JP2010164654A - 複合光導波路 - Google Patents
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Abstract
【課題】少なくとも2種以上の異なる波長領域の光の伝送用として用いることができる光導波路を提供する。
【解決手段】互いに組成の異なる第1コア及び第2コアと、クラッドとを有することを特徴とする複合光導波路である。
【選択図】図2
【解決手段】互いに組成の異なる第1コア及び第2コアと、クラッドとを有することを特徴とする複合光導波路である。
【選択図】図2
Description
本発明は、異なる組成の少なくとも2つのコアを形成して成る小型・高密度の複合光導波路に関するものである。
情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。具体的には、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるために、電気配線板に光伝送路を複合した光電気混載基板の開発がなされている。光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。
このような光導波路の高密度化のため、光導波路を複数積層した多層光導波路が考えられる。例えば、特許文献1では、クラッドフィルムの上にコアを形成した複数の導波路フィルムがクラッド用硬化性樹脂の硬化層により積層された積層型高分子光導波路が開示されている。
また、特許文献2では、複数のコアとそれらのコアを囲んで形成されるクラッドとから構成され、平面方向コア中心間距離と厚さ方向コア間距離とが適正化された多層光導波路が提案されている。
また、特許文献2では、複数のコアとそれらのコアを囲んで形成されるクラッドとから構成され、平面方向コア中心間距離と厚さ方向コア間距離とが適正化された多層光導波路が提案されている。
しかしながら、上記の特許文献1及び特許文献2に開示された多層光導波路はコアの組成が同一で、850nm帯の光通信用や、1.3〜1.55μm帯の光通信用など、同一目的の波長領域用の複数の導波路を形成するものであり、マルチモード光通信用、シングルモード光通信用及び可視光伝送用など、少なくとも2種以上の異なる波長領域の光の伝送用として用いることはできなかった。
本発明は、上記問題点に鑑み、少なくとも2種以上の異なる波長領域の光の伝送用として用いることができる光導波路を提供することを目的とするものである。
本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、下記に記載の方法により、上記課題を解決し得ることを見出した。すなわち、本発明は、以下に関する。
(1)互いに組成の異なる樹脂組成物を用いた第1コア及び第2コアと、クラッドとを有することを特徴とする複合光導波路。
(2)前記第1コア及び前記第2コアが異なる平面上に形成されてなる上記(1)に記載の複合光導波路。
(3)前記第1コア及び前記第2コアが同一平面上に形成されてなる上記(1)に記載の複合光導波路。
(4)同一平面上に形成された複数の前記第1コアと、同一平面上に形成された複数の前記第2コアを有することを特徴とする上記(2)に記載の複合光導波路。
(5)前記第1コアの断面積と前記第2コアの断面積とが同一である上記(1)〜(4)のいずれかに記載の複合光導波路。
(6)前記第1コアの少なくとも1つの断面積と前記第2コアの少なくとも1つの断面積とが異なるものである上記(1)〜(4)のいずれかに記載の複合光導波路。
(7)前記第1コアと前記第2コアとが、それぞれ異なる波長伝送に用いられる上記(1)〜(6)のいずれかに記載の複合光導波路。
(8)前記第1コア及び前記第2コアの両方がマルチモード用である上記(1)〜(7)のいずれかに記載の複合光導波路。
(9)前記第1コア及び前記第2コアの一方がマルチモード用であり、他方がシングルモード用である上記(1)〜(7)のいずれかに記載の複合光導波路。
(10)前記第1コア及び前記第2コアの少なくとも一方が可視光用である上記(1)〜(8)のいずれかに記載の複合光導波路。
(1)互いに組成の異なる樹脂組成物を用いた第1コア及び第2コアと、クラッドとを有することを特徴とする複合光導波路。
(2)前記第1コア及び前記第2コアが異なる平面上に形成されてなる上記(1)に記載の複合光導波路。
(3)前記第1コア及び前記第2コアが同一平面上に形成されてなる上記(1)に記載の複合光導波路。
(4)同一平面上に形成された複数の前記第1コアと、同一平面上に形成された複数の前記第2コアを有することを特徴とする上記(2)に記載の複合光導波路。
(5)前記第1コアの断面積と前記第2コアの断面積とが同一である上記(1)〜(4)のいずれかに記載の複合光導波路。
(6)前記第1コアの少なくとも1つの断面積と前記第2コアの少なくとも1つの断面積とが異なるものである上記(1)〜(4)のいずれかに記載の複合光導波路。
(7)前記第1コアと前記第2コアとが、それぞれ異なる波長伝送に用いられる上記(1)〜(6)のいずれかに記載の複合光導波路。
(8)前記第1コア及び前記第2コアの両方がマルチモード用である上記(1)〜(7)のいずれかに記載の複合光導波路。
(9)前記第1コア及び前記第2コアの一方がマルチモード用であり、他方がシングルモード用である上記(1)〜(7)のいずれかに記載の複合光導波路。
(10)前記第1コア及び前記第2コアの少なくとも一方が可視光用である上記(1)〜(8)のいずれかに記載の複合光導波路。
本発明によれば、少なくとも2種以上の異なる波長領域の光の伝送用として用いることができる複合光導波路を提供することができる。
これにより、マルチモード、シングルモード、照明用等の可視光等の多様な伝送を単一の光導波路で行うことが可能になり、各種情報端末内外の情報送受信、家庭用電気機器内外の情報送受信、車両用電気機器内外の情報送受信等を小型化・高密度化することができ、各種電気機器、車両等を小型化・軽量化することができる。すなわち、本発明の複合光導波路は、高速、大容量光通信の実現・普及に寄与するところが大きい。
これにより、マルチモード、シングルモード、照明用等の可視光等の多様な伝送を単一の光導波路で行うことが可能になり、各種情報端末内外の情報送受信、家庭用電気機器内外の情報送受信、車両用電気機器内外の情報送受信等を小型化・高密度化することができ、各種電気機器、車両等を小型化・軽量化することができる。すなわち、本発明の複合光導波路は、高速、大容量光通信の実現・普及に寄与するところが大きい。
本発明の複合光導波路は、互いに組成の異なる樹脂組成物を用いた第1コア及び第2コアと、クラッドとを有することを特徴とする。以下、図面に基づいて本発明を説明する。
図1は、本発明の複合光導波路の一例を説明する概念図であり、図2〜図8は、本発明の複合光導波路の他の形態例を説明する概念図である。
図1及び図2は、第1コア及び第2コアが異なる平面上に形成されてなる本発明の複合光導波路を表わしている。
図1において、本発明の複合光導波路1は、第1クラッド2の上に第1コア3が配置され、その上に第1コア3を被覆して第2クラッド4が積層されている。この第2クラッド4の上に、第1コア3とは組成の異なる第2コア5が配置され、その上に第2コア5を被覆して第3クラッド6が積層されている。ここで、第1コア3の断面積と第2コア5の断面積とは同一である。
図1は、本発明の複合光導波路の一例を説明する概念図であり、図2〜図8は、本発明の複合光導波路の他の形態例を説明する概念図である。
図1及び図2は、第1コア及び第2コアが異なる平面上に形成されてなる本発明の複合光導波路を表わしている。
図1において、本発明の複合光導波路1は、第1クラッド2の上に第1コア3が配置され、その上に第1コア3を被覆して第2クラッド4が積層されている。この第2クラッド4の上に、第1コア3とは組成の異なる第2コア5が配置され、その上に第2コア5を被覆して第3クラッド6が積層されている。ここで、第1コア3の断面積と第2コア5の断面積とは同一である。
次に、図2において、本発明の複合光導波路1は、図1とコア及びクラッドの配置は同一であるが、第1コア3の断面積と第2コア5の断面積とが異なっている。図2においては、第1コア3の断面積が第2コア5の断面積より小さい形態例が示されているが、逆に、第1コア3の断面積が第2コア5の断面積より大きくても良い。通常、シングルモード用のコアの断面積、マルチモード用のコアの断面積及び可視光用のコアの断面積は異なるので、第1コア3の少なくとも1つの断面積と第2コア5の少なくとも1つの断面積とが異なることが本発明の課題を達成する上で好ましい。第1コアと第2コアとが、それぞれ異なる波長伝送に用いられる態様として、第1コア3及び第2コア5の両方がマルチモード用であっても良いし、第1コア3及び第2コア5の一方がマルチモード用であり他方がシングルモード用であっても良いし、第1コア3及び第2コア5の少なくとも一方が可視光用であって他方がマルチモード用及び/又はシングルモード用であっても良い。
図1及び図2に示す複合光導波路1においては、第2クラッド4が第2コア5の下部クラッドの役割を果たすので、飛躍的な小型化・高密度化が可能となる。
所望により、本発明の複合光導波路1は、コアが3層、4層以上に積層される3層コア構造、4層以上のコア構造を形成しても良い。
図1及び図2に示す複合光導波路1においては、第2クラッド4が第2コア5の下部クラッドの役割を果たすので、飛躍的な小型化・高密度化が可能となる。
所望により、本発明の複合光導波路1は、コアが3層、4層以上に積層される3層コア構造、4層以上のコア構造を形成しても良い。
図3及び図4は、本発明の複合光導波路1において第1コア3及び第2コア5が同一平面状に形成される形態の例を示す。この形態では、図1及び図2における第3クラッド6を配置しなくても良いので、図3及び図4に示す複合光導波路1においてもクラッド材料の節減となると共に、飛躍的な小型化・高密度化が可能となる。
