CN111527793B - 显示设备 - Google Patents

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Abstract

一种显示设备，其具备：显示部(DA)；第1堤(FB)，设置在比所述显示部更外侧；第2堤(SB)，设置在比所述第1堤更外侧；多个周边配线(TW1至TW3)，形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交；各周边配线包含多个弯曲区域(K1、K2)，所述多个弯曲区域在俯视下设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。

Description

显示设备
技术领域
本发明涉及一种显示设备。
背景技术
在专利文献1中公开了一种在包含发光元件的基板上，以喷墨法涂布密封材料的技术。
现有技术文件
专利文献
专利文献1：日本国公开专利公报「特开2017-174607号公报(2017年9月28日公开)」
发明内容
发明所要解决的技术问题
在使用喷墨法等的涂布法来将密封膜形成到包围显示部的边框区域的规定位置的情况下，液滴沿着由边框区域的周边配线引起的凹凸流向外侧，存在超过规定位置的风险。
解决问题的手段
本发明的一方面所涉及的显示设备，包含：显示部，其包含多个发光元件；第1堤，其设置在比所述显示部更外侧；第2堤，其设置在比所述第1堤更外侧；多个周边配线，其形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，各周边配线包含多个弯曲区域，在俯视观察时，所述多个弯曲区域设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。
发明效果
根据本发明的一方面，降低形成在周边配线的上层的密封膜超过第2堤的风险。
附图说明
图1是表示显示设备的制造方法的一个例子的流程图。
图2是表示显示设备的显示部的构成例的剖视图。
图3是表示显示设备的构成例的平面图。
图4的(a)是表示在第一实施方式中的区域XA的构成例的平面图，
(b)是(a)的b-b剖视图，(c)是表示第一实施方式的效果的剖视图。
图5是表示第一实施方式的变形例，(a)是平面图，(b)是(a)的b-b剖视图。
图6是表示第一实施方式的进一步的变形例，(a)是平面图，(b)是
(a)的b-b剖视图。
图7是表示第一实施方式的进一步的变形例，(a)是表示显示设备的构成例的平面图，(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面
图，(c)是(b)的c-c剖视图。
图8的(a)是表示在第二实施方式中的区域XA的构成例的平面图，
(b)是(a)的b-b剖视图，(c)是表示第二实施方式的效果的剖视图。
图9是表示第二实施方式的进一步的变形例，(a)是表示显示设备的构成例的平面图，(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面
图，(c)是(b)的c-c剖视图。
图10的(a)是表示在第三实施方式中的区域XA的构成例的平面图，
(b)是(a)的b-b剖视图，(c)是(a)的c-c剖视图。
图11的(a)是表示参考方式的平面图，(b)是(a)的b-b剖视图，(c)
是(a)的c-c剖视图。
图12是表示第三实施方式的变形例，(a)是平面图，(b)是(a)的b-b
剖视图。
图13是表示第三实施方式的进一步的变形例，(a)是平面图，(b)是
(a)的b-b剖视图。
图14是表示第三实施方式的进一步的变形例，(a)是表示显示设备的构成例的平面图，(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面图，(c)是(b)的c-c剖视图。
