JP2010203915A - 測定方法及び測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】繋ぎ合わせ演算を高精度に行うことが可能な測定方法を提供する。
【解決手段】本発明の測定方法は、被測定物を複数の部分領域に分割して測定し、複数の部分領域を繋ぎ合わせて被測定物の全体形状を測定する測定方法であって、複数の部分領域を測定するステップS501〜S511と、基準となる部分領域における誤差を固定するステップS102と、複数の部分領域における各誤差を算出するステップS105と、各誤差に応じた補正を行って複数の部分領域を繋ぎ合わせるステップS107とを有し、ステップS102〜S107は、基準となる部分領域を変えて繰り返し実行される(S110)。
【選択図】図1

Description

本発明は、被測定物を複数の部分領域に分割して測定し、これらの部分領域を繋ぎ合わせて被測定物の全体形状を測定する測定方法に関する。
従来から、天体望遠鏡のような巨大な被測定物やトーリックレンズのような複雑な形状をした被測定物等、一回の測定で全領域の測定を行うことが困難な被測定物が存在する。このような被測定物を測定するため、スティッチングと呼ばれる方法がある。この方法は、重なり領域を持つ複数の部分領域に分割して測定し、それらの部分領域を繋ぎ合わせる方法である。
図8は、複数の部分領域の分割例である。図8に示されるように、被測定物は、一つの被測定物を点線で表される四つの円(1)〜(4)で囲われた部分領域に分割して測定される。このように分割して被測定物を測定する場合、被測定物が巨大であっても、測定器自体は小さくてすむ。また、被測定物が複雑な形状であっても、各部分領域を近似的に平面又は球面と見なせるような小領域に限定すれば、被測定物を比較的容易に測定することができる。しかし、スティッチングの場合、繋ぎ合わせの際に発生する誤差が問題となる。
スティッチングにおける誤差の原因は大きく二つに分けられる。一つは、各部分領域の測定を行う際の被測定物の姿勢変化に相当するエラー(セッティングエラー)である。セッティングエラーは、各部分領域ごとに異なる値を持ち、低次のエラーに相当する。他の一つは、各部分領域の測定を行うときに用いられる測定器固有のエラー(システムエラー)である。システムエラーは、全ての部分領域で共通の値を有し、比較的高次のエラーに相当する。スティッチングの精度を向上させるには、この誤差要因を如何にして補正するかが重要となる。
これらのエラーを表現するには、Zernike多項式を用いると便利である。図9は、部分領域の重なり領域における繋ぎ合わせ誤差の説明図である。例えば、システムエラーが無い場合、図9(a)に示されるように、隣り合う部分領域の重なり領域は同形状である。このため、各部分領域同士の位置関係を合わせれば、重なり領域を厳密に一致させることができる。しかし、システムエラーがある場合、図9(b)に示されるように、隣り合う部分領域の重なり領域は同形状ではなくなるため、各部分領域同士の位置関係を合わせようとしても、これらの位置を厳密に一致させることはできない。その結果、繋ぎ合わせ誤差(スティッチ誤差)が生じる。
このような誤差を補正する方法として、例えば特許文献1には、二つの部分領域の重なり領域の一方の測定データに他方の測定データをフィッティングさせるように、各部分領域の測定データを座標変換する方法が開示されている。特許文献2には、高周波の形状成分のみを抽出し、重なり領域における高周波の二つの形状成分が最も一致するように繋ぎ合わせる方法が開示されている。また、特許文献3には、フリーコンペンセータ(セッティングエラーに相当)及びインターロックドコンペンセータ(システムエラーに相当)を、全体として最適化するように補正する方法が開示されている。これらの誤差補正を行うことにより、高精度なスティッチングが可能となる。
特許第3162355号公報 特開2001−066123号公報 米国特許第6956657号
しかしながら、従来技術では、基準とする部分領域を定め、それに他の部分領域をフィッティングさせるようにスティッチングを行う。すなわち、基準とした部分領域のセッティングエラーは固定し、他の部分領域のセッティングエラーは可変とすることにより、基準とした部分領域に他の部分領域を合わせる。従って、演算結果には、基準とした部分領域のセッティングエラーの影響を受けることになる。セッティングエラーは、部分領域ごとに異なり演算結果のバラつきに相当するため、測定精度に影響を及ぼすという問題があった。