図3は、第1コア3の断面積と第2コア5の断面積とが同一である複合光導波路1を示し、図4は、第1コア3の断面積と第2コア5の断面積とが異なる複合光導波路1を示す。
図3は、第1コア3の断面積と第2コア5の断面積とが同一である複合光導波路1を示し、図4は、第1コア3の断面積と第2コア5の断面積とが異なる複合光導波路1を示す。
図5において、本発明の複合光導波路1は、同一平面状に形成された複数の第1コア3の上に複数の第2コア5が同一平面状に形成される形態であり、2層コア構造を形成する。即ち、本発明の複合光導波路1は、第1クラッド2の上に複数の第1コア3が配置され、その上に複数の第1コア3を被覆して第2クラッド4が積層され、この第2クラッド4の上に、第1コア3とは組成の異なる複数の第2コア5が配置され、その上に第2コア5を被覆して第3クラッド6が積層されている。このように、本発明においては、同一平面上に形成された複数の前記第1コアと、同一平面上に形成された複数の前記第2コアとが異なる平面上に形成されても良い。
図6において、本発明の複合光導波路1は、図5に示す2層コア構造の上に、さらに複数の第2コア7が同一平面状に形成される形態を有し、3層コア構造を形成する。ここで、本発明の複合光導波路1は、第1クラッド2の上に複数の第1コア3が配置され、その上に複数の第1コア3を被覆して第2クラッド4が積層され、この第2クラッド4の上に、第1コア3とは組成の異なる複数の第2コア5が配置され、その上に第2コア5を被覆して第3クラッド6が積層され、さらに第3クラッド6の上に、第1コア3及び第2コア5とは組成の異なる複数の第3コア7が配置され、その上に第3コア7を被覆して第4クラッド8が積層されている。この形態によれば、第2クラッド4が第2コア5の下部クラッドの役割を果たし、第3クラッド6が第3コア7の下部クラッドの役割を果たすので、さらに飛躍的な小型化・高密度化が可能となる。
図7及び図8に示す本発明の複合光導波路1は、複数の第1コア3及び複数の第2コア5が同一平面状に形成されている形態を有する。本発明の複合光導波路1は、図7に示すように複数の第1コア3及び/又は複数の第2コア5が一まとまりとなってブロックを形成しても良いし、図8に示すように第1コア3と第2コア5が交互に配列されても良い。さらに、複数の第1コア3から成るブロックと複数の第2コア5から成るブロックとが交互に配列されても良い。
本発明の複合光導波路1においては、波長1310nmのシングルモード用のコアの場合、コアの断面積は(3〜10)×(3〜10)μm2程度であり、コア−コア間の間隙は、50〜500μmが好ましい。また、波長850nmのマルチモード用のコアの断面積は(30〜100)×(30〜100)μm2程度であり、コア−コア間の間隙は、50〜500μmが好ましい。さらに、
波長400〜700nmの可視光用のコアの場合、コアの断面積は(30〜500)×(30〜500)μm2程度であり、コア−コア間の間隙は、50〜2000μmが好ましい。
また、厚さ方向又は同一平面方向において、シングルモード用コアとマルチモード用コアとの間隙は、50〜1000μmが好ましく、シングルモード用コアと可視光用コアとの間隙は、50〜1000μmが好ましく、マルチモード用コアと可視光用コアとの間隙は、50〜1000μmが好ましい。
波長400〜700nmの可視光用のコアの場合、コアの断面積は(30〜500)×(30〜500)μm2程度であり、コア−コア間の間隙は、50〜2000μmが好ましい。
また、厚さ方向又は同一平面方向において、シングルモード用コアとマルチモード用コアとの間隙は、50〜1000μmが好ましく、シングルモード用コアと可視光用コアとの間隙は、50〜1000μmが好ましく、マルチモード用コアと可視光用コアとの間隙は、50〜1000μmが好ましい。
さらに、本発明の複合光導波路1は、電気配線基板の片面又は両面上に、本発明の光導波路層を積層し、さらに光導波路と電気回路配線とを複合化したものであっても良い。高密度に作製された電気回路を含む複合光導波路1は、基板上の金属配線の信号伝送線と、光導波路の信号伝送線との両方を備えることにより、高速でかつ長い距離の信号伝送を容易に行うことが出来る。
本発明における複合光導波路1の製造方法は、以下の(1)又は(2)の方法により得られる。
(1)基板上に光導波路の第1クラッド2となる薄膜を製膜する工程と、この第1クラッド2上に第1クラッド2よりも高い屈折率を有する薄膜を製膜してパターニングすることにより第1コア3を形成する工程と、この第1コア3よりも低い屈折率を有する薄膜を、第2クラッド4として製膜する工程と、この第2クラッド4上に、第2クラッド4よりも高い屈折率を有する薄膜を製膜してパターニングすることにより、第2コア5を形成する工程と、この第2コア5よりも低い屈折率を有する薄膜を、第3クラッド6として製膜する工程によって、図1、図2、図5及び図6に示される複合光導波路1が作製される。
(2)基板上に光導波路の第1クラッド2となる薄膜を製膜する工程と、この第1クラッド2上に第1クラッド2よりも高い屈折率を有する薄膜を製膜してパターニングすることにより第1コア3を形成する工程と、この第1コア3と同一平面上で第1コア3と隣接する第1クラッド2上に第1クラッド2よりも高い屈折率を有する薄膜を製膜してパターニングすることにより第2コア5を形成する工程と、第1コア3及び第2コア5よりも低い屈折率を有する薄膜を、第3クラッド6として製膜する工程によって、図3、図4、図7及び図8に示される複合光導波路1が作製される。
(1)基板上に光導波路の第1クラッド2となる薄膜を製膜する工程と、この第1クラッド2上に第1クラッド2よりも高い屈折率を有する薄膜を製膜してパターニングすることにより第1コア3を形成する工程と、この第1コア3よりも低い屈折率を有する薄膜を、第2クラッド4として製膜する工程と、この第2クラッド4上に、第2クラッド4よりも高い屈折率を有する薄膜を製膜してパターニングすることにより、第2コア5を形成する工程と、この第2コア5よりも低い屈折率を有する薄膜を、第3クラッド6として製膜する工程によって、図1、図2、図5及び図6に示される複合光導波路1が作製される。
(2)基板上に光導波路の第1クラッド2となる薄膜を製膜する工程と、この第1クラッド2上に第1クラッド2よりも高い屈折率を有する薄膜を製膜してパターニングすることにより第1コア3を形成する工程と、この第1コア3と同一平面上で第1コア3と隣接する第1クラッド2上に第1クラッド2よりも高い屈折率を有する薄膜を製膜してパターニングすることにより第2コア5を形成する工程と、第1コア3及び第2コア5よりも低い屈折率を有する薄膜を、第3クラッド6として製膜する工程によって、図3、図4、図7及び図8に示される複合光導波路1が作製される。
上述の製膜工程は、スピンコート法により製膜しても良いし、樹脂フィルムをラミネートしても良い。
スピンコート法は、水平回転式のテーブルに基板等を寝かせた状態で載せて、基板等の中央部にコア又はクラッドを形成する樹脂材料をノズルから滴下し、次いで、テーブルを高速で回転させて、遠心力でその樹脂材料を基板等の表面に拡散させるものである。
スピンコート法は、水平回転式のテーブルに基板等を寝かせた状態で載せて、基板等の中央部にコア又はクラッドを形成する樹脂材料をノズルから滴下し、次いで、テーブルを高速で回転させて、遠心力でその樹脂材料を基板等の表面に拡散させるものである。
また、ラミネートによる製膜工程においては、まず、クラッドフィルムの製造過程で用いた基材がある場合には、該基材を剥離し、さらに、そのクラッドフィルムに保護フィルムが存在する場合には、保護フィルムを除去した後、該クラッドフィルムを、基板上に加熱しながら圧着することにより積層して第1クラッド2を形成する。ここで、密着性及び追従性の見地から減圧下で積層することが好ましい。該クラッドフィルムの加熱温度は50〜130℃とすることが好ましく、圧着圧力は、0.1〜1.0MPa程度(1〜10kgf/cm2程度)とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
次いで、該クラッドフィルムを光又は加熱により硬化した後、該クラッドフィルムより屈折率の高いコアフィルムを上記と同様な方法で積層する。
次いで、該クラッドフィルムを光又は加熱により硬化した後、該クラッドフィルムより屈折率の高いコアフィルムを上記と同様な方法で積層する。
また、製膜された薄膜をパターニングすることによりコア等を形成する工程においては、エッチングや露光・現像によりコア等が形成される。
エッチングとしては、ドライエッチング及びウエットエッチングが挙げられる。
ドライエッチングとしては、プラズマエッチング、反応性イオンエッチング、反応性スパッタエッチング、イオンビームエッチング等が挙げられ、異方性エッチングが可能なことから反応性イオンエッチングが好ましい。これらは、ガス組成、圧力、温度、周波数、出力等が制御因子であり、目的に適した条件で行う。
エッチングとしては、ドライエッチング及びウエットエッチングが挙げられる。
ドライエッチングとしては、プラズマエッチング、反応性イオンエッチング、反応性スパッタエッチング、イオンビームエッチング等が挙げられ、異方性エッチングが可能なことから反応性イオンエッチングが好ましい。これらは、ガス組成、圧力、温度、周波数、出力等が制御因子であり、目的に適した条件で行う。
一方、ウエットエッチングは、液相を用い、化学反応を利用したエッチングである。フッ化水素のような酸、水酸化アルカリ、エチレンジアミンのようなアルカリ、過マンガン酸カリウムのような酸化剤が用いられ、浸漬、流水、スプレー、ジェット、電解等の方法で用いられ、液組成、pH、粘度、温度、攪拌条件、処理時間、処理済み面積等が制御因子となる。例えば、ポリイミド樹脂を用いる場合は、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム水溶液、ヒドラジンとイソプロピルアルコール混合液、エチレンジアミンとピロカテコール混合水溶液等を加温して用いることができる。
