JP2010164582A - 電子ビーム加速器 - Google Patents

電子ビーム加速器 Download PDF

Info

Publication number
JP2010164582A
JP2010164582A JP2010100751A JP2010100751A JP2010164582A JP 2010164582 A JP2010164582 A JP 2010164582A JP 2010100751 A JP2010100751 A JP 2010100751A JP 2010100751 A JP2010100751 A JP 2010100751A JP 2010164582 A JP2010164582 A JP 2010164582A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron
electron beam
vacuum chamber
accelerator
housing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010100751A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5059903B2 (ja
Inventor
Tzvi Avnery
アブネリー・ツビ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Advanced Electron Beams Inc
Original Assignee
Advanced Electron Beams Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=25112112&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2010164582(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Advanced Electron Beams Inc filed Critical Advanced Electron Beams Inc
Publication of JP2010164582A publication Critical patent/JP2010164582A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5059903B2 publication Critical patent/JP5059903B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J33/00—Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
    • H01J33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/02—Electron guns
    • H01J3/027—Construction of the gun or parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J33/00—Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)

Abstract

【課題】電子ビーム装置の保守が短時間かつ容易に行える電子加速器および電子加速方法
を提供する。
【解決手段】電子ビーム放射窓２４を備える真空チャンバ４６であって、細長い要素の中
に形成されている真空チャンバ４６と、真空チャンバ４６内に配置され、電子を発生する
電子発生器３１と、細長い要素の中に配置され、電子発生器３１に電力を供給する高電圧
コネクタ１２と、高電圧コネクタ１２と真空チャンバ４６とを分離する高電圧絶縁体２８
とを備え、電子発生器３１をハウジングにより囲み、ハウジングにおける電子発生器３１
と電子ビーム放射窓との間に少なくとも１つの開口が形成され、前記ハウジングと電子ビ
ーム放射窓２４間に電圧が供給されたときに、電子を電子発生器３１から電子ビームにし
て真空チャンバ４６に密封されている電子ビーム放射窓２４の外に加速する電子加速器。
【選択図】図２

Description

電子ビームは、インク、接着剤、塗料、被覆材の乾燥や硬化などの多くの工業工程で使
用される。また、電子ビームは、液体、気体および表面の殺菌の他に有害廃棄物の浄化に