そこで本発明は、繋ぎ合わせ演算を高精度に行うことが可能な測定方法を提供する。
本発明の一側面としての測定方法は、被測定物をN箇所(Nは2以上の整数)の部分領域に分割して測定し、該N箇所の部分領域を繋ぎ合わせて該被測定物の全体形状を測定する測定方法であって、前記N箇所の部分領域の1つが他のN−1箇所の部分領域の少なくとも1つと重なり領域を有するように、該N箇所の部分領域を測定する部分領域測定ステップと、前記N箇所の部分領域のうち第i番目の部分領域(iは1以上N以下の整数)の測定時の姿勢ばらつきに起因する誤差を固定する基準決定ステップと、前記第i番目の部分領域を除くN−1箇所の部分領域の前記測定時の姿勢ばらつきに起因する誤差、及び、前記N箇所の部分領域に共通な測定装置に起因する誤差を算出する誤差算出ステップと、前記誤差算出ステップで算出された各誤差に応じた補正を行い、前記N箇所の部分領域を繋ぎ合わせるステップとを有し、前記基準決定ステップ、前記測定ステップ、前記誤差算出ステップ及び前記繋ぎ合わせステップは、前記iを変えてM回(Mは2以上N以下の整数)繰り返し実行される。
本発明の他の目的及び特徴は、以下の実施例において説明される。
本発明によれば、繋ぎ合わせ演算を高精度に行うことが可能な測定方法を提供することができる。
実施例1の測定方法における繋ぎ合わせ演算のフローチャートである。 実施例2の測定方法における繋ぎ合わせ演算のフローチャートである。 実施例3の測定方法における繋ぎ合わせ演算のフローチャートである。 実施例4の測定方法における繋ぎ合わせ演算のフローチャートである。 本実施例における干渉計の構成図である。 本実施例における接触式測定装置の構成図である。 本実施例の測定方法における部分領域計測のフローチャートである。 複数の部分領域の分割例である。 部分領域の重なり領域における繋ぎ合わせ誤差の説明図である。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら詳細に説明する。各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。本実施例の測定方法は、複数の部分領域を測定する部分領域測定パートと繋ぎ合わせ演算パートの2つに大きく分けられる。このため、本実施例では、部分領域測定パートと繋ぎ合わせ演算パートに分けて説明する。
部分領域測定パートに関しては、例えば干渉計により測定が行われる。図5は、本実施例における干渉計1の構成図である。干渉計1は、いわゆるフィゾー型干渉計である。干渉計1は準単色の光源Sを有する。光源Sから発せられた光は、レンズL1によりピンホールPHに集光される。ピンホールPHを透過した光は発散し、ビームスプリッタBSを透過した後、コリメータレンズCLにより平行光となる。平行光の一部は、参照球面波形成レンズTSにより反射して反射光となり、その残りは参照球面波形成レンズTSを透過して透過光となる。本実施例において、この反射光は参照光となり、また透過光は被検光となる。
参照球面波形成レンズTSで反射した参照光は、ビームスプリッタBSで反射した後、レンズL2を通って撮像素子Cへ入射する。一方、参照球面波形成レンズTSを透過した被検光は、被測定物Tに入射して反射する。被測定物Tにて反射した光は、参照球面波形成レンズTS及びコリメータレンズCLを透過する。この光は、ビームスプリッタBSで反射した後、レンズL2を通って撮像素子Cへ入射する。
参照球面波形成レンズTSで反射した参照光及び参照球面波形成レンズTSを透過して被測定物Tで反射した被検光は、可干渉性を有するため、撮像素子C上に干渉縞が形成される。形成された干渉縞を解析することにより、被測定物Tの形状を知ることができる。図5において、被測定物Tは非平面形状であるが、本実施例はこれに限定されるものではない。被測定物Tが平面形状である場合、参照球面形成レンズTSに代えて、参照平面波形成レンズTFを用い、参照波が平面波となるように構成すればよい。
また、本実施例における測定装置は干渉計等の非接触式の測定装置に限定されるものではない。例えば、接触式の測定装置を用いることもできる。図6は、本実施例における接触式測定装置の構成図である。図6に示されるように、接触式測定装置は、被測定物TをプローブPでなぞることにより被測定物Tの形状を測定する。また、本実施例の測定方法は、例えばレーザー測長器やCGH(Computer−generated Holograms)等を用いて実行することもできる。