一方、露光・現像によりコア等を形成する場合は、コア等を形成する薄膜は、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線が画像状に照射される。
活性光線の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射する公知の光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射するものも用いることができる。
活性光線の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射する公知の光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射するものも用いることができる。
次いで、露光後、ウェット現像、ドライ現像等で未露光部を除去して現像し、コアパターンを形成する。
ウェット現像の場合は、有機溶剤、アルカリ性水溶液、水系現像液等の前記樹脂フィルムの組成に対応した現像液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像する。
現像液としては、有機溶剤、アルカリ性水溶液等の安全かつ安定であり、操作性が良好なものが好ましく用いられる。前記有機溶剤系現像液としては、例えば、1,1,1−トリクロロエタン、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止のため、1〜20質量%の範囲で水を添加しても良い。
ウェット現像の場合は、有機溶剤、アルカリ性水溶液、水系現像液等の前記樹脂フィルムの組成に対応した現像液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像する。
現像液としては、有機溶剤、アルカリ性水溶液等の安全かつ安定であり、操作性が良好なものが好ましく用いられる。前記有機溶剤系現像液としては、例えば、1,1,1−トリクロロエタン、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止のため、1〜20質量%の範囲で水を添加しても良い。
上記アルカリ性水溶液の塩基としては、例えば、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ、リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩等が用いられる。
また、現像に用いるアルカリ性水溶液としては、例えば、0.1〜5質量%炭酸ナトリウムの希薄溶液、0.1〜5質量%炭酸カリウムの希薄溶液、0.1〜5質量%水酸化ナトリウムの希薄溶液、0.1〜5質量%四ホウ酸ナトリウムの希薄溶液等が好ましく挙げられる。また、現像に用いるアルカリ性水溶液のpHは9〜11の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光性樹脂組成物の層の現像性に合わせて調節される。
また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させても良い。
また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させても良い。
上記水系現像液としては、水又はアルカリ水溶液と一種以上の有機溶剤とからなる。ここでアルカリ物質としては、前記物質以外に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、1,3−ジアミノプロパノール−2、モルホリン等が挙げられる。
現像液のpHは、レジストの現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、pH8〜12とすることが好ましく、pH9〜10とすることがより好ましい。
現像液のpHは、レジストの現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、pH8〜12とすることが好ましく、pH9〜10とすることがより好ましい。
上記有機溶剤としては、例えば、三アセトンアルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数1〜4のアルコキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
有機溶剤の濃度は、通常、2〜90質量%とすることが好ましく、その温度は、現像性にあわせて調整することができる。また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入することもできる。
有機溶剤の濃度は、通常、2〜90質量%とすることが好ましく、その温度は、現像性にあわせて調整することができる。また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入することもできる。
また、必要に応じて2種類以上の現像方法を併用しても良い。現像の方式としては、例えば、ディップ方式、バトル方式、高圧スプレー方式等のスプレー方式、ブラッシング、スラッピング等が挙げられる。
本発明に用いられる複合光導波路形成用樹脂材料はコアがクラッドより高屈折率であるように設計される。
この複合光導波路形成用樹脂材料としては、(A)ベースポリマー、(B)光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する樹脂組成物が好ましい。
この複合光導波路形成用樹脂材料としては、(A)ベースポリマー、(B)光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する樹脂組成物が好ましい。
ここで用いる(A)ベースポリマーは、フィルム等の硬化物を形成する場合に、その強度を確保するためのものであり、その目的を達成し得るものであれば特に限定されず、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン等、あるいはこれらの誘導体等が挙げられる。これらのベースポリマーは1種単独でも、また2種以上を混合して用いても良い。
上記で例示したベースポリマーのうち、耐熱性が高いとの観点から、主鎖に芳香族骨格を有することが好ましく、特にフェノキシ樹脂が好ましい。
上記で例示したベースポリマーのうち、耐熱性が高いとの観点から、主鎖に芳香族骨格を有することが好ましく、特にフェノキシ樹脂が好ましい。
また、上記の樹脂組成物を用いてフィルム化する場合に、該フィルムの透明性を確保することが重要であり、そのためには、後に詳述する(B)光重合性化合物との相溶性が高いことが必要である。この点からは、上記フェノキシ樹脂及び(メタ)アクリル樹脂が好ましい。なお、ここで(メタ)アクリル樹脂とは、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂を意味するものである。
上記フェノキシ樹脂としては、例えば、直鎖状高分子重合体のフェノキシ樹脂が挙げられる。この直鎖状高分子重合体のフェノキシ樹脂は、一般的にビスフェノールAとエピクロルヒドリンとを重縮合反応させる一段法によって、又は低分子量のエポキシ樹脂とビスフェノールAとを重付加反応させる二段法によって製造されるものであり、具体例としては、東都化成(株)製「YP−50」(商品名)等が挙げられる。
また、上記のフェノキシ樹脂の他に、種々の2官能エポキシ樹脂とビスフェノール類とを重付加反応した高分子量体、例えば臭素化フェノキシ樹脂、ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型フェノキシ樹脂、リン含有フェノキシ樹脂、フルオレン骨格を導入した高耐熱性フェノキシ樹脂等もフェノキシ樹脂として知られている。
(A)ベースポリマーとしては、ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型フェノキシ樹脂が特に好適に挙げられ、例えば、東都化成(株)製、商品名「フェノトートYP−70」として入手可能である。
(A)ベースポリマーとしては、ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型フェノキシ樹脂が特に好適に挙げられ、例えば、東都化成(株)製、商品名「フェノトートYP−70」として入手可能である。
次に、室温で固形のエポキシ樹脂としては、例えば、東都化成(株)製「エポトートYD−7020、エポトートYD−7019、エポトートYD−7017」(いずれも商品名)、ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート1010、エピコート1009、エピコート1008」(いずれも商品名)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂がある。
(A)ベースポリマーの配合量は、(A)成分及び(B)成分の全質量に対して、5〜80質量%とすることが好ましい。この配合量が、5質量%以上であると、光重合性化合物及び光重合開始剤を含有する樹脂組成物をフィルム化することが容易となる。特に、10質量%以上であるとフィルムを形成する場合に、膜厚50μm以上の厚膜フィルムでも容易に製造することが可能であり、より好ましい。
一方、(A)成分の配合量が、80質量%以下であると、光導波路を形成する際に、パターン形成性が向上し、かつ光硬化反応が十分に進行する。以上の観点から、(A)ベースポリマーの配合量は、20〜70質量%とすることがさらに好ましい。
一方、(A)成分の配合量が、80質量%以下であると、光導波路を形成する際に、パターン形成性が向上し、かつ光硬化反応が十分に進行する。以上の観点から、(A)ベースポリマーの配合量は、20〜70質量%とすることがさらに好ましい。
