11A is a cross-sectional view showing the configuration of the first bank 34D and the second bank 35B at the corner 1a of the organic EL display device 1.
  • FIG. 11B is a plan view showing a configuration of a photomask for forming the outer wall surface 34a of the first bank 34D in the corner portion 1a. (A) of FIG.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing a configuration of the first bank 34D and the second bank 35B in the corner 1b.
  • FIG. 12B is a plan view showing a configuration of a photomask for forming the outer wall surface 34a of the first bank 34D in the corner 1b.
  • the interval between the first bank 34D and the second bank 35B in the corner 1a is the first bank 34D and the second bank in the corner 1b. It is wider than the distance with 35B.
  • the organic resin may exceed the first bank 34D.
  • the distance between the first bank 34D and the second bank 35B at the corner 1a is determined by the distance between the first bank 34D other than the corner 1b and the second bank 35B. It is also wide.
  • the distance between the first bank 34D and the second bank 35B in the corner 1a is about 120 ⁇ m
  • the distance between the first bank 34D in the corner 1b and the second bank 35B is about 60 ⁇ m.
  • the space between the first bank 34D and the second bank 35B at the corner portion 1a can be used as the liquid reservoir of the organic resin. Therefore, in the corner portion 1a, the organic resin can be prevented from passing over the second bank 35B.
  • the second bank 35B at the corner 1a is protruded to the outside to set the distance between the first bank 34D and the second bank 35B at the corner 1a.
  • the interval between the first bank 34D and the second bank 35B other than the corner portion 1b is wider.
  • the distance between the first bank 34D and the second bank 35B in the corner portion 1a is made wide, for example, a method of projecting the first bank 34D inward can be considered.
  • the method may reduce the area of the light emitting device layer 20.
  • the second bank 35B in the corner 1a is protruded to the outside, whereby the distance between the first bank 34D and the second bank 35B in the corner 1a is 1b except for the corner
  • the interval between the first bank 34D and the second bank 35B is made wider.
  • the space between the first bank 34D and the second bank 35B at the corner portion 1a can be widened without reducing the area of the light emitting element layer 20.
  • the method is not limited to this, and the first bank 34D may be protruded inward.
  • the inclination angle ⁇ 5 of the corner gentle slope 34a5 of the outer wall surface 34a of the first bank 34D of this embodiment is, for example, 10 to 20 degrees.
  • Each width of the space and line of the photomask for forming the corner gentle slope 34a5 is, for example, from the top of the first bank 34D toward the hem of the outer wall surface 34a, as shown in FIG. , 0.8, 1.4, 1.1, 1.1, 1.4, 0.8 ⁇ m.
  • the inclination angle ⁇ 6 of the gentle slope 34a6 other than the corner portion of the outer wall surface 34a of the first bank 34D is, for example, 20 to 30 degrees.
  • the width of the space and line of the photomask for forming the gentle slope 34a6 other than this corner is, as shown in (b) of FIG. 12, from the top of the first bank 34D toward the hem of the outer wall surface 34a. For example, it is 0.8, 1.4, 1.1, 1.1 ⁇ m.
  • the inclination angle ⁇ 5 of the corner gentle slope 34a5 of the outer wall surface 34a of the first bank 34D at the corner 1a is the slope angle of the gentle slope 34a6 other than the corner of the outer wall 34a of the first bank 34D other than the corner 1b. It is smaller than ⁇ 6. Therefore, the sealing layer 30 can be prevented from peeling off at the corner portion 1a.
  • the inclination angle ⁇ of the inner wall surface 34b of the first bank 34D is the same as in the first to third embodiments, and is larger than 50 degrees.
  • the organic EL display device 1 as a display device has been described as an example.
  • the display device in one embodiment of the present invention is not particularly limited as long as it is a display panel provided with a display element.
  • the display element includes a display element whose luminance and transmittance are controlled by current, and a display element whose luminance and transmittance are controlled by voltage.
  • An EL display device such as an organic EL (Electro Luminescence) display device provided with an OLED (Organic Light Emitting Diode) or an inorganic EL display device provided with an inorganic light emitting diode as a display element for current control, Alternatively, there is a QLED display device provided with a QLED (Quantum dot Light Emitting Diode). Further, as a display element for voltage control, there is a liquid crystal display element or the like.
  • an end portion of the sealing layer 30 for sealing the light emitting layer (light emitting element layer 20) is a first partition wall (first banks 34A to 34D)
  • first partition wall first banks 34A to 34D
  • second partition 35A second partition formed at an outer side than the first partition (first banks 34A to 34D
  • the outer wall surface 34a on the second partition (second bank 35A) side in 34A to 34D) is the inner side opposite to the second partition (second bank 35A) side on the first partition (first bank 34A) It is characterized in that it is formed on a gentle slope whose inclination angle is smaller than that of the wall surface 34b.
  • the end portion of the sealing layer for sealing the light emitting layer is doubled by the first partition wall and the second partition wall formed with an interval outside the first partition wall.
  • the sealing layer is generally composed of three layers of an inorganic sealing film, an organic sealing film, and an inorganic sealing film, and it is desirable that the organic resin of the organic sealing film be blocked by the first partition wall.
  • the inorganic sealing film is formed between the first partition and the second partition.
  • the wall surfaces of the first partition and the second partition are steeply inclined. The sealing film is easily peeled off.
  • the distance between the first partition and the second partition is narrow, and generally, the height of the first partition formed on the inner side is lower than that of the second partition formed on the outer side. For this reason, since the adhesion of the wall surface of the first partition on the second partition side is small, the inorganic sealing film as the sealing layer is easily peeled off.
  • the outer wall surface on the second partition wall side in the first partition wall is formed as a gentle slope having a smaller inclination angle than the inner wall surface on the opposite side to the second partition wall side in the first partition wall. It is done. As a result, the area of the outer wall surface on the side of the second partition in the first partition is increased, so that the adhesion region of the inorganic sealing film which is the sealing layer is increased. As a result, the adhesion area of the outer wall surface on the second partition side of the first partition is increased, and the adhesion is increased.
  • the organic resin of the organic sealing film that is the sealing layer be blocked by the first partition, but in some cases, the organic resin may exceed the first partition. In this case, it is necessary to prevent the organic resin from further exceeding the second partition wall. In each of the following aspects, the organic resin is further configured not to exceed the second partition wall.
  • the inclination angle of 35 a) may be larger than that of the outer wall surface (outer wall surface 34 a) of the first partition wall (first banks 34 A to 34 D).
  • the inclination of the inner wall surface of the second partition becomes steep, so that in the step of forming the sealing layer, the organic resin that has passed over the first partition, which is the first ridge, is the second ridge, which is the second ridge. It is possible to prevent crossing over the partition wall.
  • the second barrier rib (second bank 35A) is preferably higher than the first barrier rib (first bank 34A to 34D).
  • the organic resin having climbed over the first partition which is the first ridge further passes over the second partition which is the second ridge. Can be prevented.
  • the outer wall surface of the first partition wall (first bank 34B) is rectangular at the corner gentle slope 34a1 at the corner 1a of the rectangular display area. It can be assumed that the inclination angle is larger than the gentle slope 34a2 other than the corner in the corner 1b of the display area.
  • the organic resin may exceed the first partition.
  • the gentle slope of the first partition at the corner of the rectangular display area is made steeper than the gentle slope other than the corner. .
  • the organic resin beyond the first partition escapes between the first partition and the second partition other than the corner of the rectangular display area. It becomes easy to go. Therefore, the organic resin can be prevented from crossing over the second partition wall at the corner of the rectangular display area.
  • the distance between the first partition (first bank 34C) and the second partition (second bank 35A) at the corner 1a of the rectangular display area is It can be assumed that the distance between the first partition (first bank 34C) and the second partition (second bank 35A) other than the corner portion of the rectangular display area is smaller than the interval between the first partition (first bank 34C) and the second partition (second bank 35A).