しかしいずれの測定方法を用いた場合でも、被測定物Tが巨大又は非球面である場合、被測定物Tの一部しか測定できず、被測定物Tの全面(全体形状)を測定することはできない。そこで、被測定物Tを移動させることにより、複数の部分領域T1、T2に分けて各部分領域を測定する必要がある。図5(a)、図6(a)は部分領域T1を測定している状態を示し、図5(b)、図6(b)は部分領域T2を測定している状態を示している。また、図5及び図6において、領域T12は、2つの部分領域T1、T2の重なり領域である。重なり領域T12は、部分領域T1、T2を測定することにより複数回測定され、部分領域T1、T2を繋ぎ合わせる際ののりしろとなる。また、図5に示されるように、被測定物Tが非平面形状である場合、被測定物Tと測定装置と間の位置関係だけでなく相対的な傾きについても調整する必要がある。
次に、本実施例の測定方法における部分領域測定のフローについて説明する。図7は、部分領域測定のフローチャートである。図7に示される部分領域測定は、不図示の制御手段の指示に基づいて実行される。まず、ステップS501において、被測定物を測定器(測定装置)にセットする。次にステップS502では、部分領域の数及び分け方を決定する。ステップS503では、所定の部分領域n(nの初期値は1、最大値はステップS502で定めた分割数)を測定できるように、部分領域nと測定器との間の位置合わせを行う。次に、ステップS504では、被測定物と測定器の相対的な傾き調整が必要であるか否かが判定される。傾き調整が必要な場合にはステップS505に進み、傾き調整が不要な場合にはステップS506に進む。
ステップS505では、ステップS504で傾き調整が必要であると判定された場合、傾き調整を行う。ステップS506では、所定の部分領域nの測定を行う。次に、ステップS507では、ステップS505で傾き調整が行われたか否かを判定する。傾き調整を行った場合にはステップS508に進み、傾き調整を行っていない場合にはステップS509に進む。ステップS508では、ステップS507にて傾き調整が行われたと判定した場合にのみ、ステップS506の測定結果に対して傾き補正量の分だけ補正を行う。
ステップS509では、ステップS506又はステップS508の結果を部分領域nの形状として保存する。次にステップS510では、ステップS502で定めた部分領域の全ての測定が完了したか否かを判定する。部分領域の全ての測定が完了していない場合にはステップS511へ進み、部分領域の全ての測定が完了した場合にはステップS512へ進む。ステップS511では、測定対象となる部分領域nを次の部分領域n+1に進める。また、ステップS512では、測定した複数の部分領域の繋ぎ合わせ演算(スティッチング演算)を行う。
部分領域の繋ぎ合わせ演算では、上述の部分領域測定により得られた部分領域の繋ぎ合わせ(スティッチング)を行う。複数の部分領域を測定する際、被測定物の本来の形状に加えて、各部分領域において互いに異なるセッティングエラー及び各部分領域で共通なシステムエラーが上乗せされた測定結果が得られる。すなわち、以下の式(1)のようになる。ただし、ここでは一例として4枚スティッチの場合を示す。
ここで、Φは部分領域nの本来の形状、Σc 、は部分領域nのセッティングエラー、また、Σcはシステムエラーを表している。またΦ’は、実際に測定される形状を表している。ここではエラーをZernike多項式で表現しており、ZはZernike第i項を表す。c 及びcはそれぞれセッティングエラーとシステムエラーを表す係数である。セッティングエラーは、被測定物が平面の場合、Zernike第1項乃至第3項(ピストン及びチルト成分に相当)で表現され、被測定物が非平面の場合、Zernike第1項乃至第4項(ピストン、チルト及び球面成分)で表現される。また、システムエラーは、被測定物が平面の場合、Zernike第4項以上の高次で表現され、被測定物が非平面の場合、Zernike第5項以上の高次で表現される。
図9(a)に示されるように、のりしろとなる重なり領域の形状は、本来同一の形状であるため、その繋ぎ合わせ方は一意に決まり、誤差は発生しない。しかし実際は、式(1)のような誤差が生じているため、図9(b)に示されるように、その繋ぎ合わせ方は一意に定めることができずに繋ぎ合わせ誤差が生じる。この誤差を低減するため、セッティングエラー及びシステムエラーの補正を行う。すなわち、式(1)中のc 及びcの値を推定することにより、セッティングエラー及びシステムエラーの補正を行う。これらの値を推定するには、一般的に、最小二乗法が用いられる。すなわち、各部分領域同士の重なり領域におけるそれぞれの部分領域同士の残渣を計算し、この残渣の二乗和が最小になるような補正を行う。すなわち、以下の式(2)で表されるΔが最小値を取るようなc 及びcの値を算出する。