も使用される。
工業工程で使用する従来の電子ビーム装置は、電子ビームを処理する材料へ照射する電
子ビーム加速器を組み込んでいる。電子ビーム加速器は大きな鉛製の容器の真空チャンバ
を有し、その中にはフィラメント用電源から電力が供給される１つまたは複数の電子発生
フィラメントを内蔵している。運転中は、真空チャンバは常に真空ポンプで排気されてい
る。フィラメントは、真空チャンバの一面に設けられた金属箔の電子ビーム放射窓に面し
た開口格子を有するハウジングで囲まれている。高電圧電源により高電圧がフィラメント
のハウジングと電子ビーム放射窓間に印加される。フィラメントから発生した電子は、電
子ビームとなってフィラメントからハウジングの開口格子を通り、放射窓から外へ加速さ
れる。通常エキストラクタ電源が、フィラメントと放射窓間の領域の電界を均一にするた
めに組み込まれている。これにより、電子ビーム中の電子が図１の曲線１に図示するよう
にビームの中心に集中するのを防ぎ、図１の曲線２に図示するようにビームの幅方向に均
等に分散させる。
工業的用途に電子ビーム技術を利用する際に障害となるのは、従来の電子ビーム装置が
複雑な上に、装置を保守するために真空技術および加速器技術に関して高度に訓練された
人員を必要とすることである。例えば、通常的使用においては、フィラメントと電子ビー
ム放射窓金属箔の両方を定期的に交換する必要がある。このような保守作業は、加速器の
寸法が大きくて重いため、現場で実施する必要がある（一般的には、直径２０〜３０イン
チ、長さ４〜６フィート、重さ数千ポンド）。フィラメントと電子ビーム放射窓の交換に
は、真空チャンバを開く必要があり、汚染物質が侵入する原因となる。この交換は長い休
止時間を要する。何故ならフィラメントと放射窓を交換すると、加速器を排気して高電圧
運転用に調整した後で、初めて加速器が運転可能になるからである。調整には、真空チャ
ンバを開いたときに侵入した真空チャンバ内と放射窓上の汚染物質を焼却するために、時
間をかけて段階的に高電圧電源からの電力を上昇することが必要となる。この処理には汚
染の程度により２時間〜１０時間を要する。
しばしば、放射窓に漏れを生じ、それを補修するのに余分な時間を要することもある。
最終的には、１〜２年毎に加速器の高電圧用絶縁体を交換し、加速器全体を分解する必要
がある。この処理に要する時間は約２〜４日である。結果的に、フィラメント、放射窓金
属箔および高電圧絶縁体を交換する必要のあるときは、電子ビーム放射を必要とする製造
工程は長時間中断することになる。
本発明は、電子ビーム装置用の小型で簡単な上に、電子ビーム装置の保守が容易で、真
空技術と加速器技術に関して高度に訓練された人員を必要としない電子加速器を提供する
ものである。
本発明による電子加速器には、電子ビーム放射窓を有する真空チャンバが組み込まれて
いる。電子発生器は真空チャンバ内にあって電子を発生する。電子発生器を囲むハウジン
グがあり、ハウジングの電子発生器と電子ビーム放射窓の間の部分には第１の開口列が配
列されており、ハウジングと電子ビーム放射窓間に電圧が印加されると、電子を電子発生
器から電子ビーム放射窓の外へ電子ビームにして加速する。また前記ハウジングは電子発
生器を挟んだ両対向側面に第２および第３の開口列３５を有し、電子発生器と放射窓間の
電界線を平坦にして電子ビームの幅方向の電子分布を均等にする。
好ましい実施形態によれば、真空チャンバは、長軸線と外壁を有する円筒体内に形成さ
れる。円盤形の高電圧絶縁体は、電子発生器とハウジングに電力を供給する高電圧コネク
タとから真空チャンバを分離する。２本のリード線が高電圧コネクタから延びており、絶
縁体を貫通して高電圧コネクタを電子発生器とハウジングに接続している。電子発生器は
フィラメントを有するのが望ましい。電子ビーム放射窓は、厚さ１２．５ミクロン以下の
チタン箔で形成するのが望ましく、約６〜１２ミクロンがさらに望ましく、約８〜１０ミ
クロンが最も望ましい。電子ビーム放射窓は真空チャンバにろう付け、溶接または接着さ
れている外縁部を備えており、それにより真空密封を行う。真空チャンバは気密にされ、
恒久的に真空を維持できる。密封可能な排気口が真空チャンバに接続されており、そこか
ら排気を行う。
支持板が真空チャンバに取り付けられ電子ビーム放射窓を支持している。電子加速器で
発生する電子ビームは、実質的には集束していない。好ましい一実施形態では、電子ビー
ム放射窓は真空チャンバの長軸線に垂直に位置する。別の好ましい実施形態では、放射窓