具体实施方式
以下，「同层」指在同一个工序(成膜工序)中形成，「下层」指在比较对象的层之前的工序中形成，「上层」指在比较对象的层之后的工序中形成。
图1是表示显示设备的制造方法的一个例子的流程图。图2是表示显示设备的显示部的剖视图。图3是表示显示设备的构成的平面图。
在制造柔性显示设备的情况下，如图1～图3所示，首先，在透光性的支撑基板(例如为母玻璃基板)上形成树脂层12(步骤S1)。接下来，形成势垒层3(步骤S2)。接下来，形成TFT层4(步骤S3)。接下来，形成顶部发射型的发光元件层(例如为OLED元件层)5(步骤S4)。接下来，形成密封层6(步骤S5)。接下来，在密封层6上贴附上表面膜(步骤S6)。
接下来，隔着支撑基板将激光向树脂层12的下表面照射，使支撑基板以及树脂层12之间的结合力降低，将支撑基板从树脂层12剥离(步骤S7)。接下来，将下表面膜10贴附在树脂层12的下表面(步骤S8)。接下来，分割包含下表面膜10、树脂层12、势垒层3、TFT层4、发光元件层5以及密封层6的层叠体，而获得多个单片(步骤S9)。接下来，将功能膜39贴附在已获得的单片上(步骤S10)。接下来，在设置在比显示部DA(参照图3)更外侧的边框区域NA的端子部44中安装电子电路基板(例如为IC芯片)50(步骤S11)。此外，后述的显示设备制造装置进行所述各步骤。
作为树脂层12的材料，例如可以列举聚酰亚胺等，作为下表面膜10的材料，可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。
势垒层3是防止水、氧等的异物到达TFT层4、发光元件层5的层，例如，能够由通过CVD法来形成的氧化硅膜、氮化硅膜、或氧氮化硅膜、或这些的层叠膜构成。
TFT层4包含半导体膜15、比半导体膜15更上层的无机绝缘膜16(栅极绝缘膜)、比无机绝缘膜16更上层的栅极电极GE、比栅极电极GE更上层的无机绝缘膜18、比无机绝缘膜18更上层的电容配线CE、比电容配线CE更上层的无机绝缘膜20、比无机绝缘膜20更上层的源极配线SH以及比源极配线SH更上层的平坦化膜21(层间绝缘膜)。
如图3所示，在包围显示部DA的边框区域NA中配置有驱动电路DRa、DRb以及端子部44，端子部44以及驱动电路DRa经由包含在区域XA的周边配线连接(在后面详述)，端子部44以及驱动电路DRb经由包含在区域XB的周边配线连接。驱动电路DRa、DRb可以是嵌入于TFT层4内的单片电路。
例如由低温多晶硅(LTPS)或氧化物半导体构成半导体膜15，以包含半导体膜15、无机绝缘膜16、以及栅极电极GE的方式构成薄膜晶体管Tr(TFT)。在图2中，示出顶栅结构的薄膜晶体管Tr，但也可以是底栅结构。
栅极电极GE、电容电极CE、源极配线SH、以及周边配线TW例如由包含铝(Al)、钨(W)、钼(Mo)、钽(Ta)、铬(Cr)、钛(Ti)、铜(Cu)中的至少一个的金属的单层膜或层叠膜构成。
无机绝缘膜16、18、20，例如可以由通过CVD法来形成的氧化硅(SiOx)膜或氮化硅(SiNx)膜或这些的层叠膜构成。
平坦化膜21可以由例如聚酰亚胺、丙烯酸等的可以涂布的感光性有机材料构成。如图3所示，在边框区域NA中设置有包围显示部DA以及其两侧的驱动电路DRa、DRb的第1堤FB和包围第1堤FB的第2堤SB。第1堤FB以及第2堤SB例如形成在与平坦化膜21同一层(以相同工序)。
发光元件层5(例如为有机发光二极层)包含比平坦化膜21更上层的阳极22、覆盖阳极22的边缘的绝缘性的阳极覆盖膜23、比阳极22更上层的EL(电致发光)层24以及比EL层24更上层的阴极25，在每个子像素中设有包含岛状的阳极22、EL层24、以及阴极25的发光元件ED(例如为OLED：有机发光二极管)、和驱动该发光元件ED的子像素电路。阳极覆盖膜23例如可以由聚酰亚胺、丙烯酸等的可以涂布的感光性有机材料构成。