次に、(B)光重合性化合物は、紫外線等の光の照射によって重合するものであれば特に制限はない。例えば、光に対する反応性の観点から、(B)光重合性化合物としては、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物であることが好ましい。具体的には、(メタ)アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルピリジン、ビニルフェノール等が挙げられる。これらの中で、透明性と耐熱性の観点から、(メタ)アクリレートが好ましい。
(メタ)アクリレートとしては、1官能性のもの、2官能性のもの、3官能性のもののいずれをも用いることができる。なお、ここで(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
重合により生じた3次元網目構造中にベースポリマーを絡み込んで硬化することができる観点から、(B)成分として少なくとも1つは、2官能性以上のメタ)アクリレートを用いるのが好ましい。
(メタ)アクリレートとしては、1官能性のもの、2官能性のもの、3官能性のもののいずれをも用いることができる。なお、ここで(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
重合により生じた3次元網目構造中にベースポリマーを絡み込んで硬化することができる観点から、(B)成分として少なくとも1つは、2官能性以上のメタ)アクリレートを用いるのが好ましい。
上述した(B)成分の中では、特に透明性と耐熱性を両立し得る観点から、エポキシ(メタ)アクリレートを用いるのが好ましい。
代表的なエポキシ(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノールAエポキシアクリレートがある。
ビスフェノールAエポキシアクリレートは、フェノキシ樹脂との相溶性に優れており、高い透明性が実現できるため、(A)成分としてフェノキシ樹脂を、(B)成分としてビスフェノールAエポキシアクリレートを用いることは、非常に好ましい態様である。
なお、このビスフェノールAエポキシアクリレートは、新中村化学工業(株)製、商品名「EA−1020」として商業的に入手可能である。
代表的なエポキシ(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノールAエポキシアクリレートがある。
ビスフェノールAエポキシアクリレートは、フェノキシ樹脂との相溶性に優れており、高い透明性が実現できるため、(A)成分としてフェノキシ樹脂を、(B)成分としてビスフェノールAエポキシアクリレートを用いることは、非常に好ましい態様である。
なお、このビスフェノールAエポキシアクリレートは、新中村化学工業(株)製、商品名「EA−1020」として商業的に入手可能である。
また、透明性の観点からは、(B)成分として、アクリル(メタ)アクリレートを使用することも好適であり、特に(A)成分として、(メタ)アクリル樹脂を組み合わせた場合にその効果は著しく高い。
アクリル(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、一般的にはグリシジルアクリレートの重合体に1官能性の(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリル酸を付加させたものである。ここで(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸を意味するものである。
アクリル(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、一般的にはグリシジルアクリレートの重合体に1官能性の(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリル酸を付加させたものである。ここで(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及びメタクリル酸を意味するものである。
光導波路形成用樹脂材料を用いて光導波路を形成する場合、後に詳述するように屈折率の高いコア材料と、屈折率の低いクラッド材料が必要となる。ここで、コア材料用の(B)光重合性化合物としては、高透明性、高耐熱性、(A)成分との相溶性に加え、高屈折率性を考慮して、フルオレンジ(メタ)アクリレートを構成成分として含むことが好ましい。フルオレンジ(メタ)アクリレートは市販品として入手可能である{新中村化学(株)製、商品名「A−BPEF」}。
(B)光重合性化合物の配合量は、(A)成分及び(B)成分の全質量に対して、20〜95質量%とすることが好ましい。この配合量が20質量%以上であると、(A)ベースポリマーを絡み込んで硬化させることが容易にでき、光導波路を形成する際に、パターン形成性が向上する利点がある。一方、95質量%以下であると、(A)成分の添加によるフィルム化が容易となり、さらに厚膜のフィルムを容易に製造するとの観点からは、90質量%以下であることが好ましい。以上の観点から、(B)光重合性化合物の配合量は30〜80質量%とすることがさらに好ましい。
(C)光重合開始剤としては、紫外線等の光の照射により(B)光重合性化合物の重合を生じさせる化合物であれば、特に制限はない。例えば、(B)成分にフルオレンジ(メタ)アクリレートや(メタ)アクリレート等の分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、(C)光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、N,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N’−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1,2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン等の芳香族ケトン;2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、2−メチル1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルアントラキノン等のキノン類;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物;ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物;ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体類;2−メルカプトベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール類;ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等のフォスフィンオキサイド類;9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9’−アクリジニル)ヘプタン等のアクリジン誘導体;N−フェニルグリシン、N−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物等が挙げられる。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。
上記化合物のうち、コア及びクラッドの透明性を向上させる観点から、芳香族ケトン及びフォスフィンオキサイド類が好ましい。
上記化合物のうち、コア及びクラッドの透明性を向上させる観点から、芳香族ケトン及びフォスフィンオキサイド類が好ましい。
(B)成分にエポキシ樹脂を用いる場合、(C)光重合開始剤としては、例えば、p−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩;ジフェニルヨードニウムヘキサフロロホスホニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロアンチモネート塩等のジアリールヨードニウム塩;トリフェニルスルホニウムヘキサフロロホスホニウム塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフロロホスホニウム塩、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフロロヒドロキシアンチモネート塩等のトリアリールスルホニウム塩;トリフェニルセレノニウムヘキサフロロホスホニウム塩、トリフェニルセレノニウムホウフッ化塩、トリフェニルセレノニウムヘキサフロロアンチモネート塩等のトリアリールセレノニウム塩;ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩等のジアルキルフェナシルスルホニウム塩;4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩、4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート等のジアルキル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウム塩;α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、N−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトン等のスルホン酸エステル等が挙げられる。
これらの(C)光重合開始剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。
また、必要に応じて、上記の(C)光重合開始剤と光重合開始助剤(増感剤)とを併用することができる。