は真空チャンバの長軸線に平行に位置する。また、本発明は、第１の電子ビームを発生す
るための第１電子ビーム加速器を組み込んでいる電子ビーム装置を提供する。第２電子ビ
ーム加速器が組み込まれており、第２の電子ビームを発生する。第２加速器は第１加速器
の後方の横方向に変位してあり、装置の電子ビームの下を移動する対象物上に、横方向に
連続した（隙間の無い）電子ビーム照射を行う。
本発明は、小型で交換可能なモジュール方式の電子ビーム加速器を提供するものである
。フィラメントまたは電子ビーム放射窓を交換する必要があるときは、加速器全体をそっ
くり交換することにより、電子ビーム装置の休止時間を大幅に減少できる。またこれによ
り、電子ビーム装置の保守に関して、真空技術と加速器技術に習熟した人員を必要としな
くなる。さらに、高電圧絶縁体を現場で交換する必要もなくなる。そのうえ、この独創的
な電子ビーム加速器は、従来の電子ビーム加速器に比べ構成部品が少なく、低消費電力で
あり、低価格化、単純化、小型化、高効率化されている。加速器の小型化は、小型印刷機
のような空き空間に制約のある装置内や、ライン中での織物の殺菌やステーション間での
硬化の目的に使用するのに適する。
電子がビームの幅方向に一様に分布している電子ビームの電子分布を示すグラフ上に、集束した電子ビームの電子分布を重ねて図示したグラフである。 本発明による電子ビーム加速器の側面断面図である。 図２の加速器の電気的接続を示す図である。 電界線を示すフィラメントのハウジングの端面図である。 側面の開口３５を省いたときの電界線を示すフィラメントのハウジングの端面図である。 複数の電子ビーム加速器を組み込んだ装置の平面図である。 フィラメントのハウジングの側面断面図であり、フィラメントを電気的に接続する別の好ましい方法を示す。 図７の底面断面図である。 別の好ましいフィラメント配列を示す模式図である。 さらに別の好ましいフィラメント配列を示す模式図である。 別の好ましい電子ビーム加速器の側面断面図である。
本発明に関する上述した目的および他の目的、特徴および利点は、好ましい実施形態図
面を用いてさらに具体的に説明する。ただし、各図面を通じ同一部分には同一参照符号を
用いている。図の縮尺は必ずしも正確でなく、本発明の原理を図示することに重点を置い
ている。
図２および図３において、電子ビーム加速器１０は交換可能なモジュール方式の加速器
であり、電子ビーム装置ハウジング（図示せず）内に組み込まれている。加速器１０は、
両端を密封した細長い円筒形の外側ケーシング（構造体）１４を備え、この外側ケーシン
グ１４は２分割形である。外側ケーシング１４は外側ケーシング１４に溶接された基端部
エンド・キャップ１６で密閉されている。外側ケーシング１４とエンド・キャップ１６は
、それぞれステンレス鋼製が望ましいが、代わりに他の適切な金属製でもよい。
加速器１０の先端部は、ステンレス鋼製の先端部エンド・キャップ２０に外縁部２３に
沿ってろう付けされているチタン箔製の電子ビーム放射窓膜２４で密閉されている。エン
ド・キャップ２０は、外側ケーシング１４に溶接されている。
通常、電子ビーム放射窓２４は厚さ約６から１２ミクロンであり、８から１０ミクロン
がさらに望ましい。変形形態としては、電子ビーム放射窓２４は、マグネシウム、アルミ
ニウム、ベリリウムのような他の適切な金属箔製でも、セラミックのような適切な非金属
の低密度材料でもよい。さらに電子ビーム放射窓２４は、エンド・キャップ２０に溶接ま
たは接着してもよい。
四角形の支持板２２は、電子を通過させる開口２２ａを有し、エンド・キャップ２０に
ボルト２２ｂで固定され、電子ビーム放射窓２４を支持している。支持板２２は熱放散の
ためには銅製が望ましいが、ステンレス鋼、アルミニウム、チタンのような他の適切な金
属製でもよい。支持板２２の開口２２ａは直径約１／８インチの円形で、電子ビーム放射
窓２４から電子の約８０％を通過させる。エンド・キャップ２０には冷却液通路が設けら
れ、冷却液がポンプで注入されてエンド・キャップ２０、支持板２２、電子ビーム放射窓
２４を冷却している。冷却液は流入口２５ａから入り、流出口２５ｂから出る。流入口２
５ａと流出口２５ｂは、電子ビーム装置ハウジングに設けた冷却液の供給口と戻り口に結
合されている。冷却液の供給口と戻り口は、流入口２５ａと流出口２５ｂを密封する“Ｏ
”リングでシールされている。加速器１０は、直径約１２インチ、長さ２０インチ、重さ
約５０ポンドである。
高電圧電力ケーブル・コネクタ１２に接合する高電圧接続用レセプタクル１８は、基端
