JP2010176830A - 高データ密度光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、高データ密度光記録媒体(20)に関する。本発明はさらに、かかる光記録媒体(20)からの読出し方法および読出し装置、ならびにかかる光記録媒体(20)のマスタリング方法に関する。高データ密度を実現するために、光記録媒体(20)は、先端を有し、かつ高電界の影響下で検出可能な作用を生じる材料(22)によって被覆されたマーク(21)を有する。
【選択図】図1
Description
−読出し光ビームを生成するステップと、
−読出し光ビームを、好ましくはビームシェイパを用いて、ドーナツ形光ビームに変形させるステップと、
−ドーナツ形光ビームを、光記録媒体上のマークに照射するステップと、
−光記録媒体で発生した第2高調光または蛍光を検出するステップと
を有する。
−光記録媒体に書き込む逆データパターンを生成するステップと、
−前記逆データパターンに従って書込み光ビームを生成するステップと、
−前記書込み光ビームを用いて、光記録媒体上のマークを不活性状態に変換するステップと
を有する。
−保護層を備えたウェハを設けるステップと、
−保護層のマスクを形成するステップと、
−それぞれが先端部を有する逆マークが形成されるように、マスクを介してウェハを異方的に(unisotropically)エッチングするステップと、
−マスクを除去するステップと
を有する。
−保護層を備えたウェハを設ける手段と、
−保護層のマスクを形成する手段と、
−それぞれが先端部を有する逆マークが形成されるように、マスクを介してウェハを異方的にエッチングする手段と、
−マスクを除去する手段と
を有する。
Claims (15)
- マーク(21)を有する光記録媒体(20)であって、
前記マーク(21)は、先端部または一連の先端部を有し、読出し光ビーム(2)の焦点で発生する高電界の影響下で検出可能な作用を生じる材料(22)によって被覆されることを特徴とする光記録媒体。 - 前記マークを被覆する前記材料(22)は、蛍光材料、第2高調波発生材料、または偏光変化を引き起こす材料であることを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。
- 前記マーク(21)は、角錐形または円錐形を有することを特徴とする請求項1または2に記載の光記録媒体。
- 少なくとも1つの記録領域を有する記録可能媒体であり、前記少なくとも1つの記録領域は、不活性状態に変換可能である先端部を有するマーク(21)を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光記録媒体。
- より長いマーク(21)が、隣接する、または部分的に重なり合う一連のマークからなるか、あるいは、細長いベース部分を有し、その上に2つ以上のマークが隣接して、または重なり合って配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の光記録媒体。
- 前記マーク(21)は、金属材料によってさらに被覆されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光記録媒体。
- 読出し光ビーム(2)を生成する光源(1)を備えた、光記録媒体(20)からの読出し装置であって、
前記読出し光ビーム(2)をドーナツ形光ビームに変形させるビームシェイパ(4)をさらに含むことを特徴とする装置。 - 反射した読出し光から、前記光記録媒体(20)で発生する第2高調光、蛍光、または偏光方向が回転した光を分離するダイクロイックまたは偏光ビームスプリッタ(6)をさらに有することを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 光記録媒体(20)からの読出し方法であって、
読出し光ビーム(2)を生成するステップと、
前記読出し光ビーム(2)をドーナツ形光ビームに変形させるステップと、
前記ドーナツ形光ビームを、前記光記録媒体(20)上のマーク(21)に照射するステップと、
前記光記録媒体(20)で発生する第2高調光、蛍光、または偏光方向が回転した光を検出するステップと
を含むことを特徴とする方法。 - 書込み光ビーム(2)を生成する光源(1)を備えた、請求項3に記載の光記録媒体(20)への書込み装置であって、
前記光記録媒体(20)に書き込む逆データパターンを生成するプロセッサ(12)をさらに含むことを特徴とする装置。 - 請求項3に記載の光記録媒体(20)への書込み方法であって、
前記光記録媒体(20)に書き込む逆データパターンを生成するステップと、
前記逆データパターンに従って書込み光ビーム(2)を生成するステップと、
前記書込み光ビーム(2)を用いて、前記光記録媒体(20)上のマーク(21)を不活性状態に変換するステップと
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の光記録媒体のマスタリング方法であって、
保護層(31)を備えた結晶ウェハ(30)を設けるステップと、
前記保護層(31)のマスク(31’)を形成するステップと、
それぞれが先端部を有する逆マーク(33)が形成されるように、前記マスク(31’)を介して前記ウェハ(30)を異方的にエッチングするステップと、
前記マスク(31’)を除去するステップと
を含むことを特徴とする方法。 - 前記保護層(31)のマスク(31’)を形成する前記ステップは、前記逆マーク(33)の位置に孔(37)または一連の孔(37)をマスタリングすることを含み、前記孔(37)のサイズは、前記逆マーク(33)の所期のサイズよりも小さいことを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記ウェハ(30)はSiウェハであり、前記保護層(31)はSiO2層であることを特徴とする請求項12または13に記載の方法。
- 請求項1乃至6のいずれかに記載の光記録媒体のマスタリング装置であって、
保護層(31)を備えたウェハ(30)を設ける手段と、
前記保護層(31)のマスク(31’)を形成する手段と、
それぞれが先端部を有する逆マーク(33)が形成されるように、前記マスク(31’)を介して前記ウェハ(30)を異方的にエッチングする手段と、
前記マスク(31’)を除去する手段と
を有することを特徴とする装置。
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