  • the method of making the distance between the first partition and the second partition smaller than the distance between the first partition and the second partition may be either the method of projecting the first partition outward or the method of projecting the second partition inward.
  • the organic resin may exceed the first partition.
  • the distance between the first partition and the second partition at the corner of the rectangular display area is the distance between the first partition and the second partition other than the corner of the rectangular display area. It is narrower than the distance to the second partition wall.
  • the organic resin beyond the first partition easily escapes between the first partition and the second partition other than the corner of the rectangular display area. Therefore, the organic resin can be prevented from crossing over the second partition wall at the corner of the rectangular display area.
  • the distance between the first partition (first bank 34D) and the second partition (second bank 35B) at the corner 1a of the rectangular display area is It can be assumed that the distance between the first partition (first bank 34D) and the second partition (second bank 35B) other than the corner of the rectangular display area is 1b.
  • the organic resin may exceed the first partition.
  • the distance between the first partition and the second partition at the corner of the rectangular display area is the distance between the first partition and the second partition other than the corner of the rectangular display area. It is wider than the distance to the second partition wall.
  • angular part of a rectangular display area can be made into the liquid reservoir of organic resin. Therefore, the organic resin can be prevented from crossing over the second partition wall at the corner of the rectangular display area.
  • the second partition wall (second bank 35B) in the corner portion 1a of the rectangular display region is protruded to the outside to thereby form the corner of the rectangular display region
  • the interval between the first partition (first bank 34D) and the second partition (second bank 35B) in the portion 1a is the first partition (first bank 34D) of 1b other than the corner of the rectangular display area
  • the distance from the second barrier rib (the second bank 35B) can be made wider.
  • the method of making a 1st partition project inside can be considered, for example.
  • the method may reduce the area of the light emitting layer.
  • the distance between the first partition and the second partition at the corner of the rectangular display area is set by projecting the second partition at the corner of the rectangular display area to the outside.
  • the distance between the first partition and the second partition other than the corner of the rectangular display area is wider.
  • the display device in one embodiment of the present invention is not particularly limited as long as it is a display panel including a display element.
  • the display element includes a display element whose luminance and transmittance are controlled by current, and a display element whose luminance and transmittance are controlled by voltage.
  • An EL display device such as an organic EL (Electro Luminescence) display device provided with an OLED (Organic Light Emitting Diode) or an inorganic EL display device provided with an inorganic light emitting diode as a display element for current control, Alternatively, there is a QLED display device provided with a QLED (Quantum dot Light Emitting Diode). Further, as a display element for voltage control, there is a liquid crystal display element or the like.
  • Organic EL Display Device (Display Device) 1a Corners 1b Other than Corners 2 Base Material 3 Resin Layer 4 Barrier Layer 5 Adhesive Layer 6 Functional Film 10 TFT Layer 15 Planarization Film 20 Light Emitting Element Layer (Light Emitting Layer) 30 Sealing Layer 31 ⁇ 33 Inorganic Sealing Film 32 Organic Sealing Film 34A to 34D First Bank (First Partition) 34a Outer wall surface 34a1 corner gentle slope 34a2 other than corner loose slope 34a3 corner gentle slope 34a4 other than corner loose slope 34a5 corner gentle slope 34a6 other than corner loose slope 34b inner wall surface 35A, 35B second bank (second partition) 35a Second bank inner wall surface ⁇ to ⁇ inclination angle

Landscapes

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Abstract

