JP2010176830A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. マークを有する光記録媒体であって、
   前記マークは、先端部または一連の先端部を有し、読出し光ビームの焦点で発生する高電界の影響下で検出可能な作用を生じる材料によって被覆される、前記光記録媒体。
2. 前記マークを被覆する前記材料は、蛍光材料、第２高調波発生材料、または偏光変化を引き起こす材料である、請求項１に記載の光記録媒体。
3. 前記マークは、角錐形または円錐形を有する、請求項１または２に記載の光記録媒体。
4. 前記光記録媒体は、少なくとも１つの記録領域を有する記録可能媒体であり、前記少なくとも１つの記録領域は、不活性状態に変換可能である先端部を有するマークを備える、請求項１乃至３のいずれかに記載の光記録媒体。
5. より長いマークが、隣接する、または部分的に重なり合う一連のマークからなるか、あるいは、細長いベース部分を有し、その上に２つ以上のマークが隣接して、または重なり合って配置されている、請求項１乃至４のいずれかに記載の光記録媒体。
6. 前記マークは、金属材料によってさらに被覆される、請求項１乃至５のいずれかに記載の光記録媒体。
7. 光記録媒体からの読出し装置であって、
   読出し光ビームを生成する光源と、
   前記読出し光ビームをドーナツ形光ビームに変形させるビームシェイパと、
   ドーナツ形光ビームを前記光記録媒体上のマークに照射する対物レンズと、を含み、
   前記装置は、前記光記録媒体で生成された第２高調光、蛍光、または偏光方向が回転した光を検出する検出器をさらに含む、前記装置。
8. 前記装置は、反射した読出し光から、前記光記録媒体で発生する第２高調光、蛍光、または偏光方向が回転した光を分離するダイクロイックまたは偏光ビームスプリッタをさらに有する、請求項７に記載の装置。
9. 光記録媒体からの読出し方法であって、
   読出し光ビームを生成するステップと、
   前記読出し光ビームをドーナツ形光ビームに変形させるステップと、
   前記ドーナツ形光ビームを、前記光記録媒体上のマークに照射するステップと、
   前記光記録媒体で発生する第２高調光、蛍光、または偏光方向が回転した光を検出するステップと、
   を含む、前記方法。
10. 書込み光ビームを生成する光源を備えた、請求項３に記載の光記録媒体への書込み装置であって、
    前記光記録媒体上のマークを前記書込み光ビームで不活性状態に変換するために、前記光記録媒体に書き込む逆データパターンを生成するプロセッサをさらに含む、前記装置。
11. 請求項３に記載の光記録媒体への書込み方法であって、
    前記光記録媒体に書き込む逆データパターンを生成するステップと、
    前記逆データパターンに従って書込み光ビームを生成するステップと、
    前記書込み光ビームを用いて、前記光記録媒体上のマークを不活性状態に変換するステップと、
    を含む、前記方法。
12. 請求項１乃至６のいずれかに記載の光記録媒体のマスタリング方法であって、
    保護層を備えた結晶ウェハを設けるステップと、
    前記保護層のマスクを形成するステップと、
    それぞれが先端部を有する逆マークが形成されるように、前記マスクを介して前記ウェハを異方的にエッチングするステップと、
    前記マスクを除去するステップと、
    を含む、前記方法。
13. 前記保護層のマスクを形成する前記ステップは、前記逆マークの位置に孔または一連の孔をマスタリングすることを含み、前記孔のサイズは、前記逆マークの所期のサイズよりも小さい、請求項１２に記載の方法。
14. 前記ウェハはＳｉウェハであり、前記保護層はＳｉＯ₂層である、請求項１２または１３に記載の方法。
15. 請求項１乃至６のいずれかに記載の光記録媒体のマスタリング装置であって、
    保護層を備えたウェハを設ける手段と、
    前記保護層のマスクを形成する手段と、
    それぞれが先端部を有する逆マークが形成されるように、前記マスクを介して前記ウェハを異方的にエッチングする手段と、
    前記マスクを除去する手段と、
    を有する、前記装置。