部エンド・キャップ１６に取り付けられている。高電圧ケーブルが、高電圧電源４８とフ
ィラメント電源５０から加速器１０に電力を供給する。高電圧電源４８は約１００ＫＶを
供給するのが望ましいが、電子ビーム放射窓２４の厚みによって増減してもよい。フィラ
メント電源５０は約１５Ｖが望ましい。２本のリード線２６ａ／２６ｂはレセプタクル１
８から下方に延びて、加速器１０を上部の絶縁チャンバ４４と下部の真空チャンバ４６に
分割する円盤状の高電圧セラミック絶縁体２８を貫通する。セラミック絶縁体２８の外部
ケーシング１４への接合には、まずセラミック絶縁体２８がコバール（登録商標）のよう
なセラミック絶縁体２８と同一の膨張係数を持つ中間リング２９にろう付けされる。次に
、中間リング２９が外側ケーシング１４にろう付けされる。上部チャンバ４４には排気後
にＳＦ6ガスのような絶縁媒質を充填するが、代わりにオイルや固体絶縁物を充填しても
よい。気体や液体状の絶縁媒質は、閉止弁４２を通して充填や排出が可能である。
電子発生器３１は真空チャンバ４６内に位置しており、電気的に並列に接続した３本の
長さ８インチのタングステン製フィラメント３２（図４）から構成するのが望ましい。別
の形態としては、２本のフィラメント３２を使用することができる。電子発生器３１はス
テンレス鋼製のフィラメント・ハウジング３０で囲まれている。フィラメント・ハウジン
グ３０は、平板状の底部３３に空けた一連の格子状の開口３４と、ハウジング３０の４つ
の側面に空けた多数の開口３５とを有する。フィラメント３２は、ハウジング３０内のハ
ウジング３０の底部と上部の中間付近に取り付けるのが望ましい。開口３５は実質的にフ
ィラメント３２の上方までは延びていない。
リード線２６ａと電路５２は、フィラメント・ハウジング３０を電気的に高圧電源４８
に接続する。リード線２６ｂはフィラメント・ハウジング３０の開口３０ａを貫通し、フ
ィラメント電源５０とフィラメントを電気的に接続する。電子ビーム放射窓２４は電気的
に接地され、高電圧をフィラメント・ハウジング３０と電子ビーム放射窓２４間に印加さ
せる。
排気口３９を真空チャンバ４６に設け、真空チャンバ４６を排気する。排気口３９は、
外側ケーシング１４に溶接したステンレス鋼製の外部パイプ３６と外部パイプ３６にろう
付けされた密封可能な銅パイプ３８とを有する。真空チャンバ４６を排気したあとは、銅
パイプ３８を冷間圧着してシール４０を形成して、真空チャンバ４６を密封する。
使用に際しては、加速器１０を電子ビーム装置に組み込み、コネクタ１２と電気的に接
続する。電子ビーム装置のハウジングには、加速器１０を囲む鉛製の包囲体が組み込まれ
ている。フィラメント３２は、フィラメント電源５０（ＡＣまたはＤＣ）から電力を供給
されて約４２００°Ｆにまで加熱され、フィラメント３２に自由電子を発生させる。高圧
電源４８から印加されるフィラメント・ハウジング３０と電子ビーム放射窓２４間の高電
圧により、フィラメント３２上の自由電子５６を電子ビーム５８にして、フィラメント３
２からハウジング３０の開口３４および電子ビーム放射窓２４を通過して加速させる（図
４）。
側面開口３５は、その周辺に小電界を発生し、フィラメント３２と電子ビーム放射窓２
４間の高電圧電界線５４を、ハウジング３０の底部３３の平面に対して平坦化（この平面
と平行化）する。電界線５４を平坦にすることで、電子ビーム５８の電子５６は、図１の
曲線１に示すように中心位置に集束することなく、比較的直線的に開口３４を通ってハウ
ジング３０から放射される。この結果、電子ビーム５８は、図１の曲線２と同様のプロフ
ァイルを有する、幅が約２インチ、長さ約８インチの幅広のビームになる。図１の曲線１
の細い高密度電子ビームは好ましくない。何故なら、電子ビーム放射窓２４を焼いて穴を
空けるからである。
側面開口３５の機能をさらに図解するために、図５に側面開口３５を省いたハウジング
３０を示す。図示されているように、側面開口３５を省いた状態では、電界線５４は上方
へアーチ形に湾曲する。電子５６は電界線５４にほぼ垂直に進むため、電子５６は細い電
子ビーム５７に集束する。対照的に、図４では、電界線５４は平坦になり、電子５６は幅
広の集束しない電子ビーム５８の状態で進む。したがって、従来の加速器が電子ビームの
幅方向に電子を均等に分散させるために高電圧電界線を均一にする目的で高電圧のエキス
トラクタ電源を必要としたのに対し、本発明では、開口３５を設けることにより同一結果
を簡単かつ安価に実現している。