発光層を封止する封止層の端部に形成された第１隔壁と第２隔壁との間の封止層の剥がれを防止し得る表示装置を提供する。有機ＥＬ表示装置（１）は、発光素子層（２０）を封止する封止層（３０）の端部を第１バンク（３４Ａ）と該第１バンク（３４Ａ）よりも外側に間隔を有して形成された第２バンク（３５Ａ）とによって二重に囲う。第１バンク（３４Ａ）における第２バンク（３５Ａ）側の外側壁面（３４ａ）が、第１バンク（３４Ａ）における第２バンク（３５Ａ）側とは反対側の内側壁面（３４ｂ）よりも傾斜角度が小さい緩斜面に形成されている。

Description

表示装置
　本発明は、発光層を封止する封止層の端部を第１隔壁と第２隔壁とによって二重に囲う表示装置に関するものである。
　例えば、特許文献１に開示された有機ＥＬ表示装置１００では、図１３の（ａ）（ｂ）に示すように、画素１０１の境界に形成するバンク１１０の側面は各画素の周囲のうち大部分を傾斜角度が９０゜以上である断崖部１１１として形成し、各画素１０１の周囲のうちの一部分を傾斜角度が９０゜未満である緩傾斜部１１２として形成している。
　これにより、画素１０１の有機層１２０は、断崖部１１１にてバンク１１０の側面で分断され易く、上側に形成される図示しない封止層の形成時に図示しない平坦化層を構成するモノマーを好適に引き寄せる凹部が形成され易い。その結果、平坦化層の裾が一層短くなって膜浮き発生確率が低下するものとなっている。
　また、特許文献２に開示された有機発光パネル２００では、図１４に示すように、画素部２０１ａと画素部２０１ｂとは、間に非画素部２０２を介挿した状態で配されている。画素部２０１ａの形成においては、有機発光層を形成するためのインクが、サブピクセル２０１ａ１・２０１ａ２・２０１ａ３の順に塗布される。画素部２０１ｂの形成においても同様である。非画素部２０２には、有機発光層は形成されないので、そのためのインクの塗布はなされない。画素部２０１ａのサブピクセル２０１ａ３を規定するバンク２１１ｃとバンク２１１ｄとに関し、バンク２１１ｄの内壁面２１１ｄ３の傾斜角度θｄ３は、バンク２１１ｃの内壁面２１１ｃ３の傾斜角度θｃ３よりも大きい。一方、画素部２０１ｂのサブピクセル１００ｂ１を規定するバンク２１１ｅとバンク２１１ｆとに関し、バンク２１１ｅの内壁面２１１ｅ１の傾斜角度θｅ１は、バンク２１１ｆの内壁面２１１ｆ１の傾斜角度θｆ１と等しくなっている。
　これにより、インクのピンニング位置に差異を設けることにより、インクの塗布時における蒸気濃度の分布勾配を調整して、パネル全面での有機発光層の膜厚の均一化を図り、面内における輝度ムラの少ない表示装置を提供するものとなっている。
日本国公開特許公報「特開２０１５－５００２２号（２０１５年３月１６日公開）」 国際公開公報ＷＯ２０１２／０４９７１８号（２０１２年４月１９日国際公開）
　ところで、従来の表示装置においては、発光層を封止する封止層の端部を第１隔壁と該第１隔壁よりも外側に間隔を有して形成された第２隔壁とによって二重に囲う表示装置が市販されている。この場合に、従来の表示装置においては、第１隔壁及び第２隔壁を平坦化膜と同一工程で形成すると、第１隔壁及び第２隔壁の壁面が急傾斜となるため、封止層が剥がれ易いという問題を有している。特に、第１隔壁と第２隔壁との間隔は狭いと共に、一般に、外側に形成される第２隔壁に比べて内側に形成される第１隔壁は高さが低い。このため、第１隔壁の第２隔壁側の壁面の付着力が小さいので、封止層が剥がれ易い。
　尚、前記従来の特許文献１・２においては、第１隔壁及び第２隔壁の壁面に関する記載及び示唆はない。
　本発明の一態様は、前記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、発光層を封止する封止層の端部に形成された第１隔壁と第２隔壁との間の封止層の剥がれを防止し得る表示装置を提供することにある。
　本発明の一態様における表示装置は、前記の課題を解決するために、発光層を封止する封止層の端部を第１隔壁と該第１隔壁よりも外側に間隔を有して形成された第２隔壁とによって二重に囲うＥＬ表示装置において、前記第１隔壁における前記第２隔壁側の外側壁面が、前記第１隔壁における前記第２隔壁側とは反対側の内側壁面よりも傾斜角度が小さい緩斜面に形成されていることを特徴としている。
　本発明の一態様によれば、発光層を封止する封止層の端部に形成された第１隔壁と第２隔壁との間の封止層の剥がれを防止し得る表示装置を提供するという効果を奏する。
（ａ）は本発明の実施形態１におけるＥＬ表示装置の構成を示すものであって、ＥＬ表示装置の第１バンク及び第２バンクの構成を示す断面図であり、（ｂ）は第１バンクの外側壁面を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。 （ａ）は前記ＥＬ表示装置の構成を示すものであって、ＥＬ表示装置の中央部の構成を示す断面図であり、（ｂ）はＥＬ表示装置の端部の構成を示す断面図である。 （ａ）は前記ＥＬ表示装置の第２バンクの構成を示す断面図であり、（ｂ）は前記第２バンクを形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。 本発明の実施形態２におけるＥＬ表示装置の角部の傾斜を立たせた第１バンク及び第２バンクの構成を示す平面図である。 （ａ）は前記ＥＬ表示装置の角部における第１バンク及び第２バンクの構成を示す断面図であり、（ｂ）は角部における第１バンクの外側壁面を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。 （ａ）は前記ＥＬ表示装置の角部以外における第１バンク及び第２バンクの構成を示す断面図であり、（ｂ）は角部以外における第１バンクの外側壁面を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。 本発明の実施形態３におけるＥＬ表示装置の角部を狭くした第１バンク及び第２バンクの構成を示す平面図である。 （ａ）は前記ＥＬ表示装置の角部における第１バンク及び第２バンクの構成を示す断面図であり、（ｂ）は角部における第１バンクの外側壁面を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。 （ａ）は前記ＥＬ表示装置の角部以外における第１バンク及び第２バンクの構成を示す断面図であり、（ｂ）は角部以外における第１バンクの外側壁面を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。 本発明の実施形態４におけるＥＬ表示装置の角部の第１バンクと第２バンクとの間隔を広くした構成を示す平面図である。 （ａ）は前記ＥＬ表示装置の角部における第１バンク及び第２バンクの構成を示す断面図であり、（ｂ）は角部における第１バンクの外側壁面を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。 （ａ）は前記ＥＬ表示装置の角部以外における第１バンク及び第２バンクの構成を示す断面図であり、（ｂ）は角部以外における第１バンクの外側壁面を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。 （ａ）は従来の有機ＥＬ表示装置の構成を示す平面図であり、（ｂ）は前記従来の有機ＥＬ表示装置の画素の構成を示す断面図である。 従来の他の有機ＥＬ表示装置の画素の構成を示す断面図である。
　〔実施の形態１〕
　本発明の一実施形態について図１～図３に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
　（有機ＥＬ表示装置の基本構成）
　本実施の形態の表示装置としての有機ＥＬ表示装置１の構成について、図２の（ａ）（ｂ）に基づいて説明する。図２の（ａ）は、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置の画素の中央部の構成を示す断面図である。図２の（ｂ）は、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置の端部の構成を示す断面図である。
　本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１は、上方に向けて発光するトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置であり、図２の（ａ）に示すように、下側から順に、基材２、樹脂層３、バリア層４（アンダーコート層）、ＴＦＴ層１０、発光素子層２０、封止層３０、接着層５及び機能フィルム６を備えている。
　基材２の材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が挙げられる。また、樹脂層３材料としては、例えば、ポリイミド、エポキシ、ポリアミド等が挙げられる。
　バリア層４は、表示デバイスの使用時に、水分や不純物が、ＴＦＴ層１０や発光素子層２０に到達することを防ぐ層である。バリア層４は、例えば、ＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition：化学気相成長法)により形成される酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、若しくは酸窒化シリコン膜、又はこれらの積層膜で構成することができる。
　ＴＦＴ層１０は、半導体膜１１と、半導体膜１１よりも上層に形成される無機絶縁膜１２と、無機絶縁膜１２よりも上層に形成されるゲート電極Ｇと、ゲート電極Ｇよりも上層に形成される無機絶縁膜１３と、無機絶縁膜１３よりも上層に形成される図示しない容量配線と、容量配線よりも上層に形成される無機絶縁膜１４と、無機絶縁膜１４よりも上層に形成されるソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄと、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄよりも上層に形成される平坦化膜１５とを含んでいる。