すなわち、式(2)のΔが最小となるc 及びcの値は、以下の式(3)を解くことにより求められる。
この結果が、セッティングエラー及びシステムエラーの推定値となる。また、システムエラー自体は、Zernike多項式で表した場合、第∞次まで含まれるが、実際の計算上は、計算負荷の関係上ある有限の項数で切る必要がある。ここでは、Zernike多項式の第36項までを用いて計算しているが、項数はこれに限定されるものではなく、例えばこれより増やしてもよい。
本実施例において、部分領域測定パートと繋ぎ合わせ演算パートは互いに独立しており、それぞれ任意の方法を組み合わせることができる。また、本実施例では最小二乗法を用いて誤差補正を行っているが、これに限定されるものではない。例えば、最小四乗法等を用いてもよい。
次に、実施例1の測定方法における繋ぎ合わせ演算について説明する。図1は、本実施例における繋ぎ合わせ演算のフローチャートである。まずステップS101において、被測定物の全ての部分領域から、基準とし得る部分領域を選択する。ここで、被測定物の全ての部分領域の数をNとし、そのうち基準とし得る部分領域の数をMとすると、2≦M≦Nの範囲でMを設定することができる。
次に、ステップS102では、ステップS101で選択したM箇所の部分領域のうちの1つである部分領域mを、基準として設定する。すなわち、部分領域mの測定時の姿勢ばらつきに起因する誤差(セッティングエラー)を固定して、以降の繋ぎ合わせ演算の処理を進める。ここで、mの初期値は1であり、1≦m≦Mの範囲で増加する。このように、ステップS102は、N箇所の部分領域のうち第i番目の部分領域(iは1以上N以下の整数)の測定時の姿勢ばらつきに起因する誤差を固定する基準決定ステップである。
次に、ステップS103では、各部分領域同士の重なり領域を抽出する。また、ステップS104では、各重なり領域での部分領域同士の差を計算する。ステップS105では、ステップS104で得られた部分領域同士の差が最小になるような補正値を、ステップS102で設定した部分領域mを基準として計算する。すなわち、部分領域mの測定時の姿勢ばらつきに起因する誤差(セッティングエラー)を固定し、それ以外の部分領域のセッティングエラーを可変にする。また、システムエラーは、全ての部分領域において可変にする。この条件下で、前述の重なり領域における差(誤差)を算出し、この誤差を最小にするような補正値を得る。重なり領域における差(誤差)を最小にする補正値を算出するには、前述のように最小二乗法が用いられる。ただしこれに限定されるものではなく、例えば、最小四乗法等を用いてもよい。
このように、ステップS105は、第i番目の部分領域を除くN−1箇所の部分領域の測定時の姿勢ばらつきに起因する誤差(セッティングエラー)及びN箇所の部分領域に共通な測定装置に起因する誤差(システムエラー)を算出する誤差算出ステップである。ステップS105では、これらの誤差を打ち消すような補正値を求める。
次に、ステップS106では、ステップS105で計算した補正値に従って、各部分領域での誤差補正を行う。すなわち、ステップS105で算出された各誤差に応じた補正を行う。ステップS107では、ステップS106で誤差補正を行った後、部分領域同士の繋ぎ合わせを行う。すなわち、ステップS107では、N箇所の部分領域を繋ぎ合わせる。ステップS108では、ステップS107における繋ぎ合わせ演算の結果を、部分領域mを基準とした場合の演算結果として、測定装置の記憶部に保存する。
ステップS109では、ステップS101で選択したM箇所の基準部分領域の全てについて演算が完了したか否かを判定する。M箇所の全ての部分領域についての演算が完了していない場合、ステップS110に進み、全ての演算が完了した場合にはステップS111に進む。ステップS110では、基準とする部分領域mを次の部分領域m+1に変更する。ステップS110により、ステップS102〜S109は、前述のiを変えてM回(Mは2以上N以下の整数)繰り返し実行される。
ステップS111では、ステップS108で得られた演算結果のうち、異常値を示すものを探す。各基準で繋ぎ合わせ演算(スティッチ)した結果それぞれに関するRMS値(実効値)と、それらのRMS値の平均を計算する。各基準でスティッチした結果のRMS値うち、平均値に対して、例えば10%以上の差異があった場合、その結果は異常値であるとする。このような異常値(特異データ)が生じている場合にはステップS112に進み、異常値が生じていない場合にはステップS113に進む。ステップS112では、ステップS111で発見された異常値を除外する。