EL层24例如通过从下层侧起依次层叠空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子传输层、电子注入层而构成。针对每个子像素，发光层通过蒸镀法或喷墨法来形成为岛状。其他层形成为岛状或整面状(共通层)。另外，也可以是不形成空穴注入层、空穴输送层、电子传输层以及电子注入层中的一层或多层的构成。
阳极22例如由ITO(Indium Tin Oxide)和Ag(银)或包含Ag的合金的层叠构成，而且具有光反射性。阴极25能够以MgAg合金(超薄膜)、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indiumzinc Oxide)等的透光性的导电材料构成。
在发光元件层5为OLED层的情况下，通过阳极22以及阴极25之间的驱动电流，孔穴和电子在EL层24内复合，并由此所产生的激子降至基态，由此放出光。阴极25是透光性，阳极22是光反射性，从EL层24放出的光朝向上方，成为顶部发射。
发光元件层5不限于构成OLED元件的情况，也可以构成无机发光二极管或量子点发光二极管。
密封膜6是透光性，包含覆盖阴极25的无机密封膜26、比无机密封膜26更上层的有机密封膜27以及比有机密封膜27更上层的无机密封膜28。覆盖发光元件层5的密封层6防止水、氧等的异物渗透到发光元件层5。
无机密封膜26以及无机密封膜28分别能够以例如由CVD法形成的氧化硅膜、氮化硅膜、或氧氮化硅膜、或这些的层叠膜构成。有机密封膜27是有平坦化效果的透光性有机膜，可以由丙烯酸等能够涂布的有机材料构成。
下表面膜10是通过在剥离支撑基板后贴附在树脂层12的下表面以实现柔软性优异的显示设备，作为其材料，可以列举PET等。功能膜39例如包含光学补偿功能、触摸传感器功能以及保护功能等。
以上，对制造柔性显示设备的情况进行说明，但在制造非柔性显示设备的情况下，无需基板的更换等，因此，例如从图1的步骤S5向步骤S9移动。
〔第一实施方式〕
图4(a)是表示边框区域的一部分即区域XA的构成例的平面图，图4(b)是图4(a)的b-b剖视图，图4(c)是表示第一实施方式的效果的剖视图。在图4中，省略功能膜39的记载。
如图3、图4所示，在显示设备2的区域XA中包含：设置在比显示部DA更外侧的第1堤FB；设置在比第1堤FB更外侧的第2堤SB；形成在比第1堤FB以及第2堤SB更下层且与第1堤FB以及第2堤SB相交的多个周边配线TW1、TW2；覆盖第1堤FB、第2堤SB以及周边配线TW1、TW2的无机密封膜26；比无机密封膜26更上层的有机密封膜27；以及覆盖有机密封膜27的无机密封膜28。
第1堤FB形成在与平坦化膜21同一层，第2堤SB的下部21b形成在与平坦化膜21同一层，上部23b形成在与阳极覆盖膜23同一层，外侧的第2堤SB形成为比第1堤FB更厚(高)。此外，周边配线TW1、TW2形成在源极层(与图2的源极配线SH同一层)。
第1堤FB是用于阻止在以喷墨法涂布有机密封膜27时的液滴的前级屏障，第2堤SB是用于阻止越过了第1堤FB的液滴的后级屏障。如图3所示，第1堤FB以及第2堤SB的整体形状是包围显示部DA的框状，并且包含有曲率的角部，在俯视时，多个周边配线TW1、TW2与第1堤FB以及第2堤SB的各自的角部相交。在图4中，线性的记载了包含曲率的第1堤FB以及第2堤SB的角部。
周边配线TW1包含在俯视时设置在第1堤FB以及第2堤SB之间的多个弯曲区域k1、k2，在每一个弯曲区域k1、k2中弯曲90度。周边配线TW2包含在俯视时设置在第1堤FB以及第2堤SB之间的多个弯曲区域K1、K2，在每一个弯曲区域K1、K2中弯曲90度(将弯曲区域K1、K2之间的部分作为弯曲部KS)。周边配线TW1、TW2具有往同一方向(在图4(a)中往左向)弯曲的曲柄形状，并且相邻。