これらの(C)光重合開始剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。
また、必要に応じて、上記の(C)光重合開始剤と光重合開始助剤(増感剤)とを併用することができる。
(C)光重合開始剤の配合量は、(A)成分及び(B)成分の全量100質量部に対して、0.1〜10質量部とすることが好ましい。この配合量が0.1質量部以上であると、光感度が十分であり、一方10質量部以下であると、露光時に感光性樹脂組成物の表層での吸収が増大することがなく、内部の光硬化が十分となる。さらに、光導波路として使用する際には、重合開始剤自身の光吸収の影響により伝搬損失が増大することもなく好適である。以上の観点から、(C)光重合開始剤の配合量は、0.2〜5質量部とすることがさらに好ましい。
また、上記の複合光導波路形成用樹脂材料の(A)ベースポリマーとして、含フッ素アクリルポリマーも好適に用いられる。この含フッ素アクリルポリマーを用いる場合は、(B)光重合性化合物としてフッ素化(メタ)アクリレート又は水酸基含有フッ素化(メタ)アクリレート並びに2官能及び/又は3官能(メタ)アクリレートが好適に用いられる。
さらに、上記の複合光導波路形成用樹脂材料として、フッ素化ポリイミドも好適に用いられる。フッ素化ポリイミドは、ポリイミドの持つ優れた耐熱性に加え、高い光透過性を備えているからである。例えば、日立化成工業株式会社製、商品名「OPI−N1005」、商品名「OPI−N3205」、商品名「OPI−N3305」、商品名「OPI−N3405」等が、屈折率が調整された光導波路形成用樹脂材料として入手可能である。
上記の複合光導波路形成用樹脂材料は、必要に応じて、上記した(A)〜(C)成分を含有する樹脂組成物中に内部離型剤、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤等のいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で添加しても良い。
本発明に係る複合光導波路形成用樹脂材料に用いられる溶媒としては、該樹脂組成物を溶解し得るものであれば特に限定されず、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶媒又はこれらの混合溶媒を用いることができる。
樹脂溶液中の固形分濃度は、通常30〜80質量%程度であり、好ましくは30〜60質量%である。
樹脂溶液中の固形分濃度は、通常30〜80質量%程度であり、好ましくは30〜60質量%である。
本発明の複合光導波路1の製造工程において、上述のように基板を用いることが好ましい。この基板の種類としては、特に制限はないが、例えば、フレキシブル基板、FR−4基板、半導体基板、シリコン基板やガラス基板等を用いることができる。
上述の各種基板のうち、フレキシブル基板は、光導波路に柔軟性及び強靭性を付与させることができるので好ましい。
上述の各種基板のうち、フレキシブル基板は、光導波路に柔軟性及び強靭性を付与させることができるので好ましい。
フレキシブル基板の材料は特に限定されないが、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等が好適に挙げられる。
本発明の複合光導波路1の製造過程で、光導波路形成用樹脂フィルムを用いる場合は、必要に応じ、第1クラッド等を支持する支持体等としての基材を用いても良い。その材料については特に限定されないが、後に光導波路形成用フィルムを剥離することが容易であり、かつ、耐熱性及び耐溶剤性を有するとの観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル;ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等が好適に挙げられる。
該基材の厚さとしては、5〜50μmの範囲であることが好ましい。5μm以上であると、支持体としての強度が得やすいという利点があり、50μm以下であると、コアパターン形成時にマスクとのギャップが小さくなり、より微細なコアパターンが形成できるという利点がある。以上の観点から、該基材の厚さは10〜40μmの範囲であることがより好ましく、さらには15〜30μm、特には15〜25μmであることが好ましい。
このような基材としては、東洋紡績(株)製、商品名「コスモシャインA1517」や「コスモシャインA4100」として入手可能である。
該基材の厚さとしては、5〜50μmの範囲であることが好ましい。5μm以上であると、支持体としての強度が得やすいという利点があり、50μm以下であると、コアパターン形成時にマスクとのギャップが小さくなり、より微細なコアパターンが形成できるという利点がある。以上の観点から、該基材の厚さは10〜40μmの範囲であることがより好ましく、さらには15〜30μm、特には15〜25μmであることが好ましい。
このような基材としては、東洋紡績(株)製、商品名「コスモシャインA1517」や「コスモシャインA4100」として入手可能である。
本発明の複合光導波路1において、コア部分の屈折率は、クラッドのいずれの屈折率よりも大きくなるように設計されることを要する。
したがって、波長400〜1,600nmの光に対して、コア部分の屈折率としては、1.420〜1.750の範囲内の値とし、クラッドの屈折率としては、それぞれ1.400〜1.748の範囲内の値とすることが好ましい。
また、コア部分の屈折率としては、クラッドの屈折率よりも少なくとも0.1%大きい値とすることが好ましく、特に、クラッドの屈折率よりも少なくとも0.5%大きい値とすることが好ましい。
したがって、波長400〜1,600nmの光に対して、コア部分の屈折率としては、1.420〜1.750の範囲内の値とし、クラッドの屈折率としては、それぞれ1.400〜1.748の範囲内の値とすることが好ましい。
また、コア部分の屈折率としては、クラッドの屈折率よりも少なくとも0.1%大きい値とすることが好ましく、特に、クラッドの屈折率よりも少なくとも0.5%大きい値とすることが好ましい。
本発明の複合光導波路1において、光伝搬損失が、0.5dB/cm以下であることが好ましい。0.5dB/cm以下であると、高透明性を有し、光の損失による伝送信号の強度低下を抑えることができる。以上の観点から、さらに0.3dB/cm以下であることが好ましい。
以下に、本発明を実施例によりさらに詳細に記述するが、本発明は、これらの実施例によってなんら限定されるものではない。
実施例1
表1に示す配合にて、コア用及びクラッド用樹脂組成物を準備し、これらの樹脂組成物100質量部に対して溶剤としてエチルセロソルブを40質量部加え、第2コア用及び第3クラッド用樹脂ワニスを調合した。
実施例1
表1に示す配合にて、コア用及びクラッド用樹脂組成物を準備し、これらの樹脂組成物100質量部に対して溶剤としてエチルセロソルブを40質量部加え、第2コア用及び第3クラッド用樹脂ワニスを調合した。
*1 フェノトートYP−70;フェノキシ樹脂{東都化成(株)製}、ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型フェノキシ樹脂
*2 A−BPEF;フルオレンジアクリレート{新中村化学(株)製}、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン
*3 EA−1020;ビスフェノールA型エポキシアクリレート{新中村化学(株)製}
*4 KRM−2110;2官能脂環式エポキシ樹脂{旭電化工業(株)製}、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート
*5 2,2−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール;東京化成工業(株)製
*6 N,N’−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン;東京化成工業(株)製
*7 2−メルカプトベンゾイミダゾール;東京化成工業(株)製
*8 SP−170;トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩{旭電化工業(株)製}
*2 A−BPEF;フルオレンジアクリレート{新中村化学(株)製}、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン
*3 EA−1020;ビスフェノールA型エポキシアクリレート{新中村化学(株)製}
*4 KRM−2110;2官能脂環式エポキシ樹脂{旭電化工業(株)製}、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート
*5 2,2−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール;東京化成工業(株)製
*6 N,N’−テトラエチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン;東京化成工業(株)製
*7 2−メルカプトベンゾイミダゾール;東京化成工業(株)製
*8 SP−170;トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩{旭電化工業(株)製}
得られた第2コア用及び第3クラッド用樹脂ワニスを、PETフイルム{東洋紡績(株)製、商品名「コスモシャインA1517」、厚さ16μm}にアプリケーター{ヨシミツ精機(株)製、商品名「YBA-4」}を用いて塗布し(クラッド形成用樹脂フイルム:巻内の接着処理面仕様、コア形成用樹脂フイルム:巻外の非処理面使用)、80℃で10分、その後100℃で10分の条件で溶剤を乾燥させ、第2コア及び第3クラッド形成用樹脂フイルムを得た。