最後に、ステップS113において、ステップS108で記憶部に保存された各基準における演算結果から、ステップS112で異常値を除外した演算結果の平均値を計算する。このようにステップS112は、M回の繋ぎ合わせ結果の平均値を被測定物の測定値とする全体形状測定ステップである。より具体的には、M回の繋ぎ合わせ結果のうち異常値を除外して得られた結果の平均値を被測定物の測定値とする全体形状測定ステップである。このように、本実施例の測定方法によれば、繋ぎ合わせ演算を高精度に行うことが可能となる。
次に、実施例2の測定方法における繋ぎ合わせ演算について説明する。図2は、本実施例における繋ぎ合わせ演算のフローチャートである。なお本実施例において、図2中のステップS201〜S210は実施例1(図1)のステップS101〜S110と同一であるため、その説明を省略する。
ステップS209において、ステップS201で選択したM箇所の基準候補となる部分領域の全てについての演算が完了したと判定された場合、ステップS211に進む。ステップS211では、ステップS208で得られた各演算結果に所定の重み倍率(重み係数)を設定する。例えば、分割数をx軸方向に1次元4分割としたとき、中心2つの部分領域を基準としたときが最も真値に近い結果を得られる可能性が高いと推定し、中心2つの部分領域を基準とした結果の重み倍率を大きくする。なお本実施例では、全ての演算結果に対して重み倍率を一定値である1に設定してもよい。
次に、ステップS212では、ステップS211で設定した重み倍率を考慮して、各基準における演算結果の平均値を算出する。例えば、四箇所の部分領域(1)、(2)、(3)、(4)を基準とした演算結果(結果(1)、(2)、(3)、(4))の重み倍率をそれぞれ1、2、2、1とする。この場合、重み倍率を考慮した平均値は、(結果(1)+結果(2)×2+結果(3)×2+結果(4))÷6で求めることができる。このようにステップS212は、M回の繋ぎ合わせ結果を重み付けして得られた平均値を被測定物の測定値とする全体形状測定ステップである。本実施例の測定方法によれば、所定の重み倍率を利用するため、繋ぎ合わせ演算をさらに高精度に行うことが可能となる。
次に、実施例3の測定方法における繋ぎ合わせ演算について説明する。図3は、本実施例における繋ぎ合わせ演算のフローチャートである。なお本実施例において、図3中のステップS301〜S310は実施例1(図1)のステップS101〜S110と同一であるため、その説明を省略する。
ステップS309において、ステップS301で選択したM箇所の基準候補となる部分領域の全てについて演算が完了したと判定された場合、ステップS311において、ステップS308で保存した各基準における演算結果の平均値を求める。ステップS312では、ステップS311で得られた平均値と部分領域mを基準とした場合の演算結果との差を算出する。
次に、ステップS313では、ステップS301で選択したM箇所の基準候補となる部分領域の全てについてステップS312で差を算出したか否かを判定する。M箇所の部分領域の全てについての差が算出されていない場合にはステップS314に進み、全てについての差を算出した場合にはステップS315に進む。ステップS314では、平均値との差を算出する演算結果の基準を次に進める。ステップS315では、各基準における演算結果のうち、平均値との差が最も小さい結果を測定結果とする。
このように、ステップS311〜S315は、M回の繋ぎ合わせ結果の平均値と、M回の繋ぎ合わせ結果と平均値との差をそれぞれ算出し、この差が最小となるときの繋ぎ合わせ結果を被測定物の測定値とする全体形状測定ステップである。上述のとおり、本実施例の測定方法によっても、繋ぎ合わせ演算を高精度に行うことが可能となる。
次に、実施例4の測定方法における繋ぎ合わせ演算について説明する。図4は、本実施例における繋ぎ合わせ演算のフローチャートである。なお本実施例において、図4中のステップS401〜S408は実施例1(図1)のステップS101〜S108と同一であるため、その説明を省略する。