　前記半導体膜１１、ゲート絶縁膜である無機絶縁膜１２及びゲート電極Ｇによって、発光制御トランジスタとして機能する薄膜トランジスタＴｄが構成されている。ソース電極Ｓは半導体膜１１のソース領域に接続され、ドレイン電極Ｄは半導体膜１１のドレイン領域に接続されている。
　半導体膜１１は、例えば低温ポリシリコン（ＬＴＰＳ）又は酸化物半導体で構成される。尚、図２の（ａ）（ｂ）では、半導体膜１１をチャネルとするＴＦＴがトップゲート構造で示されているが、ボトムゲート構造でもよい。例えば、ＴＦＴのチャネルが酸化物半導体の場合である。
　無機絶縁膜１２・１３・１４は、例えば、ＣＶＤ法によって形成された酸化シリコン（ＳｉＯｘ）膜若しくは窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜又はこれらの積層膜によって構成することができる。平坦化膜１５は、層間絶縁膜として機能し、例えばポリイミド、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。
　ゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ、ドレイン電極Ｄ及び端子は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）の少なくとも１つを含む金属の単層膜又は積層膜によって構成されている。
　ＴＦＴ層１０の端部、つまり発光素子層２０とは重ならない非アクティブ領域ＮＡには端子部４０が設けられている。端子部４０は、電子回路基板４１との接続に用いられる端子ＴＭと、これに接続される端子配線ＴＷとを含む。端子配線ＴＷは、中継配線ＬＷ及び引き出し配線ＤＷを介してＴＦＴ層１０の各種配線と電気的に接続される。
　電子回路基板４１は、例えば、異方性導電材４２を介して端子ＴＭ上に実装されるＩＣチップ又はフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）である。
　端子ＴＭ、端子配線ＴＷ及び引き出し配線ＤＷは、例えばソース電極Ｓと同一工程で形成される。このため、ソース電極Ｓと同層である無機絶縁膜１４上に同材料にて形成される。具体的には、例えば、２枚のチタン膜及びこれらにサンドされたアルミニウム膜にて形成される。
　中継配線ＬＷは、例えば前記容量電極と同一工程で形成される。端子ＴＭ、端子配線ＴＷ及び引き出し配線ＤＷの端面であるエッジは平坦化膜１５で覆われている。
　発光素子層２０は、本実施の形態では、例えば有機発光ダイオード層にてなり、平坦化膜１５よりも上層に形成されるアノード電極２１と、発光素子層２０と重なる領域であるアクティブ領域ＤＡのサブ画素を規定する画素バンク２２と、アノード電極２１よりも上層に形成される発光層２３と、発光層２３よりも上層に形成されるカソード電極２４とを含み、アノード電極２１、発光層２３、及びカソード電極２４を含むように、例えば有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）が構成される。
　画素バンク２２はアノード電極２１のエッジを覆っており、発光層２３は、蒸着法又はインクジェット法によって、画素バンク２２で囲まれた領域である発光領域に形成される。発光素子層２０が有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）層である場合、画素バンク２２の底面つまりアノード電極２１が露出した部分上には、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層２３、電子輸送層及び電子注入層が積層される。ここでは、発光層２３以外を共通層とすることができる。
　アノード（陽極）電極２１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）と銀（Ａｇ）を含む合金との積層によって構成され、光反射性を有する。カソード電極２４は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）又はＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透光性の導電材で構成することができる。
　発光素子層２０がＯＬＥＤ層である場合、アノード電極２１及びカソード電極２４の間の駆動電流によって正孔と電子とが発光層２３内で再結合し、これによって生じたエキシトンが基底状態に落ちることによって、光が放出される。カソード電極２４が透光性であり、アノード電極２１が光反射性であるため、発光層２３から放出された光は上方に向かい、トップエミッションとなる。
　発光素子層２０は、ＯＬＥＤ素子を構成する場合に限られず、無機発光ダイオード又は量子ドット発光ダイオードを構成してもよい。
　前記発光素子層２０の上側には、封止層３０が形成されている。封止層３０は透光性であり、発光素子層２０のカソード電極２４を覆う無機封止膜３１と、無機封止膜３１よりも上層に形成される有機封止膜３２と、有機封止膜３２を覆う無機封止膜３３とを含む。
　無機封止膜３１・３３は、例えば、マスクを用いたＣＶＤにより形成される酸化シリコン膜、窒化シリコン膜若しくは酸窒化シリコン膜、又はこれらの積層膜で構成することができる。
　有機封止膜３２は、無機封止膜３１・３３よりも厚い透光性有機膜であり、ポリイミド、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。例えば、このような有機材料を含むインクを無機封止膜３１上にインクジェット塗布した後、ＵＶ照射により硬化させる。
　これにより、封止層３０は、発光素子層２０を覆い、水、酸素等の異物の発光素子層２０への浸透を防いでいる。
　封止層３０の非アクティブ領域ＮＡにおいては、有機封止膜３２のエッジを規定する第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａが設けられている。第１バンク３４Ａは、凸部からなり、有機封止膜３２をインクジェット塗付する際の液止めとして機能する。第２バンク３５Ａは、凸部からなり、第１バンク３４Ａよりも外側に形成されて、予備の液止めとして機能する。尚、第２バンク３５Ａの下部は平坦化膜１５で構成され、引き出し配線ＤＷの端面の保護膜として機能する。画素バンク２２、第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａは、ポリイミド、エポキシ、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料を用いて、例えば同一工程で形成することができる。
　機能フィルム６は、例えば、光学補償機能、タッチセンサ機能、保護機能等を有するフィルムであり、接着層５により接着される。
　（第１バンク及び第２バンクの詳細構成）
　前述したように、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、発光層としての発光素子層２０を封止する封止層３０の端部を、第１隔壁としての第１バンク３４Ａと該第１バンク３４Ａよりも外側に間隔を有して形成された第２隔壁としての第２バンク３５Ａとによって二重に囲っている。この理由は、封止層３０は、無機封止膜３１、有機封止膜３２及び無機封止膜３３の３層で構成されており、有機封止膜３２を形成する工程において、有機樹脂が第１バンク３４Ａを越える場合があるためである。
　しかし、本来、有機封止膜３２の有機樹脂は第１バンク３４Ａにて堰き止められることが望ましい。有機封止膜３２の有機樹脂が第１バンク３４Ａにて堰き止められた場合、無機封止膜３１・３３が第１バンク３４Ａと第２バンク３５Ａとの間に成膜される。ここで、このような有機ＥＬ表示装置１においては第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａを平坦化膜と同一工程で形成すると、第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａの壁面が急傾斜となるため、封止層３０である無機封止膜３１・３３が剥がれ易い。特に、第１バンク３４Ａと第２バンク３５Ａとの間隔は狭い。このため、第１バンク３４Ａの第２バンク３５Ａ側の壁面の付着力が小さいので、封止層３０である無機封止膜３１・３３が剥がれ易い。
　そこで、本実施の形態においては、この問題を解決する第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａの構造を有している。本実施の形態の第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａの構成について、図１の（ａ）（ｂ）、及び図３の（ａ）（ｂ）に基づいて説明する。図１の（ａ）は、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１の第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａの構成を示す断面図である。図１の（ｂ）は、第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａを形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。図３の（ａ）は、有機ＥＬ表示装置１の第２バンク３５Ａの構成を示す断面図である。図３の（ｂ）は、第２バンク３５Ａを形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。
　本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、図１の（ａ）に示すように、第１バンク３４Ａにおける第２バンク３５Ａ側の外側壁面３４ａが、第１バンク３４Ａにおける第２バンク３５Ａ側とは反対側の内側壁面３４ｂよりも傾斜角度が小さい緩斜面に形成されている。
　この構造により、第１バンク３４Ａにおける第２バンク３５Ａ側の外側壁面３４ａの面積が増加するので、封止層３０の付着領域が増加する。この結果、第１バンク３４Ａにおける第２バンク３５Ａ側の外側壁面３４ａの付着面積が増大し、付着力及び密着性が増加する。