在第一实施方式中，如图4(c)所示，在以喷墨法涂布有机密封膜27时，即使液滴27L越过第1堤FB，并流过周边配线TW1、TW2之间，周边配线TW2的弯曲部KS成为屏障。因此，降低液滴27L超过第2堤SB的风险。框状的第1堤FB以及第2堤SB有角部的高度(比直线部的高度)变低的倾向，因此在与角部相交的周边配线TW1、TW2设置作为屏障而发挥功能的弯曲部的意义大。
图5是表示第一实施方式的变形例，图5(a)是表示区域XA的构成例的平面图，图5(b)是图5(a)的b-b剖视图。如图5(b)所示，也可以将周边配线TW1、TW2形成在栅极层(与图2的栅极电极GE同一层)。
图6是表示第一实施方式的又一变形例，图6(a)是表示区域XA的构成例的平面图，图6(b)是图6(a)的b-b剖视图。如图6(b)所示，关于第1堤FB以及第2堤SB中的每一个，也可以将下部21f形成在与平坦化膜21(参照图2)同一层，并将上部23f形成在与阳极覆盖膜23(参照图2)同一层。
在所述各实施方式中，对各周边配线与第1堤FB以及第2堤SB的角部相交的情况进行说明，但不在此限。图7是表示第一实施方式的又一变形例，图7(a)是表示显示设备的构成例的平面图，图7(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面图，图7(c)是图7(b)的c-c剖视图。如图7所示，在周边配线TW3与第1堤FB以及第2堤SB的角部以外的直线部分相交的情况下，可以构成为周边配线TW3在俯视时包含位于第1堤FB以及第2堤SB之间的多个弯曲区域K3、K4(将弯曲区域K3、K4之间的部分设为弯曲部KS)。
〔第二实施方式〕
图8(a)是表示边框区域的一部分即区域XA的构成例的平面图，图8(b)是图8(a)的b-b剖视图。图8(c)是表示第二实施方式的效果的剖视图。在图8中，省略功能膜39的记载。
如图3、图8所示，在显示设备2的区域XA中，包含：设置在比显示部DA更外侧的第1堤FB；设置在比第1堤FB更外侧的第2堤SB；形成在比第1堤FB以及第2堤SB更下层且在俯视时与第1堤FB以及第2堤SB相交的多个周边配线TW1、TW2；覆盖第1堤FB、第2堤SB以及周边配线TW1、TW2的无机密封膜26；比无机密封膜26更上层的有机密封膜27；覆盖有机密封膜27的无机密封膜28。第1堤FB以及第2堤SB形成在与平坦化膜21同一层，周边配线TW1、TW2形成在源极层。
周边配线TW1包含在俯视时设置在第1堤FB以及第2堤SB之间的杆部ms以及从该杆部ms突出的枝部js。周边配线TW2包含在俯视时设置在第1堤FB以及第2堤SB之间的杆部MS以及从该杆部MS突出的枝部JS。在此，相邻的两个周边配线TW1、TW2的一方TW1的枝部js和另一方TW2的枝部JS以不会短路的方式互相交替地配置。
在第二实施方式中，例如周边配线TW1在俯视时的第1堤FB以及第2堤SB之间，也包含成为多个枝部js的根部(杆部ms和多个枝部js的交点)的多个弯曲区域k1、k2。
在第二实施方式中，如图8(c)所示，在以喷墨法涂布有机密封膜27时，即使液滴27L越过了第1堤FB流过周边配线TW1、TW2之间，多个枝部js、JS成为屏障。因此，降低液滴27L超过第2堤SB的风险。框状的第1堤FB以及第2堤SB有角部的高度(比直线部的高度)变低的倾向，因此在与角部相交的周边配线TW1、TW2设置作为屏障发挥功能的枝部的意义大。另外，通过设置枝部可以使周边配线低阻抗化。
在第二实施方式中，也可以将周边配线TW1、TW2形成在栅极层(与图2的栅极电极GE同一层)。另外，关于第1堤FB以及第2堤SB的每一个，也可以将下部形成在与平坦化膜21(参照图2)同一层，将上部形成在与阳极覆盖膜23(参照图2)同一层。