ステップS409では、ステップS408にて保存された演算結果(部分領域mを基準として繋ぎ合わせた結果)において、各部分領域同士の重なり領域の残渣を計算する。そしてステップS410では、ステップS409で計算した残渣のRMS値を計算する。次に、ステップS411では、ステップS401で選択したM箇所の基準候補となる部分領域の全てについて演算を完了したか否かを判定する。演算が完了していない場合にはステップS412に進み、演算が完了した場合にはステップS413に進む。
ステップS412では、基準とする部分領域を次に進める。ステップS413では、ステップS408で保存した演算結果のうち、ステップS410で計算したRMS値が最も小さくなる結果を測定結果として採用する。このようにステップS409〜S413は、M回の繋ぎ合わせ結果の各部分領域同士の重なり領域における差のRMS値の二乗和をそれぞれ計算し、この二乗和が最小となる繋ぎ合わせ結果を被測定物の測定値とする全体形状測定ステップである。上述のとおり、本実施例の測定方法によっても、繋ぎ合わせ演算を高精度に行うことが可能となる。
以上、本発明の実施例について具体的に説明した。ただし、本発明は上記各実施例にて記載された事項に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。
T 被測定物
T1、T2 部分領域
T12 重なり領域

Claims (9)

  1. 被測定物をN箇所(Nは2以上の整数)の部分領域に分割して測定し、該N箇所の部分領域を繋ぎ合わせて該被測定物の全体形状を測定する測定方法であって、
    前記N箇所の部分領域の1つが他のN−1箇所の部分領域の少なくとも1つと重なり領域を有するように、該N箇所の部分領域を測定する部分領域測定ステップと、
    前記N箇所の部分領域のうち第i番目の部分領域(iは1以上N以下の整数)の測定時の姿勢ばらつきに起因する誤差を固定する基準決定ステップと、
    前記第i番目の部分領域を除くN−1箇所の部分領域の前記測定時の姿勢ばらつきに起因する誤差、及び、前記N箇所の部分領域に共通な測定装置に起因する誤差を算出する誤差算出ステップと、
    前記誤差算出ステップで算出された各誤差に応じた補正を行い、前記N箇所の部分領域を繋ぎ合わせるステップと、を有し、
    前記基準決定ステップ、前記誤差算出ステップ及び前記繋ぎ合わせステップは、前記iを変えてM回(Mは2以上N以下の整数)繰り返し実行されることを特徴とする測定方法。
  2. 前記誤差算出ステップは、最小二乗法を用いて前記各誤差を算出することを特徴とする請求項1記載の測定方法。
  3. 前記M回の繋ぎ合わせ結果の平均値を前記被測定物の測定値とする全体形状測定ステップを更に有することを特徴とする請求項1又は2記載の測定方法。
  4. 前記M回の繋ぎ合わせ結果を重み付けして得られた平均値を前記被測定物の測定値とする全体形状測定ステップを更に有することを特徴とする請求項1又は2記載の測定方法。
  5. 前記M回の繋ぎ合わせ結果の平均値と、該M回の繋ぎ合わせ結果と該平均値との差をそれぞれ算出し、該差が最小となるときの繋ぎ合わせ結果を前記被測定物の測定値とする全体形状測定ステップを更に有することを特徴とする請求項1又は2記載の測定方法。
  6. 前記M回の繋ぎ合わせ結果の各部分領域同士の重なり領域における差のRMS値の二乗和をそれぞれ計算し、該二乗和が最小となる繋ぎ合わせ結果を前記被測定物の測定値とする全体形状測定ステップを更に有することを特徴とする請求項1又は2記載の測定方法。
  7. 前記M回の繋ぎ合わせ結果のうち異常値を除外して得られた結果の平均値を前記被測定物の測定値とする全体形状測定ステップを更に有することを特徴とする請求項1又は2記載の測定方法。
  8. 前記各誤差は、Zernike多項式を用いて算出されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一に記載の測定方法。
  9. 請求項1乃至8のいずれか一に記載の測定方法を用いて被測定物の全体形状を測定するように構成されていることを特徴とする測定装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012154810A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Canon Inc 部分計測を合成する形状計測方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012019026A1 (de) * 2012-09-26 2014-03-27 Blum-Novotest Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Vermessen eines in einer Werkstückbearbeitungsmaschine aufgenommenen Werkzeugs