　したがって、発光素子層２０を封止する封止層３０の端部に形成された第１バンク３４Ａと第２バンク３５Ａとの間の封止層３０の剥がれを防止し得る有機ＥＬ表示装置１を提供することができる。
　ところで、前述したように、封止層３０である有機封止膜３２の有機樹脂は第１バンク３４Ａにて堰き止められることが望ましいが、場合によっては、有機樹脂が第１バンク３４Ａを越える場合がある。この場合に、有機樹脂がさらに第２バンク３５Ａを越えないようにする必要がある。以下では、有機樹脂がさらに第２バンク３５Ａを越えないようにする各種の構造を説明する。
　例えば、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１では、第２バンク３５Ａにおける第１バンク３４Ａ側の第２バンク内側壁面３５ａは、第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａよりも傾斜角が大きい。
　これにより、第２バンク３５Ａの第２バンク内側壁面３５ａの傾斜が急になるので、封止層３０を形成する工程において、第１の堰である第１バンク３４Ａを乗り越えた有機樹脂がさらに第２の堰である第２バンク３５Ａを乗り越えるのを防止することができる。
　また、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１では、第２バンク３５Ａは、第１バンク３４Ａよりも高い。これにより、第２バンク３５Ａの高さが高いので、封止層３０を形成する工程において、第１の堰である第１バンク３４Ａを乗り越えた有機樹脂がさらに第２の堰である第２バンク３５Ａを乗り越えるのを防止することができる。
　ここで、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１における第１バンク３４Ａにおける第２バンク３５Ａ側の形成方法について、図１の（ａ）（ｂ）及び図３の（ａ）（ｂ）に基づいて説明する。
　最初に、図３の（ａ）に示す第２バンク３５Ａを形成する場合には、図３の（ｂ）に示すフォトマスクが使用される。
　本実施の形態では、第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａは、ポリイミド、エポキシ、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料からなっており、平坦化膜１５と同じ材料からなっている。このため、本実施の形態では、平坦化膜１５並びに第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａは、同一工程で形成される。本実施の形態では、例えば所謂ポジ型の感光性有機材料を使用しており、フォトマスクとして、感光性有機材料膜のうちの除去したい領域に光を透過させるようにした露光マスクが用いられる。尚、所謂ネガ型の感光性有機材料膜を使用することも可能である。
　このため、具体的には、図２の（ｂ）に示すように、ＴＦＴ層１０における無機絶縁膜１４の上に、ポリイミド、エポキシ、アクリル等の感光性有機材料を例えばインクジェットにより塗布する。そして、図３の（ｂ）に示す黒塗り部分が遮蔽されたフォトマスクを介して塗布面を上側から露光する。これにより、図３の（ｂ）に示すフォトマスクの白塗り部分の開口部の塗布面が露光される。その後、フォトマスクを取り外して現像することにより、フォトマスクの白塗り部分の開口部の塗布面の感光性有機材料が溶解されてなくなり、フォトマスクの黒塗り部分が残る。これにより、平坦化膜１５並びに第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａが形成される。尚、このようにして、平坦化膜１５並びに第１バンク３４Ａ及び第２バンク３５Ａを形成した場合、それぞれの両端壁は、垂直壁とはならず若干の傾斜面を有する急傾斜面となる。
　次に、図１の（ａ）に示す第１バンク３４Ａを形成する方法について説明する。
　図１の（ａ）に示す第１バンク３４Ａを形成すする場合には、図１の（ｂ）に示すフォトマスクが使用される。ここで、図１の（ｂ）に示すフォトマスクは、グレートーンパターンを有するフォトマスクとなっており、このフォトマスクは、第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａを形成する部分がグレートーンパターンとなっている。グレートーンパターンとは、フォトマスクがラインとスペースとを繰り返した所謂ライン＆スペース形状となっていることをいう。図１の（ｂ）に示すグレートーンパターンのフォトマスクでは、スペースとは白塗りの開口部分を示し、ラインとは黒塗りの遮蔽部分を示す。本実施の形態では、フォトマスクのスペース及びラインの各幅は、第１バンク３４Ａの頂上から外側壁面３４ａの裾に向かって、例えば、０．８、１．４、１．４、１．１、１．１μｍとなっている。すなわち、ライン＆スペース形状の幅を段階的に変化させている。
　これにより、外側壁面３４ａを形成する部分の露光量が外側壁面３４ａの裾に行くに伴って大きくなる。この結果、外側壁面３４ａの裾に行くに伴って、感光性有機材料膜の露光量が大きくなり、現像したときに外側壁面３４ａの裾に行くに伴って、感光性有機材料膜の溶解量が大きくなる。したがって、外側壁面３４ａの傾斜面を連続する緩斜面に形成することが可能となる。
　また、このように、所謂ライン＆スペース形状のグレートーンパターンのフォトマスクについて、パターンサイズ及びパターンピッチの異なるグレートーンパターンのフォトマスクを用意しておくことによって、第１バンク３４Ａの幅を太くすることなく、外側壁面３４ａを任意の傾斜角度に調整することが可能である。
　尚、本実施の形態では、外側壁面３４ａを緩やかな傾斜面とするために、所謂ライン＆スペース形状のフォトマスクを使用したが、フォトマスクは、必ずしも所謂ライン＆スペース形状のフォトマスクに限らない。例えば、所謂ハーフトーン形状のフォトマスクを使用したり傾斜露光を行ったりすることによって第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａを緩やかな傾斜面にすることができる。ハーフトーン形状のフォトマスクとは、傾斜面を形成する部分の透過率を開口部分の透過率の半分にしたフォトマスクをいう。また、傾斜露光とは斜めから光を照射することにより、露光強度に差を設ける方法をいう。
　ここで、本実施の形態の第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａ及び内側壁面３４ｂの傾斜角度及び第２バンク３５Ａの第２バンク内側壁面３５ａの傾斜角度について説明する。
　図１の（ａ）に示すように、本実施の形態の第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａの傾斜角度αは例えば３０度以下である。また、第１バンク３４Ａの内側壁面３４ｂの傾斜角度βは例えば５０度よりも大きい。これにより、第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａの傾斜角度αは、第１バンク３４Ａの内側壁面３４ｂの傾斜角度βよりも小さいので、第１バンク３４Ａと第２バンク３５Ａとの間の封止層３０の剥がれを防止することができる。
　また、本実施の形態の第２バンク３５Ａの第２バンク内側壁面３５ａの傾斜角度γは例えば５０度よりも大きい。この結果、第２バンク３５Ａの第２バンク内側壁面３５ａの傾斜角度γは、第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａの傾斜角度αよりも大きい。これにより、封止層３０を形成する工程において、第１の堰である第１バンク３４Ａを乗り越えた有機樹脂がさらに第２の堰である第２バンク３５Ａを乗り越えるのを防止することができる。
　このように、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、発光層としての発光素子層２０を封止する封止層３０の端部を第１隔壁としての第１バンク３４Ａと該第１バンク３４Ａよりも外側に間隔を有して形成された第２隔壁としての第２バンク３５Ａとによって二重に囲っている。そして、第１バンク３４Ａにおける第２バンク３５Ａ側の外側壁面３４ａが、第１バンク３４Ａにおける第２バンク３５Ａ側とは反対側の内側壁面３４ｂよりも傾斜角度が小さい緩斜面に形成されている。
　これにより、第１バンク３４Ａにおける外側壁面３４ａの面積が増加するので、封止層３０の付着領域が増加する。この結果、第１バンク３４Ａにおける外側壁面３４ａの付着面積が増大し、付着力が増加する。したがって、発光素子層２０を封止する封止層３０の端部に形成された第１バンク３４Ａと第２バンク３５Ａとの間の封止層３０の剥がれを防止し得る有機ＥＬ表示装置１を提供することができる。
　また、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１では、第２バンク３５Ａの第２バンク内側壁面３５ａは、第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａよりも傾斜角が大きい。例えば、第２バンク内側壁面３５ａの傾斜角度γは例えば５０度よりも大きく、前述したように、第１バンク３４Ａの外側壁面３４ａの傾斜角度αは、前述したように、傾斜角度αは例えば３０度以下である。
　これにより、第２バンク内側壁面３５ａの傾斜が急になるので、封止層３０を形成する工程において、第１バンク３４Ａを乗り越えた有機樹脂がさらに第２バンク３５Ａを乗り越えるのを防止することができる。
　また、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１では、第２バンク３５Ａは、第１バンク３４Ａよりも高い。これにより、封止層３０を形成する工程において、第１の堰である第１バンク３４Ａを乗り越えた有機樹脂がさらに第２の堰である第２バンク３５Ａを乗り越えるのを防止することができる。
　〔実施の形態２〕
　本発明の他の実施の形態について図４～図６に基づいて説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態１と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態１の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