图9是表示第二实施方式的又一变形例，图9(a)是表示显示设备的构成例的平面图，图9(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面图，图9(c)是图9(b)的c-c剖视图。如图9所示，在周边配线TW3与第1堤FB以及第2堤SB的角部以外的直线部分相交的情况下，周边配线TW3可以构成为包含在俯视时设置在第1堤FB以及第2堤SB之间的杆部ms以及从该杆部ms突出的枝部js。
〔第三实施方式〕
图10(a)是表示边框区域的一部分即区域XA的构成例的平面图，图10(b)是图10(a)的b-b剖视图，图10(c)是图10(a)的c-c剖视图。在图10中，省略功能膜39的记载。图11(a)是表示参考方式的平面图，图11(b)是图11(a)的b-b剖视图，图11(c)是图11(a)的c-c剖视图。
如图3、图10所示，在显示设备2的区域XA中，包含：设置在比显示部DA更外侧的第1堤FB；设置在比第1堤FB更外侧的第2堤SB；形成在比第1堤FB以及第2堤SB更下层且在俯视下与第1堤FB以及第2堤SB相交的多个周边配线TW1、TW2；覆盖第1堤FB、第2堤SB以及周边配线TW1、TW2的无机密封膜26；比无机密封膜26更上层的有机密封膜27；以及覆盖有机密封膜27的无机密封膜28。
第1堤FB以及第2堤SB形成在与平坦化膜21同一层，周边配线TW1、TW2形成在源极层。
在第三实施方式中，在第1堤FB以及第2堤SB之间，厚度比第1堤FB更薄的堤间绝缘膜MH设置在与平坦化膜21同一层，堤间绝缘膜MH覆盖周边配线TW1、TW2。堤间绝缘膜MH是厚度比第2堤SB薄(与平坦化膜21相同材料的)的树脂膜，从第1堤FB至第2堤SB为止没有间隙地形成。
在第三实施方式中，由于设置有堤间绝缘膜MH，因此在无机密封膜26的表面几乎未发生起因于周边配线TW1、TW2的凹凸。因此，在以喷墨法涂布有机密封膜27时，即使液滴越过第1堤FB，也降低超越第2堤SB的风险。比外，在未设置堤间绝缘膜MH的图11的参考方式中，存在有越过第1堤FB的液滴流过起因于周边配线TW1、TW2的凹部QB，并超越第2堤SB的风险。框状的第1堤FB以及第2堤SB有角部的高度(比直线部的高度)变低的倾向，因此在第1堤FB的角部以及第2堤SB的角部之间，设置堤间绝缘膜MH,填满起因于周边配线TW1、TW2的凹部的意义大。
图12是表示第三实施方式的变形例，图12(a)是表示区域XA的构成例的平面图，图12(b)是图12(a)的b-b剖视图。如图12(b)所示，也可以将周边配线TW1、TW2形成在栅极层(与图2的栅极电极GE同层)。
图13是表示第三实施方式的又一变形例，图13(a)是区域XA的构成例的平面图，图13(b)是图13(a)的b-b剖视图。如图13(b)所示，关于第1堤FB以及第2堤SB的每一个，也可以将下部21f形成在与平坦化膜21(参照图2)同一层，将上部23f形成在与阳极覆盖膜23(参照图2)同一层。关于堤间绝缘膜MH，可以形成在与平坦化膜21同一层(以相同的工序)，也可以形成在与阴极覆盖膜23同一层(以相同的工序)。
图14是表示第三实施方式的又一变形例，图14(a)是表示显示设备的构成例的平面图，图14(b)是表示边框区域的一部分即区域XC的构成例的平面图，图14(c)是图14(b)的c-c剖视图。如图14所示，在周边配线TW3、TW4与第1堤FB以及第2堤SB的角部以外的直线部分相交的情况下，可以构成为在第1堤FB以及第2堤SB之间，在与平坦化膜21同一层上设置厚度比第1堤FB薄的堤间绝缘膜MH，堤间绝缘膜MH覆盖周边配线TW3、TW4。
〔总结〕
本实施方式所涉及的显示设备所包含的电气光学元件(亮度和透过率通过电流控制的电气光学元件)不受特别的限制。作为本实施方式所涉及的显示设备，例如可以列举作为电气光学元件包含OLED(Organic Light Emitting Diode：有机发光二极管)的有机EL(Electro Luminescence：电致发光)显示器、作为电气光学元件包含无机发光二极管的无极EL显示器、作为电气光学元件包含QLED(Quantum dot Liht Emitting Diode：量子点发光二极管)的QLED显示器等。