JP6452086B2 (ja) * 2013-10-31 2019-01-16 キヤノン株式会社 形状算出装置及び方法、計測装置、物品製造方法、及び、プログラム
JP7119949B2 (ja) * 2018-11-28 2022-08-17 セイコーエプソン株式会社 判定装置及び判定方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3162355B2 (ja) * 1989-03-31 2001-04-25 キヤノン株式会社 面形状等測定方法及び装置
JP2002372415A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Olympus Optical Co Ltd 形状測定方法
JP2003269952A (ja) * 2002-03-13 2003-09-25 Canon Inc 3次元形状測定装置および方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1137732A (ja) 1997-07-19 1999-02-12 Fuji Xerox Co Ltd 形状測定方法および装置
JP3403668B2 (ja) * 1999-05-27 2003-05-06 理化学研究所 部分測定データの合成方法
JP2001066123A (ja) 1999-08-27 2001-03-16 Ricoh Co Ltd 3次元形状の形状測定装置及び形状測定方法
US7455407B2 (en) * 2000-02-11 2008-11-25 Amo Wavefront Sciences, Llc System and method of measuring and mapping three dimensional structures
US6956657B2 (en) * 2001-12-18 2005-10-18 Qed Technologies, Inc. Method for self-calibrated sub-aperture stitching for surface figure measurement
US7728987B2 (en) * 2004-05-14 2010-06-01 Carl Zeiss Smt Ag Method of manufacturing an optical element
US7221461B2 (en) * 2004-08-13 2007-05-22 Zygo Corporation Method and apparatus for interferometric measurement of components with large aspect ratios
US7593599B2 (en) * 2005-06-30 2009-09-22 Corning Incorporated Method of assembling a composite data map having a closed-form solution
JP5783899B2 (ja) * 2008-04-08 2015-09-24 キューイーディー・テクノロジーズ・インターナショナル・インコーポレーテッド 近ゼロサブ開口測定のスティッチング

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3162355B2 (ja) * 1989-03-31 2001-04-25 キヤノン株式会社 面形状等測定方法及び装置
JP2002372415A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Olympus Optical Co Ltd 形状測定方法
JP2003269952A (ja) * 2002-03-13 2003-09-25 Canon Inc 3次元形状測定装置および方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012154810A (ja) * 2011-01-26 2012-08-16 Canon Inc 部分計測を合成する形状計測方法

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