このときのフイルムの厚さは、アプリケーターの間隙を調節することで、5〜100μmの間で任意に調整可能であり、本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μm、第3クラッド80μmとなるように調節した。
このときのフイルムの厚さは、アプリケーターの間隙を調節することで、5〜100μmの間で任意に調整可能であり、本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μm、第3クラッド80μmとなるように調節した。
次に、ポリイミド製のフレキシブル基板の上面全体に、日立化成工業株式会社製商品名「OPI−N3205」(商標)をスピンコート法で塗布して材料溶液膜を形成した後、乾燥器により100℃で30分、次いで、200℃で30分加熱することにより溶媒を蒸発させ、続けて370℃で60分加熱することにより硬化させ、第1クラッドを形成した。第1クラッドの膜厚は、20μmであった。
この第1クラッドの上に、日立化成工業株式会社製商品名「OPI−N3305」(商標)をスピンコート法で塗布して材料溶液膜を形成した後、乾燥器で100℃で30分、次いで、200℃で30分加熱することにより溶媒を蒸発させ、続けて350℃で60分加熱することにより硬化を行い、第1コアを形成するポリイミド層を形成した。このポリイミド層の膜厚は、6μmであった。
次に、このポリイミド層の上にレジストをスピンコート法で塗布し、乾燥後、水銀ランプで露光、現像することにより、レジストパターン層を形成し、第1コアとなるポリイミド膜から第1コアの形状に加工するためのマスクとして用いた。このレジストパターン層をマスクとして、第1コアとなるポリイミド層を酸素で反応性イオンエッチング(O2−R1E)することにより、図5に示す複数の第1コアを形成した。第1コアの断面積は、6μm×6μmであった。その後、レジストパターン層を剥離した。
次に、このポリイミド層の上にレジストをスピンコート法で塗布し、乾燥後、水銀ランプで露光、現像することにより、レジストパターン層を形成し、第1コアとなるポリイミド膜から第1コアの形状に加工するためのマスクとして用いた。このレジストパターン層をマスクとして、第1コアとなるポリイミド層を酸素で反応性イオンエッチング(O2−R1E)することにより、図5に示す複数の第1コアを形成した。第1コアの断面積は、6μm×6μmであった。その後、レジストパターン層を剥離した。
次に、第1コア及び第1クラッドを覆うように、日立化成工業株式会社製商品名「OPI−N3205」(商標)をスピンコート法で塗布して材料溶液膜を形成した後、乾燥器により100℃で30分、次いで、200℃で30分加熱して材料溶液膜の溶媒を蒸発させ、350℃で60分加熱することにより第2クラッド形成用ポリイミド膜を形成した。
次に、この第2クラッド上に、平板型ラミネータとして真空加圧式ラミネータ{(株)名機製作所製、「MVLPT500」}を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度70℃、加圧時間30秒の条件にて上記の第2コア形成用樹脂フィルムをラミネートした。
続いて、幅50μmのホトマスク(ネガ型)を介し、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を1000mJ/cm2照射した後、エチルセロソルブとN,N−ジメチルアセトアミドの8対2質量比混合溶剤で、図5に示す第2コアのコアパターンを現像した。現像液の洗浄には、メタノール及び水を用いた。得られた第2コアの断面積は、50μm×50μmであった。
続いて、幅50μmのホトマスク(ネガ型)を介し、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を1000mJ/cm2照射した後、エチルセロソルブとN,N−ジメチルアセトアミドの8対2質量比混合溶剤で、図5に示す第2コアのコアパターンを現像した。現像液の洗浄には、メタノール及び水を用いた。得られた第2コアの断面積は、50μm×50μmであった。
次いで、真空加圧式ラミネータ{(株)名機製作所製、「MVLP−500」}を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度70℃、加圧時間30秒のラミネート条件にて第3クラッド形成用樹脂フイルムをラミネートし、活性光線として365nmでの照射強度が10mW/cm2である紫外線照射を散乱紫外線照射機{(株)製「アイドルフィン3000」)により3.6J/cm2照射し、その後110℃、1時間で加熱処理を行い、図5の形態を有する実施例1の複合光導波路を作製した。
なお、第1コア、第2コア、第1クラッド、第2クラッド及び第3クラッドの屈折率をそれぞれMetricon社製プリズムカプラー「Model 2010」で測定したところ、波長1310nmにて、第1クラッドが1.527、第1コアが1.531、第2クラッドが1.527であり、波長850nmにて、第2クラッドが1.540、第2コアが1.584、第3クラッドが1.537であった。
実施例2
実施例1と同様にして、表1の示す配合にて、第2コア用及び第3クラッド用樹脂組成物を準備し、これらの樹脂組成物100質量部に対して溶剤としてエチルセロソルブを40質量部加え、第2コア用樹脂ワニスを調合し、第3クラッド用樹脂組成物から第2クラッド用樹脂ワニスを調合した。
得られた第2コア用及び第2クラッド用樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、第2コア及び第2クラッド形成用樹脂フイルムを得た。本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μm、第2クラッド80μmとなるように調節した。
実施例1と同様にして、表1の示す配合にて、第2コア用及び第3クラッド用樹脂組成物を準備し、これらの樹脂組成物100質量部に対して溶剤としてエチルセロソルブを40質量部加え、第2コア用樹脂ワニスを調合し、第3クラッド用樹脂組成物から第2クラッド用樹脂ワニスを調合した。
得られた第2コア用及び第2クラッド用樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、第2コア及び第2クラッド形成用樹脂フイルムを得た。本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μm、第2クラッド80μmとなるように調節した。
次に、ポリイミド製のフレキシブル基板の上面全体に、日立化成工業株式会社製、商品名「OPI−N3205」(商標)を用いて、実施例1と同様にして図7に示す第1クラッドを形成した。第1クラッドの膜厚は、20μmであった。
この第1クラッドの上に、日立化成工業株式会社製商品名「OPI−N3305」(商標)を用いて実施例1と同様にして図7に示す第1コアを形成した。第1コアの断面積は、6μm×6μmであった。その後、レジストパターン層を剥離した。
この第1クラッドの上に、日立化成工業株式会社製商品名「OPI−N3305」(商標)を用いて実施例1と同様にして図7に示す第1コアを形成した。第1コアの断面積は、6μm×6μmであった。その後、レジストパターン層を剥離した。
次に、第1コアと隣接する第1クラッド上であって、第1コアと同一平面上に、実施例1と同様にして、図7に示す第2コアのコアパターンを現像した。現像液の洗浄には、メタノール及び水を用いた。得られた第2コアの断面積は、50μm×50μmであった。
次いで、実施例1と同様にして、第2クラッド形成用樹脂フイルムをラミネートし、紫外線照射し、その後加熱処理して、図7の形態を有する実施例2の複合光導波路を作製した。
次いで、実施例1と同様にして、第2クラッド形成用樹脂フイルムをラミネートし、紫外線照射し、その後加熱処理して、図7の形態を有する実施例2の複合光導波路を作製した。
なお、第1コア、第2コア、第1クラッド及び第2クラッドの屈折率をそれぞれMetricon社製プリズムカプラー「Model 2010」で測定したところ、波長1310nmにて、第1クラッドが1.527、第1コアが1.531、第2クラッドが1.530であり、波長850nmにて、第1クラッドが1.540、第2コアが1.584、第2クラッドが1.537であった。
実施例3
実施例1と同様にして、表1の示す配合にて、第2コア用樹脂組成物を準備し、この樹脂組成物100質量部に対して溶剤としてエチルセロソルブを40質量部加え、第2コア用樹脂ワニスを調合した。
得られた第2コア用樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、第2コア形成用樹脂フイルムを得た。本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μmとなるように調節した。
実施例1と同様にして、表1の示す配合にて、第2コア用樹脂組成物を準備し、この樹脂組成物100質量部に対して溶剤としてエチルセロソルブを40質量部加え、第2コア用樹脂ワニスを調合した。
得られた第2コア用樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、第2コア形成用樹脂フイルムを得た。本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μmとなるように調節した。
