JP2010199060A - 有機発光表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機発光表示装置100は、基板本体111と、前記基板本体上に形成された有機発光素子70と、前記基板本体上に形成されて前記有機発光素子をカバーする吸湿層220と、前記基板本体上に形成されて前記吸湿層をカバーする第1バリア層230と、前記吸湿層と前記第1バリア層との間に形成された第1補助バリア層235と、前記基板本体上に形成されて前記第1バリア層をカバーする第2バリア層240、そして前記第1バリア層と前記第2バリア層との間に形成された第2補助バリア層245を含む。
【選択図】図1
Description
する。
バリア層235はAlSiOxで形成される。
ア層245、及び第2バリア層240に比べて相対的に柔軟な性質を有するため、有機発光素子70に伝えられる応力または衝撃を緩和する役割を果たす。有機発光表示装置100の撓みにより、第1補助バリア層235、第1バリア層230、第2補助バリア層245、及び第2バリア層240の間に応力が生じる。このような応力によって、薄膜封止層210が損傷されて浸透防止機能が顕著に低下される可能性がある。また、前述した応力が有機発光素子70に伝えられて、有機発光素子70の不良を招くこともありうる。このように、吸湿層220は、浸透抑制と共に応力の発生を緩和させて、有機発光素子70に伝えられる衝撃を減少させられる。
体111上に形成する(S200)。この時、熱蒸着工程には真空気化法が使用される。また、吸湿層220は、一酸化ケイ素(Silicon monoxide、SiO)、一酸化カルシウム(CaO)、及び一酸化バリウム(BaO)のうちいずれか一つで形成される。
110 表示基板、
111 基板本体、
132 半導体層、
155 ゲート電極、
158,178 蓄電板、
177 ドレイン電極、
70 有機発光素子、
210 薄膜封止層、
220 吸湿層、
230 第1バリア層、
235 第1補助バリア層、
240 第2バリア層、
245 第2補助バリア層、
710 第1電極、
720 有機発光層、
730 第2電極、
DC 駆動回路部、
T1、T2 薄膜トランジスタ、
C1 保存キャパシタ、
SL1 スキャンライン、
DL1 データライン、
VDD 電源ライン。
Claims (20)
- 基板本体と、
前記基板本体上に形成された有機発光素子と、
前記基板本体上に形成されて前記有機発光素子をカバーする吸湿層と、
前記基板本体上に形成されて前記吸湿層をカバーする第1バリア層と、
前記吸湿層と前記第1バリア層との間に形成された第1補助バリア層と、
前記基板本体上に形成されて前記第1バリア層をカバーする第2バリア層と、
前記第1バリア層と前記第2バリア層との間に形成された第2補助バリア層を含むことを特徴とする有機発光表示装置。 - 前記第1バリア層と前記第2バリア層は、互いに異なる物質で形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機発光表示装置。
- 前記吸湿層は、一酸化ケイ素(SiO)、一酸化カルシウム(CaO)、及び一酸化バリウム(BaO)のうちいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の有機発光表示装置。
- 前記吸湿層は、熱蒸着工程で形成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機発光表示装置。
- 前記熱蒸着工程は、真空気化法であることを特徴とする請求項4に記載の有機発光表示装置。
- 前記第1バリア層及び前記第2バリア層はAl2O3、TiO2、ZrO、SiO2、AlON、AlN、SiON、Si3N4、ZnO、及びTa2O5のうち一つ以上を含む素材で形成されたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機発光表示装置。
- 前記第1バリア層及び前記第2バリア層は、各々原子層蒸着(atomic layer depostion、ALD)法を用いて形成されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機発光表示装置。
- 前記第1補助バリア層は、前記第1バリア層が前記吸湿層と反応して前記第1バリア層と前記吸湿層との間の界面に形成され、
前記第1補助バリア層は、前記第1バリア層の少なくとも一部の成分と前記吸湿層の少なくとも一部の成分を全て含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の有機発光表示装置。 - 前記第2補助バリア層は、前記第2バリア層が前記第1バリア層と反応して前記第2バリア層と前記第1バリア層との間の界面に形成され、
前記第2補助バリア層は、前記第2バリア層の少なくとも一部の成分と前記第1バリア層の少なくとも一部の成分を全て含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の有機発光表示装置。 - 前記吸湿層、第1補助バリア層、第1バリア層、第2補助バリア層、及び第2バリア層は、前記有機発光素子を保護する薄膜封止層を形成し、
前記薄膜封止層の全体厚さは、1nm乃至1000nmの範囲内に属することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の有機発光表示装置。 - 基板本体上に有機発光素子を形成する段階と、
熱蒸着工程を通して前記有機発光素子をカバーする吸湿層を形成する段階と、
原子層蒸着(ALD)法を用いて前記吸湿層をカバーする第1バリア層を形成する段階と、
前記第1バリア層が前記吸湿層と反応して前記第1バリア層と前記吸湿層との間の界面に第1補助バリア層が形成される段階と、
原子層蒸着(ALD)法を用いて前記第1バリア層をカバーする第2バリア層を形成する段と、
前記第2バリア層が前記第1バリア層と反応して前記第2バリア層と前記第1バリア層との間の界面に第2補助バリア層が形成される段階と、
を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。 - 前記第1バリア層と前記第2バリア層は、互いに異なる物質で形成されることを特徴とする請求項11に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記吸湿層は一酸化ケイ素(SiO)、一酸化カルシウム(CaO)、及び一酸化バリウム(BaO)のうちいずれか一つで形成されることを特徴とする請求項11または12に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記吸湿層は、熱蒸着工程で形成されることを特徴とする請求項11〜13のいずれか1項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記熱蒸着工程は、真空気化法であることを特徴とする請求項14に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記吸湿層は、二酸化ケイ素(SiO2)とケイ素ガスを反応させて形成された一酸化ケイ素(SiO)が蒸着されて形成されることを特徴とする請求項11〜15のいずれか1項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記第1バリア層及び前記第2バリア層は、Al2O3、TiO2、ZrO、SiO2、AlON、AlN、SiON、Si3N4、ZnO、及びTa2O5のうち一つ以上を含む素材で形成されることを特徴とする請求項11〜16のいずれか1項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記第1補助バリア層は、前記第1バリア層の少なくとも一部の成分と前記吸湿層の少なくとも一部の成分を全て含んで最終的には前記第1バリア層及び前記吸湿層とは各々異なる物質で形成されることを特徴とする請求項11〜17のいずれか1項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記第2補助バリア層は、前記第2バリア層の少なくとも一部の成分と前記第1バリア層の少なくとも一部の成分を全て含んで最終的には前記第2バリア層及び前記第1バリア層とは各々異なる物質で形成されることを特徴とする請求項11〜18のいずれか1項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記吸湿層、第1補助バリア層、第1バリア層、第2補助バリア層、及び第2バリア層は前記有機発光素子を保護する薄膜封止層を形成し、前記薄膜封止層の全体厚さは1nm乃至1000nmの範囲内に属することを特徴とする請求項11〜19のいずれか1項に記載の有機発光表示装置の製造方法。
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