　本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１は、前記実施の形態１における有機ＥＬ表示装置１の構成に加えて、第１バンク３４Ｂの外側壁面３４ａは、矩形表示領域の角部１ａにおける角部緩斜面の方が、矩形表示領域の角部以外１ｂにおける角部以外緩斜面よりも、傾斜角度が大きい点が異なっている。すなわち、本実施の形態では、封止層３０である有機封止膜３２の有機樹脂が第１バンク３４Ｂを越えた場合に、有機樹脂がさらに第２バンク３５Ａを越えないようにする構造を説明する。
　本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１の構成について、図４～図６の（ａ）（ｂ）に基づいて説明する。図４は、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１の角部１ａの傾斜を立たせた第１バンク３４Ｂ及び第２バンク３５Ａの構成を示す平面図である。図５の（ａ）は、有機ＥＬ表示装置１の角部１ａにおける第１バンク３４Ｂ及び第２バンク３５Ａの構成を示す断面図である。図５の（ｂ）は、角部１ａにおける第１バンク３４Ｂの外側壁面３４ａの角部緩斜面３４ａ１を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。図６の（ａ）は、有機ＥＬ表示装置１の角部以外１ｂにおける第１バンク３４Ｂ及び第２バンク３５Ａの構成を示す断面図である。図６の（ｂ）は、第１バンク３４Ｂの外側壁面３４ａにおける角部以外緩斜面３４ａ２を形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。
　図４、図５の（ａ）、及び図６の（ａ）に示すように、本実施の形態の第１隔壁としての第１バンク３４Ｂの外側壁面３４ａの緩斜面は、矩形表示領域の角部１ａにおける角部緩斜面３４ａ１の方が、矩形表示領域の角部以外１ｂにおける角部以外緩斜面３４ａ２よりも、傾斜角度が大きいものとなっている。
　すなわち、有機樹脂を塗布して前記封止層３０を形成する工程において、図４において矢印で示すように、有機樹脂が第１バンク３４Ｂを越える場合がある。尚、第２バンク３５Ｂと第２バンク３５Ａとの間隔は例えば６０μｍ程度である。そこで、この場合のために、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１においては、図５の（ａ）に示すように、角部１ａにおける第１バンク３４Ｂの角部緩斜面３４ａ１を、図６の（ａ）に示す角部以外緩斜面３４ａ２よりも急斜面にしておく。
　これにより、封止層３０を形成する工程においては、矩形表示領域の角部１ａにおいて、第１バンク３４Ｂを越えた有機樹脂は角部以外緩斜面３４ａ２の第１バンク３４Ｂと第２バンク３５Ａとの間に逃げて行き易くなる。したがって、角部１ａにおいて、有機樹脂が第２バンク３５Ａを乗り越えるのを防止することができる。
　ここで、図５の（ａ）に示すように、本実施の形態の第１バンク３４Ｂの角部１ａにおける外側壁面３４ａの角部緩斜面３４ａ１の傾斜角度α１は例えば２０～３０度である。この角部緩斜面３４ａ１を形成するためのフォトマスクのスペース及びラインの各幅は、図５の（ｂ）に示すように、第１バンク３４Ｂの頂上から外側壁面３４ａの裾に向かって、例えば、０．８、１．４、１．１、１．１μｍとなっている。このように、フォトマスクのスペース及びラインの各幅を段階的に変化させることによって、角部緩斜面３４ａ１の傾斜角度を大きくすることが可能である。
　また、図６の（ａ）に示すように、第１バンク３４Ｂの外側壁面３４ａの角部以外緩斜面３４ａ２の傾斜角度α２は例えば１０～２０度である。この角部以外緩斜面３４ａ２を形成するためのフォトマスクのスペース及びラインの各幅は、図６の（ｂ）に示すように、第１バンク３４Ｂの頂上から外側壁面３４ａの裾に向かって、例えば、０．８、１．４、１．１、１．１、１．４、０．８μｍとなっている。
　この結果、第１バンク３４Ｂの外側壁面３４ａの角部緩斜面３４ａ１の傾斜角度α１は、第１バンク３４Ｂの外側壁面３４ａの角部以外緩斜面３４ａ２の傾斜角度α２よりも大きい。したがって、封止層３０を形成する工程においては、角部１ａにおいて第１バンク３４Ｂと第２バンク３５Ａとの間に流れた有機樹脂を角部以外１ｂにおける第１バンク３４Ｂと第２バンク３５Ａとの間に逃げ易くすることによって、有機樹脂が第２バンク３５Ａを乗り越えるのを防止することができる。
　尚、第１バンク３４Ｂの内側壁面３４ｂの傾斜角度βは、実施の形態１・２と同様であり、５０度よりも大きいものとなっている。
　尚、本実施の形態においては、第１バンク３４Ｂの角部１ａと角部以外１ｂとで、ペース及びラインの幅が異なる２種類のフォトマスクを使用している。しかし、実際の使用に際しては、例えば、角部１ａと角部以外１ｂとの領域毎に異なるスペース及びラインの幅に形成した１つのフォトマスクを使用して第１バンク３４Ｂ及び第２バンク３５Ａを形成することが可能である。
　〔実施の形態３〕
　本発明のさらに施の形態について図７～図９に基づいて説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態１・２と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態１・２の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
　本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１は、前記実施の形態１における有機ＥＬ表示装置１の構成に加えて、角部１ａでは、第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間隔が狭くなっている点が異なっている。本実施の形態でも、封止層３０である有機封止膜３２の有機樹脂が第１バンク３４Ｃを越えた場合に、有機樹脂がさらに第２バンク３５Ａを越えないようにする構造を説明する。
　本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１の構成について、図７～図９の（ａ）（ｂ）に基づいて説明する。図７は、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１の角部１ａを狭くした第１バンク３４Ｃ及び第２バンク３５Ａの構成を示す平面図である。図８の（ａ）は、有機ＥＬ表示装置１の角部１ａにおける第１バンク３４Ｃ及び第２バンク３５Ａの構成を示す断面図である。図８の（ｂ）は、角部１ａにおける第１バンク３４Ｃの外側壁面３４ａを形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。図９の（ａ）は、有機ＥＬ表示装置１の角部以外１ｂにおける第１バンク３４Ｃ及び第２バンク３５Ａの構成を示す断面図である。図９の（ｂ）は、角部以外１ｂにおける第１バンク３４Ｃの外側壁面３４ａを形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。
　本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１では、角部１ａにおける第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間隔は、角部以外１ｂの第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間隔よりも狭くなっている。例えば、角部１ａにおける第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間隔は２０μｍ程度であり、角部以外１ｂの第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間隔は６０μｍ程度である。
　すなわち、有機樹脂を塗布して封止層３０を形成する工程において、有機樹脂が第１バンク３４Ｃを越える場合がある。そこで、その場合のために、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１においては、図７に示すように、角部１ａの第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間隔を、角部以外１ｂの第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間隔よりも狭くしている。
　これにより、角部１ａにおいて、第１バンク３４Ｃを越えた有機樹脂は角部以外１ｂの第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間に逃げて行き易くなる。したがって、角部１ａにおいて、有機樹脂が第２バンク３５Ａをさらに乗り越えるのを防止することができる。
　ここで、図８の（ａ）に示すように、本実施の形態の第１バンク３４Ｃの外側壁面３４ａの角部緩斜面３４ａ３の傾斜角度α３は例えば１０～２０度である。この角部緩斜面３４ａ３を形成するためのフォトマスクのスペース及びラインの各幅は、図８の（ｂ）に示すように、第１バンク３４Ｃの頂上から外側壁面３４ａの裾に向かって、例えば、０．８、１．４、１．１、１．１、１．４、０．８μｍとなっている。
　また、図９の（ａ）に示すように、第１バンク３４Ｃの外側壁面３４ａの角部以外緩斜面３４ａ４の傾斜角度α４は例えば２０～３０度である。この角部以外緩斜面３４ａ４を形成するためのフォトマスクのスペース及びラインの各幅は、図９の（ｂ）に示すように、第１バンク３４Ｃの頂上から外側壁面３４ａの裾に向かって、例えば、０．８、１．４、１．１、１．１μｍとなっている。
　この結果、第１バンク３４Ｃの外側壁面３４ａの角部緩斜面３４ａ３の傾斜角度α３は、第１バンク３４Ｃの外側壁面３４ａの角部以外緩斜面３４ａ４の傾斜角度α４よりも小さい。したがって、封止層３０が角部１ａにおいて剥がれるのを防止することができる。