含フッ素アクリルポリマー{ダイキン工業(株)製、商品名「オプトフロンFM−450」}75質量部、水酸基含有フッ素化メタクリレート{ダイキン工業(株)製、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、商品名「M−1433」}20質量部、及び2官能フッ素化アクリレート(Synquest Labs. Inc.製、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1,6−へキシルジアクリレート)5質量部を配合(溶剤としてメチルエチルケトンを112質量部使用)し、これに光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(練)製、商品名「イルガキュア819」、及びチバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア2959」、質量比1:1混合物)を2質量部加えクラッド用樹脂組成物を用意した。これをポリイミド製のフレキシブル基板の上面全体に、上にスピンコート法で塗布し、80℃、10分の条件にて乾燥して溶剤を揮発させた。このときのフィルムの厚さは、スピンコート回転数を調節することで5μmから50μmの間で任意に調節可能であり、本実施例では20μmとした。
これにPETフィルム{(株)東洋紡製、商品名「A1517」}非処理面をラミネートし、超高圧水銀ランプ{大日本スクリーン製造(株)製、「MA−1000」}を用いて1000mJ/cm2(波長365nm)光照射し、PETフィルム剥離後、120℃で1時間加熟し、厚さ20μmの第1クラッドを得た。
これにPETフィルム{(株)東洋紡製、商品名「A1517」}非処理面をラミネートし、超高圧水銀ランプ{大日本スクリーン製造(株)製、「MA−1000」}を用いて1000mJ/cm2(波長365nm)光照射し、PETフィルム剥離後、120℃で1時間加熟し、厚さ20μmの第1クラッドを得た。
次に、含フッ素アクリルポリマー{ダイキン工業(株)製、商品名「オプトフロンFM−450」}10質量部、水酸基含有フッ素化メタクリレート{ダイキン工業(株)製、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、商品名「M−1433」}60質量部、及び3官能アクリレート(新中村化学工業(株)製、商品名「A−9300」)30質量部を配合(溶剤としてメチルエチルケトンを15質量部使用)し、これに光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア819」、及びチバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア2959」、質量比1:1混合物)を2質量部加え、第1コア用樹脂組成物を用意した。これを先に作製した第1クラッド上にスピンコート法を用いて塗布し、80℃、10分の条件にて乾燥して溶剤を揮発させた。このときのフィルムの厚さはアプリケーターの間隙(ギャップ)を調節することで5μmから100μmの間で任意に調整可能であり、本実施例では6μmとした。
これにPETフイルム{(株)東洋紡製、商品名「A1517」}非処理面をラミネートし、幅6μmのホトマスク(ネガ型)を介し、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を1000mJ/cm2照射した後、酢酸ノルマルブチルとイソプロパノールの5対5質量比混合溶剤で、図5に示す第1コアのコアパターンを現像した。現像液の洗浄には、メタノール及び水を用いた。PETフィルム剥離後、120℃で1時間加熟し、図5に示す複数の第1コアを形成した。第1コアの断面積は、6μm×6μmであった。
これにPETフイルム{(株)東洋紡製、商品名「A1517」}非処理面をラミネートし、幅6μmのホトマスク(ネガ型)を介し、上記紫外線露光機にて紫外線(波長365nm)を1000mJ/cm2照射した後、酢酸ノルマルブチルとイソプロパノールの5対5質量比混合溶剤で、図5に示す第1コアのコアパターンを現像した。現像液の洗浄には、メタノール及び水を用いた。PETフィルム剥離後、120℃で1時間加熟し、図5に示す複数の第1コアを形成した。第1コアの断面積は、6μm×6μmであった。
次に、第1コア及び第1クラッドを覆うように、上記クラッド用樹脂組成物をスピンコート法で塗布し、80℃、10分の条件にて乾燥して溶剤を揮発させた。このときのフィルムの厚さは、70μmとした。
これにPETフィルム{(株)東洋紡製、商品名「A1517」}非処理面をラミネートし、超高圧水銀ランプ{大日本スクリーン製造(株)製、「MA−1000」}を用いて1000mJ/cm2(波長365nm)光照射し、PETフィルム剥離後、120℃で1時間加熟し第2クラッド形成用樹脂膜を形成した。
これにPETフィルム{(株)東洋紡製、商品名「A1517」}非処理面をラミネートし、超高圧水銀ランプ{大日本スクリーン製造(株)製、「MA−1000」}を用いて1000mJ/cm2(波長365nm)光照射し、PETフィルム剥離後、120℃で1時間加熟し第2クラッド形成用樹脂膜を形成した。
次に、この第2クラッド上に、上記の第2コア形成用樹脂フィルムを用いて、実施例1と同様にして図5に示す第2コアを形成した。第2コアの断面積は、50μm×50μmであった。
次に、第2コア及び第2クラッドを覆うように、上記クラッド用樹脂組成物をスピンコート法で塗布し、80℃、10分の条件にて乾燥して溶剤を揮発させた。このときのフィルムの厚さは、70μmとした。
これにPETフィルム{(株)東洋紡製、商品名「A1517」}非処理面をラミネートし、超高圧水銀ランプ{大日本スクリーン製造(株)製、「MA−1000」}を用いて1000mJ/cm2(波長365nm)光照射し、PETフィルム剥離後、120℃で1時間加熟し第3クラッド形成用樹脂膜を形成し、図5の形態を有する実施例3の複合光導波路を作製した。
これにPETフィルム{(株)東洋紡製、商品名「A1517」}非処理面をラミネートし、超高圧水銀ランプ{大日本スクリーン製造(株)製、「MA−1000」}を用いて1000mJ/cm2(波長365nm)光照射し、PETフィルム剥離後、120℃で1時間加熟し第3クラッド形成用樹脂膜を形成し、図5の形態を有する実施例3の複合光導波路を作製した。
なお、第1コア、第2コア、第1クラッド、第2クラッド及び第3クラッドの屈折率をそれぞれMetricon社製プリズムカプラー「Model 2010」で測定したところ、波長1310nmにて、第1クラッドが1.4083、第1コアが1.4396、第2クラッドが1.4083であり、波長850nmにて、第2クラッドが1.4150、第2コアが1.584、第3クラッドが1.4150であった。
実施例4
実施例3と同様にして、表1の示す配合にて、第2コア用樹脂組成物を準備し、この樹脂組成物100質量部に対して溶剤としてエチルセロソルブを40質量部加え、第2コア用樹脂ワニスを調合した。
得られた第2コア用樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、第2コア形成用樹脂フィルムを得た。本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μmとなるように調節した。
実施例3と同様にして、表1の示す配合にて、第2コア用樹脂組成物を準備し、この樹脂組成物100質量部に対して溶剤としてエチルセロソルブを40質量部加え、第2コア用樹脂ワニスを調合した。
得られた第2コア用樹脂ワニスを用い、実施例1と同様にして、第2コア形成用樹脂フィルムを得た。本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μmとなるように調節した。
次に、ポリイミド製のフレキシブル基板の上面全体に、実施例3で得られた第1クラッド用樹脂組成物を用いて、実施例3と同様にして第1クラッドを得た。第1クラッドの厚さは20μmであった。
次いで、実施例3で得られた第1コア用樹脂組成物を用いて、実施例3と同様にして第1コアを得た。第1コアの断面積は、6μm×6μmであった。
次いで、実施例3で得られた第1コア用樹脂組成物を用いて、実施例3と同様にして第1コアを得た。第1コアの断面積は、6μm×6μmであった。
次に、第1コアと隣接する第1クラッド上であって、第1コアと同一平面上に、上記の第2コア形成用樹脂フィルムを用いて、実施例2と同様にして、図7に示す第2コアを形成した。第2コアの断面積は、50μm×50μmであった。
次いで、第1コア、第2コア及び第1クラッドを覆うように、上記クラッド用樹脂組成物をスピンコート法で塗布し、80℃、10分の条件にて乾燥して溶剤を揮発させた。このときのフィルムの厚さは、70μmとした。
次いで、実施例3と同様にして、図7の形態を有する実施例4の複合光導波路を作製した。
次いで、第1コア、第2コア及び第1クラッドを覆うように、上記クラッド用樹脂組成物をスピンコート法で塗布し、80℃、10分の条件にて乾燥して溶剤を揮発させた。このときのフィルムの厚さは、70μmとした。
次いで、実施例3と同様にして、図7の形態を有する実施例4の複合光導波路を作製した。
なお、第1コア、第2コア、第1クラッド及び第2クラッドの屈折率をそれぞれMetricon社製プリズムカプラー「Model 2010」で測定したところ、波長1310nmにて、第1クラッドが1.4083、第1コアが1.4396、第2クラッドが1.4083であり、波長850nmにて、第1クラッドが1.4150、第2コアが1.584、第2クラッドが 1.4150であった。
実施例5
N−シクロヘキシルマレイミド20質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート40質量部、2−エチルヘキシルメタクリレート25質量部、メタクリル酸15質量部を2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)3質量部を用いて80℃で6時間かけて重合し、(メタ)アクリルポリマーP−1を得た。