〔形态1〕
一种显示设备，其具备：显示部，其包含多个发光元件；第1堤，其设置在比所述显示部更外侧；第2堤，其设置在比所述第1堤更外侧；以及多个周边配线，其形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，
各周边配线包含多个弯曲区域，所述多个弯曲区域在俯视时设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。
〔形态2〕
例如形态1所述的显示设备中，
各周边配线是在俯视时穿过所述第1堤以及所述第2堤之间的部分为曲柄形状。
〔形态3〕
例如形态1所述的显示设备中，
各周边配线包含杆部以及从所述杆部突出的枝部，所述杆部以及所述枝部的交点构成所述弯曲区域，所述杆部以及所述枝部在俯视时设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。
〔形态4〕
例如形态3所述的显示设备中，相邻的两个周边配线的一方的枝部和另一方的枝部互相交替地配置。
〔形态5〕
一种显示设备，其具备：显示部，包含多个发光元件；第1堤，其设置在比所述显示部更外侧；
第2堤，其设置在比所述第1堤更外侧；以及多个周边配线，其形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，在所述第1堤以及所述第2堤间设有厚度比所述第1堤薄的堤间绝缘膜，所述堤间绝缘膜与所述多个周边配线重叠。
〔形态6〕
例如形态5所述的显示设备中，
所述堤间绝缘膜是厚度比所述第2堤薄的树脂膜，以覆盖所述多个周边配线的方式，从所述第1堤至所述第2堤为止没有间隙地形成。
〔形态7〕
例如形态1至6中任一项所述的显示设备中，包含：第1无机密封膜，其覆盖所述第1堤以及所述第2堤；有机密封膜，其比所述第1无机密封膜更上层；以及第2无机密封膜，其覆盖所述有机密封膜。
〔形态8〕
例如形态1所述的显示设备中，
所述第1堤以及所述第2堤是框状而且包含曲率的角部，所述多个周边配线在俯视时的所述第1堤的角部以及所述第2堤的角部之间包含所述多个弯曲区域。
〔形态9〕
例如形态5所述的显示设备中，
所述第1堤以及所述第2堤是框状且包含曲率的角部，在俯视时的所述第1堤的角部以及所述第2堤的角部之间，设有与所述多个周边配线重叠的所述堤间绝缘膜。
〔形态10〕
例如形态1至9中任一项所述的显示设备中，包含：多个TFT；平坦化膜，比所述多个TFT更上层且比所述多个发光元件更下层，
所述多个周边配线形成在比所述TFT的栅极电极更上层且比所述平坦化膜更下层，或形成在与所述栅极电极同一层。
〔形态11〕
例如形态10所述的显示设备中，所述第1堤以及第2堤中的每一个的至少一部分形成在与所述平坦化膜同一层。
附图标记说明
2 显示设备
3 势垒层
4 TFT层
5 发光元件层
6 密封层
12 树脂层
16、18、20无机绝缘膜
21 平坦化膜
23 阳极覆盖膜
24 EL层
26、28 无机密封膜
27 有机密封膜
44 端子部
DA 显示部
ED 发光元件
TW1、TW2 周边配线
FB 第1堤
SB 第2堤
MS、ms 杆部
JS、js 枝部
MH 堤间绝缘膜
k1、k2、K1、K2 弯曲区域

Claims (15)

1.一种显示设备，其具备：
显示部，其包含多个发光元件；
第1堤，其俯视时包围所述显示部且与所述显示部隔开间隔设置；
第2堤，其俯视时包围所述第1堤且与所述第1堤隔开间隔设置；以及
多个周边配线，其形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，