　尚、第１バンク３４Ｃの内側壁面３４ｂの傾斜角度βは、実施の形態１・２と同様であり、５０度よりも大きいものとなっている。
　尚、本実施の形態では、角部１ａにおける第１バンク３４Ｃと第２バンク３５Ａとの間隔よりも狭くする方法として、第１バンク３４Ｃを外側に突出させている。しかし、本発明の一態様においては、必ずしもこれに限らず、例えば、第２バンク３５Ａを内側に突出させる方法であってもよい。
　〔実施の形態４〕
　本発明のさらに施の形態について図１０～図１２に基づいて説明すれば、以下のとおりである。尚、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態１～３と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態１～３の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
　本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１は、前記実施の形態１における有機ＥＬ表示装置１の構成に加えて、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔は、角部以外１ｂの第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔よりも広くなっている点が異なっている。本実施の形態でも、封止層３０である有機封止膜３２の有機樹脂が第１バンク３４Ｄを越えた場合に、有機樹脂がさらに第２バンク３５Ｂを越えないようにする構造を説明する。
　本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１の構成について、図１０～図１２の（ａ）（ｂ）に基づいて説明する。図１０は、本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１の角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔を広くした構成を示す平面図である。図１１の（ａ）は、有機ＥＬ表示装置１の角部１ａにおける第１バンク３４Ｄ及び第２バンク３５Ｂの構成を示す断面図である。図１１の（ｂ）は、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄの外側壁面３４ａを形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。図１２の（ａ）は、角部以外１ｂにおける第１バンク３４Ｄ及び第２バンク３５Ｂの構成を示す断面図である。図１２の（ｂ）は、角部以外１ｂにおける第１バンク３４Ｄの外側壁面３４ａを形成するためのフォトマスクの構成を示す平面図である。
　本実施の形態における有機ＥＬ表示装置１では、図１０に示すように、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔は、角部以外１ｂにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔よりも広くなっている。
　すなわち、有機樹脂を塗布して封止層３０を形成する工程において、有機樹脂が第１バンク３４Ｄを越える場合がある。その場合のために、本実施の形態においては、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔を、角部以外１ｂ以外の第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔よりも広くしている。例えば、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔は１２０μｍ程度であり、角部以外１ｂの第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔は６０μｍ程度である。
　これにより、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔を有機樹脂の液溜まりとすることができる。したがって、角部１ａにおいて、有機樹脂が第２バンク３５Ｂを乗り越えるのを防止することができる。
　ここで、特に、本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、角部１ａにおける第２バンク３５Ｂを外側に突出させることにより、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔を、角部以外１ｂの第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔よりも広くしている。
　すなわち、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔を広くする場合に、例えば、第１バンク３４Ｄを内側に突出させる方法が考えられる。しかし、その方法では、発光素子層２０の領域面積を減少させる可能性がある。
　これに対して、本実施の形態においては、角部１ａにおける第２バンク３５Ｂを外側に突出させることにより、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔が、角部以外１ｂの第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔よりも広くしている。
　これにより、発光素子層２０の領域面積を減少させることなく、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄと第２バンク３５Ｂとの間隔を広くすることができる。尚、本発明の一態様においては、必ずしもこれに限らず、第１バンク３４Ｄを内側に突出させる方法でもよい。
　ここで、図１１の（ａ）に示すように、本実施の形態の第１バンク３４Ｄの外側壁面３４ａの角部緩斜面３４ａ５の傾斜角度α５は例えば１０～２０度である。この角部緩斜面３４ａ５を形成するためのフォトマスクのスペース及びラインの各幅は、図１１の（ｂ）に示すように、第１バンク３４Ｄの頂上から外側壁面３４ａの裾に向かって、例えば、０．８、１．４、１．１、１．１、１．４、０．８μｍとなっている。
　また、図１２の（ａ）に示すように、第１バンク３４Ｄの外側壁面３４ａの角部以外緩斜面３４ａ６の傾斜角度α６は例えば２０～３０度である。この角部以外緩斜面３４ａ６を形成するためのフォトマスクのスペース及びラインの各幅は、図１２の（ｂ）に示すように、第１バンク３４Ｄの頂上から外側壁面３４ａの裾に向かって、例えば、０．８、１．４、１．１、１．１μｍとなっている。
　この結果、角部１ａにおける第１バンク３４Ｄの外側壁面３４ａの角部緩斜面３４ａ５の傾斜角度α５は、角部以外１ｂにおける第１バンク３４Ｄの外側壁面３４ａの角部以外緩斜面３４ａ６の傾斜角度α６よりも小さい。したがって、封止層３０が角部１ａにおいて剥がれるのを防止することができる。
　尚、第１バンク３４Ｄの内側壁面３４ｂの傾斜角度βは、実施の形態１～３と同様であり、５０度よりも大きいものとなっている。
　本実施の形態では、表示装置としての有機ＥＬ表示装置１を例示として説明した。しかし、本発明の一態様における表示装置は、表示素子を備えた表示パネルであれば、特に限定されるものではない。ここで、前記表示素子は、電流によって輝度や透過率が制御される表示素子と、電圧によって輝度や透過率が制御される表示素子とがある。電流制御の表示素子としては、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode：有機発光ダイオード）を備えた有機ＥＬ（Electro Luminescence：エレクトロルミネッセンス）表示装置若しくは無機発光ダイオードを備えた無機ＥＬ表示装置等のＥＬ表示装置、又はＱＬＥＤ（Quantum dot Light Emitting Diode：量子ドット発光ダイオード）を備えたＱＬＥＤ表示装置等がある。また、電圧制御の表示素子としては、液晶表示素子等がある。
　〔まとめ〕
　本発明の態様１における表示装置（有機ＥＬ表示装置１）は、発光層（発光素子層２０）を封止する封止層３０の端部を第１隔壁（第１バンク３４Ａ～３４Ｄ）と該第１隔壁（第１バンク３４Ａ～３４Ｄ）よりも外側に間隔を有して形成された第２隔壁（第２バンク３５Ａ）とによって二重に囲う表示装置において、前記第１隔壁（第１バンク３４Ａ～３４Ｄ）における前記第２隔壁（第２バンク３５Ａ）側の外側壁面３４ａが、前記第１隔壁（第１バンク３４Ａ）における前記第２隔壁（第２バンク３５Ａ）側とは反対側の内側壁面３４ｂよりも傾斜角度が小さい緩斜面に形成されていることを特徴としている。
　前記構成によれば、表示装置は、発光層を封止する封止層の端部を第１隔壁と該第１隔壁よりも外側に間隔を有して形成された第２隔壁とによって二重に囲っている。ここで、封止層は一般に無機封止膜、有機封止膜及び無機封止膜の３層で構成され、有機封止膜の有機樹脂は第１隔壁にて堰き止められることが望ましい。有機封止膜が第１隔壁にて堰き止められた場合、無機封止膜が第１隔壁と第２隔壁との間に成膜される。しかし、このような表示装置においては、第１隔壁及び第２隔壁を平坦化膜と同一工程で形成すると、第１隔壁及び第２隔壁の壁面が急傾斜となるため、封止層である無機封止膜が剥がれ易い。特に、第１隔壁と第２隔壁との間隔は狭く、かつ、一般に、外側に形成される第２隔壁に比べて内側に形成される第１隔壁は高さが低い。このため、第１隔壁の第２隔壁側の壁面の付着力が小さいので、封止層である無機封止膜が剥がれ易い。
　そこで、本発明の一態様においては、第１隔壁における第２隔壁側の外側壁面が、前記第１隔壁における前記第２隔壁側とは反対側の内側壁面よりも傾斜角度が小さい緩斜面に形成されている。これにより、第１隔壁における第２隔壁側の外側壁面の面積が増加するので、封止層である無機封止膜の付着領域が増加する。この結果、第１隔壁における第２隔壁側の外側壁面の付着面積が増大し、付着力が増加する。
　したがって、発光層を封止する封止層の端部に形成された第１隔壁と第２隔壁との間の封止層の剥がれを防止し得る表示装置を提供することができる。