P−1の重量平均分子量(標準ポリスチレン換算)をGPC(東ソー株式会社製、商品名SD−8022/DP−8020/RI−8020)を使用して測定した結果、27,000であった。なお、カラムは日立化成工業株式会社製、商品名Gelpack GL−A150−S/GL−A160−Sを使用した。次に上記P−1溶液(固形分36質量%、溶剤プロピレングリコールモノメチルアセテート)168質量部(固形分60質量部)と、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート7質量部を、ジブチルスズジラウリレート0.03質量部及びp−メトキシフェノール0.1質量部を触媒に用いて反応させ、60℃で4時間反応させ、連鎖重合可能な官能基を有する(メタ)アクリルポリマーP−2溶液(固形分40質量%)を得た。
上記と同様の方法で、P−2の重量平均分子量を測定した結果、27,000であった。
N−シクロヘキシルマレイミド20質量部、ジシクロペンタニルメタクリレート40質量部、2−エチルヘキシルメタクリレート25質量部、メタクリル酸15質量部を2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)3質量部を用いて80℃で6時間かけて重合し、(メタ)アクリルポリマーP−1を得た。
P−1の重量平均分子量(標準ポリスチレン換算)をGPC(東ソー株式会社製、商品名SD−8022/DP−8020/RI−8020)を使用して測定した結果、27,000であった。なお、カラムは日立化成工業株式会社製、商品名Gelpack GL−A150−S/GL−A160−Sを使用した。次に上記P−1溶液(固形分36質量%、溶剤プロピレングリコールモノメチルアセテート)168質量部(固形分60質量部)と、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート7質量部を、ジブチルスズジラウリレート0.03質量部及びp−メトキシフェノール0.1質量部を触媒に用いて反応させ、60℃で4時間反応させ、連鎖重合可能な官能基を有する(メタ)アクリルポリマーP−2溶液(固形分40質量%)を得た。
上記と同様の方法で、P−2の重量平均分子量を測定した結果、27,000であった。
前記P−2溶液(固形分40質量%)150質量部(固形分60質量部)、フルオレンジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、商品名A−BPEF)20質量部、p−クミルフェノキシエチルアクリレート(新中村化学工業株式会社製、商品名A−CMP−1E)20質量部及びオキシフェニル酢酸、2−[2−オキソ−2−フェニルアセトキシエトキシ]エチルエステルとオキシフェニル酢酸、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチルエステルの混合物(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア754)2質量部を混合し、第2コア用樹脂ワニスを調合した。
次に、前記P−2溶液(固形分40質量%)150質量部(固形分60質量部)、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、商品名A−CHD−4E)20質量部、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート(新中村化学工業株式会社製、商品名A−9300S)20質量部及び1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、商品名イルガキュア2959)1質量部とビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製イルガキュア819)1質量部を混合し、第3クラッド用樹脂ワニスを調合した。
得られた第2コア用樹脂ワニス及び第3クラッド用樹脂ワニスを用い、PETフイルム{東洋紡績(株)製、商品名「コスモシャインA1517」、厚さ16μm}にアプリケーター{ヨシミツ精機(株)製、商品名「YBA-4」}を用いて塗布し(クラッド形成用樹脂フイルム:巻内の接着処理面仕様、コア形成用樹脂フイルム:巻外の非処理面使用)、80℃で10分、その後100℃で10分の条件で溶剤を乾燥させ、第2コア及び第3クラッド形成用樹脂フイルムを得た。
このときのフイルムの厚さは、アプリケーターの間隙を調節することで、5〜100μmの間で任意に調整可能であり、本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μm、第3クラッド80μmとなるように調節した。
実施例1で作製した、第2クラッドまで形成した光導波路上に、ロールラミネータを用いて、第2コア用樹脂フィルムを、圧力0.4MPa、温度80℃及び速度0.4m/minの条件で積層した。
次いで、幅50μmのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を1500mJ/cm2照射し、さらに80℃で5分間露光後加熱を行った。
基材フィルム(A1517)を除去し、現像液(1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を用い、第2コアを現像した後、20%イソプロピルアルコール水溶液、次いで純水を用いて洗浄し、100℃で1時間加熱乾燥した。
このときのフイルムの厚さは、アプリケーターの間隙を調節することで、5〜100μmの間で任意に調整可能であり、本実施例では、硬化後の膜厚が、第2コア50μm、第3クラッド80μmとなるように調節した。
実施例1で作製した、第2クラッドまで形成した光導波路上に、ロールラミネータを用いて、第2コア用樹脂フィルムを、圧力0.4MPa、温度80℃及び速度0.4m/minの条件で積層した。
次いで、幅50μmのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機で紫外線(波長365nm)を1500mJ/cm2照射し、さらに80℃で5分間露光後加熱を行った。
基材フィルム(A1517)を除去し、現像液(1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を用い、第2コアを現像した後、20%イソプロピルアルコール水溶液、次いで純水を用いて洗浄し、100℃で1時間加熱乾燥した。
次に、上記真空加圧式ラミネータを用い、第3クラッド用樹脂フィルムを、第2コア及び第2クラッド上に、圧力0.5MPa、温度50℃及び加圧時間30秒の条件で積層した。紫外線(波長365nm)を2000mJ/cm2照射し、基材フィルム(A1517)を除去した後、120℃で1時間加熱処理することによって、図5の形態を有する実施例5の複合光導波路を作製した。
なお、第2コア、第3クラッドの屈折率をそれぞれMetricon社製プリズムカプラー「Model 2010」で測定したところ、波長633nmにて、第2クラッドが1.551、第2コアが1.564、第3クラッドが1.530であった。
なお、第2コア、第3クラッドの屈折率をそれぞれMetricon社製プリズムカプラー「Model 2010」で測定したところ、波長633nmにて、第2クラッドが1.551、第2コアが1.564、第3クラッドが1.530であった。
実施例6
実施例1で作製した2層光導波路の第3クラッド上に、実施例5で使用した、第2コア及び第3クラッド形成用樹脂フイルムを用いて、それぞれ第3コア及び第4クラッドを形成し、図6の形態を有する実施例6の複合光導波路を得た。
なお、第3クラッドの屈折率をMetricon社製プリズムカプラー「Model 2010」で測定したところ、波長633nmにて、1.543であった。
実施例1で作製した2層光導波路の第3クラッド上に、実施例5で使用した、第2コア及び第3クラッド形成用樹脂フイルムを用いて、それぞれ第3コア及び第4クラッドを形成し、図6の形態を有する実施例6の複合光導波路を得た。
なお、第3クラッドの屈折率をMetricon社製プリズムカプラー「Model 2010」で測定したところ、波長633nmにて、1.543であった。
本発明の複合光導波路を用いることにより、マルチモード、シングルモード、照明用等の可視光等の多様な伝送を単一の光導波路を行うことが可能になり、各種情報端末内外の情報送受信、家庭用電気機器内外の情報送受信、車両用電気機器内外の情報送受信等を小型化・高密度化することができるので、各種電気機器、各種情報端末機器、車両等に好適に用いられる。
1…複合光導波路
2…第1クラッド
3…第1コア
4…第2クラッド
5…第2コア
6…第3クラッド
7…第3コア
8…第4クラッド
2…第1クラッド
3…第1コア
4…第2クラッド
5…第2コア
6…第3クラッド
7…第3コア
8…第4クラッド
Claims (10)
- 互いに組成の異なる樹脂組成物を用いた第1コア及び第2コアと、クラッドとを有することを特徴とする複合光導波路。
- 前記第1コア及び前記第2コアが異なる平面上に形成されてなる請求項1に記載の複合光導波路。
- 前記第1コア及び前記第2コアが同一平面上に形成されてなる請求項1に記載の複合光導波路。
- 同一平面上に形成された複数の前記第1コアと、同一平面上に形成された複数の前記第2コアを有することを特徴とする請求項2に記載の複合光導波路。
- 前記第1コアの断面積と前記第2コアの断面積とが同一である請求項1〜4のいずれかに記載の複合光導波路。
- 前記第1コアの少なくとも1つの断面積と前記第2コアの少なくとも1つの断面積とが異なるものである請求項1〜4のいずれかに記載の複合光導波路。
- 前記第1コアと前記第2コアとが、それぞれ異なる波長伝送に用いられる請求項1〜6のいずれかに記載の複合光導波路。
- 前記第1コア及び前記第2コアの両方がマルチモード用である請求項1〜7のいずれかに記載の複合光導波路。
- 前記第1コア及び前記第2コアの一方がマルチモード用であり、他方がシングルモード用である請求項1〜7のいずれかに記載の複合光導波路。
- 前記第1コア及び前記第2コアの少なくとも一方が可視光用である請求項1〜8のいずれかに記載の複合光導波路。
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