各周边配线包含多个弯曲区域，所述多个弯曲区域在俯视时设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。
2.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
所述各周边配线是在俯视时穿过所述第1堤以及所述第2堤之间的部分为曲柄形状，
所述多个弯曲区域与所述第1堤以及所述第2堤不重叠，
所述多个周边配线具有往同一方向弯曲的曲柄形状。
3.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
所述各周边配线包含杆部以及从所述杆部突出的枝部，所述杆部以及所述枝部的交点构成所述弯曲区域，
所述杆部以及所述枝部在俯视时设置在所述第1堤以及所述第2堤之间。
4.根据权利要求3所述的显示设备，其特征在于，
相邻的两个周边配线的一方的枝部和另一方的枝部互相交替地配置。
5.根据权利要求3所述的显示设备，其特征在于，
所述第1堤以及所述第2堤是框状且包含曲率的角部，
所述多个周边配线在俯视时的所述第1堤的角部以及所述第2堤的角部之间包含所述多个弯曲区域。
6.根据权利要求3所述的显示设备，其特征在于，
所述第1堤以及所述第2堤中的每一个的至少一部分形成在与平坦化膜同一层。
7.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，包含：
第1无机密封膜，其覆盖所述第1堤以及所述第2堤；
有机密封膜，其比所述第1无机密封膜更上层；以及
第2无机密封膜，其覆盖所述有机密封膜。
8.根据权利要求1所述的显示设备，其特征在于，包含：
多个TFT；
平坦化膜，其比所述多个TFT更上层且比所述多个发光元件更下层，
所述多个周边配线形成在比所述TFT的栅极电极更上层且比所述平坦化膜更下层，或形成在与所述栅极电极同一层。
9.一种显示设备，其具备：
显示部，其包含多个发光元件；
第1堤，其俯视时包围所述显示部且与所述显示部隔开间隔设置；
第2堤，其俯视时包围所述第1堤且与所述第1堤隔开间隔设置；以及
多个周边配线，形成在比所述第1堤以及所述第2堤更下层，并且与所述第1堤以及所述第2堤相交，
在所述第1堤以及所述第2堤间设有厚度比所述第1堤薄的堤间绝缘膜，所述堤间绝缘膜与所述多个周边配线重叠。
10.根据权利要求9所述的显示设备，其特征在于，
所述堤间绝缘膜是厚度比所述第2堤薄的树脂膜，以覆盖所述多个周边配线的方式，从所述第1堤至所述第2堤为止没有间隙地形成。
11.根据权利要求9所述的显示设备，其特征在于，包含：
第1无机密封膜，其覆盖所述第1堤以及所述第2堤；
有机密封膜，其比所述第1无机密封膜更上层；以及
第2无机密封膜，其覆盖所述有机密封膜。
12.根据权利要求11所述的显示设备，其特征在于，
所述第1堤以及所述第2堤是框状且包含曲率的角部，
所述多个周边配线在俯视时的所述第1堤的角部以及所述第2堤的角部之间包含多个弯曲区域。
13.根据权利要求11所述的显示设备，其特征在于，
所述第1堤以及所述第2堤中的每一个的至少一部分形成在与平坦化膜同一层。
14.根据权利要求9所述的显示设备，其特征在于，
所述第1堤以及所述第2堤是框状且包含曲率的角部，
在俯视时的所述第1堤的角部以及所述第2堤的角部之间，设有与所述多个周边配线重叠的所述堤间绝缘膜。
15.根据权利要求9所述的显示设备，其特征在于，包含：
多个TFT；
平坦化膜，其比所述多个TFT更上层且比所述多个发光元件更下层，所述多个周边配线形成在比所述TFT的栅极电极更上层且比所述平坦化膜更下层，或形成在与所述栅极电极同一层。
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