　前述したように、封止層である有機封止膜の有機樹脂は第１隔壁にて堰き止められることが望ましいが、場合によっては、有機樹脂が第１隔壁を越える場合がある。この場合に、有機樹脂がさらに第２隔壁を越えないようにする必要がある。以下の各態様では、有機樹脂がさらに第２隔壁を越えないようにする構成を備えている。
　本発明の態様２における表示装置（有機ＥＬ表示装置１）では、前記第２隔壁（第２バンク３５Ａ）における前記第１隔壁（第１バンク３４Ａ～３４Ｄ）側の内側壁面（第２バンク内側壁面３５ａ）は、前記第１隔壁（第１バンク３４Ａ～３４Ｄ）の前記外側壁面（外側壁面３４ａ）よりも傾斜角が大きいとすることができる。
　これにより、第２隔壁の内側壁面の傾斜が急になるので、封止層を形成する工程において、第１の堰である第１隔壁を乗り越えた有機樹脂がさらに第２の堰である第２隔壁を乗り越えるのを防止することができる。
　本発明の態様３における表示装置（有機ＥＬ表示装置１）では、前記第２隔壁（第２バンク３５Ａ）は、前記第１隔壁（第１バンク３４Ａ～３４Ｄ）よりも高いことが好ましい。
　これにより、第２隔壁の高さが高いので、封止層を形成する工程において、第１の堰である第１隔壁を乗り越えた有機樹脂がさらに第２の堰である第２隔壁を乗り越えるのを防止することができる。
　本発明の態様４おける表示装置（有機ＥＬ表示装置１）では、前記第１隔壁（第１バンク３４Ｂ）の外側壁面は、矩形表示領域の角部１ａにおける角部緩斜面３４ａ１の方が、矩形表示領域の角部以外１ｂにおける角部以外緩斜面３４ａ２よりも、傾斜角度が大きいとすることができる。
　有機樹脂を塗布して封止部を形成する工程において、有機樹脂が第１隔壁を越える場合がある。この場合のために、本発明の一態様においては、矩形表示領域の角部においては、矩形表示領域の角部における第１隔壁の角部緩斜面を角部以外緩斜面よりも急斜面にしておく。
　これにより、封止層を形成する工程においては、矩形表示領域の角部において、第１隔壁を越えた有機樹脂は矩形表示領域の角部以外の第１隔壁と第２隔壁との間に逃げて行き易くなる。したがって、矩形表示領域の角部において、有機樹脂が第２隔壁を乗り越えるのを防止することができる。
　本発明の態様５における表示装置（有機ＥＬ表示装置１）では、矩形表示領域の角部１ａにおける前記第１隔壁（第１バンク３４Ｃ）と前記第２隔壁（第２バンク３５Ａ）との間隔は、該矩形表示領域の角部以外１ｂの前記第１隔壁（第１バンク３４Ｃ）と前記第２隔壁（第２バンク３５Ａ）との間隔よりも狭くなっているとすることができる。尚、第１隔壁と前記第２隔壁との間隔よりも狭くする方法は、第１隔壁を外側に突出させる方法又は第２隔壁を内側に突出させる方法のいずれでもよい。
　有機樹脂を塗布して封止部を形成する工程において、有機樹脂が第１隔壁を越える場合がある。この場合のために、本発明の一態様においては、矩形表示領域の角部における前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔は、該矩形表示領域の角部以外の前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔よりも狭くなっている。
　これにより、矩形表示領域の角部において、第１隔壁を越えた有機樹脂は矩形表示領域の角部以外の第１隔壁と第２隔壁との間に逃げて行き易くなる。したがって、矩形表示領域の角部において、有機樹脂が第２隔壁を乗り越えるのを防止することができる。
　本発明の態様６における表示装置（有機ＥＬ表示装置１）では、矩形表示領域の角部１ａにおける前記第１隔壁（第１バンク３４Ｄ）と前記第２隔壁（第２バンク３５Ｂ）との間隔は、該矩形表示領域の角部以外１ｂの前記第１隔壁（第１バンク３４Ｄ）と前記第２隔壁（第２バンク３５Ｂ）との間隔よりも広くなっているとすることができる。
　有機樹脂を塗布して封止部を形成する工程において、有機樹脂が第１隔壁を越える場合がある。この場合のために、本発明の一態様においては、矩形表示領域の角部における前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔は、該矩形表示領域の角部以外の前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔よりも広くなっている。
　これにより、矩形表示領域の角部における第１隔壁と第２隔壁との間隔を有機樹脂の液溜まりとすることができる。したがって、矩形表示領域の角部において、有機樹脂が第２隔壁を乗り越えるのを防止することができる。
　本発明の態様７における表示装置（有機ＥＬ表示装置１）では、前記矩形表示領域の角部１ａにおける前記第２隔壁（第２バンク３５Ｂ）を外側に突出させることにより、前記矩形表示領域の角部１ａにおける前記第１隔壁（第１バンク３４Ｄ）と前記第２隔壁（第２バンク３５Ｂ）との間隔が、該矩形表示領域の角部以外１ｂの前記第１隔壁（第１バンク３４Ｄ）と前記第２隔壁（第２バンク３５Ｂ）との間隔よりも広くなっているとすることができる。
　すなわち、角部における第１隔壁と第２隔壁との間隔を広くする場合に、例えば、第１隔壁を内側に突出させる方法が考えられる。しかし、その方法では、発光層の領域面積を減少させる可能性がある。
　これに対して、本発明の一態様においては、矩形表示領域の角部における第２隔壁を外側に突出させることにより、矩形表示領域の角部における第１隔壁と第２隔壁との間隔が、矩形表示領域の角部以外の第１隔壁と第２隔壁との間隔よりも広くなっている。
　これにより、発光層の領域面積を減少させることなく、矩形表示領域の角部における第１隔壁と第２隔壁との間隔を広くすることができる。
　尚、本発明は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
　また、本発明の一態様における表示装置は、表示素子を備えた表示パネルであれば、特に限定されるものではない。ここで、前記表示素子は、電流によって輝度や透過率が制御される表示素子と、電圧によって輝度や透過率が制御される表示素子とがある。電流制御の表示素子としては、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode：有機発光ダイオード）を備えた有機ＥＬ（Electro Luminescence：エレクトロルミネッセンス）表示装置若しくは無機発光ダイオードを備えた無機ＥＬ表示装置等のＥＬ表示装置、又はＱＬＥＤ（Quantum dot Light Emitting Diode：量子ドット発光ダイオード）を備えたＱＬＥＤ表示装置等がある。また、電圧制御の表示素子としては、液晶表示素子等がある。
　１　　　　　　有機ＥＬ表示装置（表示装置）
　１ａ　　　　　角部
　１ｂ　　　　　角部以外
　２　　　　　　基材
　３　　　　　　樹脂層
　４　　　　　　バリア層
　５　　　　　　接着層
　６　　　　　　機能フィルム
１０　　　　　　ＴＦＴ層
１５　　　　　　平坦化膜
２０　　　　　　発光素子層（発光層）
３０　　　　　　封止層
３１・３３　　　無機封止膜
３２　　　　　　有機封止膜
３４Ａ～３４Ｄ　第１バンク（第１隔壁）
３４ａ　　　　　外側壁面
３４ａ１　　　　角部緩斜面
３４ａ２　　　　角部以外緩斜面
３４ａ３　　　　角部緩斜面
３４ａ４　　　　角部以外緩斜面
３４ａ５　　　　角部緩斜面
３４ａ６　　　　角部以外緩斜面
３４ｂ　　　　　内側壁面
３５Ａ・３５Ｂ　第２バンク（第２隔壁）
３５ａ　　　　　第２バンク内側壁面
α～γ　　　　　傾斜角度

Claims (7)

  1. 　発光層を封止する封止層の端部を第１隔壁と該第１隔壁よりも外側に間隔を有して形成された第２隔壁とによって二重に囲う表示装置において、
    　前記第１隔壁における前記第２隔壁側の外側壁面が、前記第１隔壁における前記第２隔壁側とは反対側の内側壁面よりも傾斜角度が小さい緩斜面に形成されていることを特徴とする表示装置。
  2. 　前記第２隔壁における前記第１隔壁側の内側壁面は、前記第１隔壁の前記外側壁面よりも傾斜角が大きいことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
  3. 　前記第２隔壁は、前記第１隔壁よりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。
  4. 　前記第１隔壁の外側壁面は、矩形表示領域の角部における角部緩斜面の方が、矩形表示領域の角部以外における角部以外緩斜面よりも、傾斜角度が大きいことを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の表示装置。
  5. 　矩形表示領域の角部における前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔は、該矩形表示領域の角部以外の前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔よりも狭くなっていることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の表示装置。
  6. 　矩形表示領域の角部における前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔は、該矩形表示領域の角部以外の前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔よりも広くなっていることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の表示装置。
  7. 　前記矩形表示領域の角部における前記第２隔壁を外側に突出させることにより、前記矩形表示領域の角部における前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔が、該矩形表示領域の角部以外の前記第１隔壁と前記第２隔壁との間隔よりも広くなっていることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
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