フィラメント３２または電子ビーム放射窓２４を交換するとき、加速器１０全体を電子
ビーム装置ハウジングから取り外し、新しい加速器１０と交換するだけでよい。新しい加
速器１０は前もって高電圧運転用に調整されているので、電子ビーム装置の休止時間は数
分だけになる。単一部分の交換のみですむため、電子ビーム装置のオペレータは真空技術
や加速器技術の保守について高度に習熟する必要はない。さらに、加速器１０は小型軽量
のため１人で交換できる。
古い加速器１０を再調整するためには、古い加速器を真空技術専門会社に送るのが望ま
しい。まず、電子ビーム放射窓２４と支持板２２を取り外して真空チャンバ４６を開ける
。次に、ハウジング３０を真空チャンバ４６から取り外してフィラメント３２を交換する
。必要なら、上部チャンバ内の絶縁媒質を、外部ケーシング１４に設けたバルブ４２から
排出する。その後、ハウジング３０を真空チャンバ４６内に元通りに取り付ける。支持板
２２をエンド・キャップ２０にボルトで固定し、電子ビーム放射窓２４を交換する。新し
い電子ビーム放射窓２４の外縁部２３は、エンド・キャップ２０にろう付けされて密封構
造を形成する。電子ビーム放射窓２４は、支持板２２、ボルト２２ｂおよびボルト穴を覆
っているので、“Ｏ”リングなどがなくても漏れもなく、支持板２２の全面をシールする
補助機能を果たしている。銅バイプ管３８を取り外し、新しい銅パイプ３８をパイプ３６
にろう付けする。これらの調整作業は、真空チャンバ内や電子ビーム放射窓２４の汚染を
防ぐために、清浄な空気環境に制御された場所で行う。
清浄な環境内で加速器１０を組み立てることで、電子ビーム放射窓２４は、容易に厚さ
８〜１０ミクロンまたは６ミクロンにまでできる。この理由は、塵埃または汚染物質が電
子ビーム放射窓２４と支持板２２間の電子ビーム放射窓２４上に堆積するのを妨げるから
である。このような汚染物質は、１２．５ミクロン以下の厚さの電子ビーム放射窓２４に
穴を開ける。対照的に、従来の加速器の電子ビーム放射窓は、保守作業の間は塵埃の多い
場所で組み立てるため、厚さ１２．５〜１５ミクロンを必要とする。厚さ１２．５〜１５
ミクロンの電子ビーム放射窓は、塵埃が電子ビーム放射窓に穴を開けるのを防ぐ。本発明
による電子ビーム放射窓２４は、従来の加速器の電子ビーム放射窓より厚さが薄いため、
電子を加速して電子ビーム放射窓２４を貫通させるのに要する電力が非常に小さくてすむ
。例えば、従来の加速器では、厚さ１２．５〜１５ミクロンの電子ビーム放射窓を貫通す
るよう電子を加速するのには約１５０ＫＶが必要である。これに反し、本発明によれば、
厚さ８〜１０ミクロンの電子ビーム放射窓を貫通するのに約８０〜１２５ＫＶでよい。
結果的に、同等の電子ビームを発生させるのに、加速器１０は従来の加速器に比べ効率
が高くなる。さらに、低い電圧でよいため、加速器１０は小型にでき、従来の加速器で使
用されていた円筒形または円錐形の絶縁体より小型の円盤形の絶縁体２８を使用できる。
加速器１０を従来の加速器より小型にできる理由は、加速器１０に従来より低い電圧を使
用するために、構成部品を近接させて組み込めるためである。真空チャンバ４６内を清浄
環境に制御すれば、構成部品をさらに近接させて組み込める。従来の加速器は高電圧で動
作する上、加速器内に汚染物質が多く存在するので、構成部品間のアーク放電を防止する
ために部品間距離を長くする必要がある。実際、従来の加速器では真空ポンプからの汚染
物質が使用中に加速器中へ侵入する。
次に、真空チャンバ４６は排気口３９から排気され、チューブ３８が冷間圧着して密封
される。真空チャンバ４６を密封すると、真空チャンバ４６は恒久的に真空状態を維持し
真空ポンプを作動する必要はなくなる。これにより、本発明による加速器１０を作動させ
るのが簡単で安価になる。その後、加速器１０を高電圧動作に備え前調整する。加速器１
０を電子ビーム装置に接続し、高電圧を徐々に上昇させて、真空チャンバ内と電子ビーム
放射窓上の汚染物質を焼却する。真空チャンバ４６内のすべての分子は、高電圧および／
または電子ビームによりイオン化され、ハウジング３０方向へ加速される。イオン化分子
はハウジング３０に衝突してハウジング３０の表面に捕獲され、さらに真空度を増加させ
る。また加速器１０を高電圧動作に備えて前調整する間に、真空チャンバ４６を排気する
ことができる。加速器１０は電子ビーム装置から取り外し、再使用のため保管する。
図６は、３台の加速器１０ａ、１０ｂ、１０ｃを含むシステム６４を示す。これらの加
速器は、電子ビーム６０を移動する製品６２の全幅に渡って隙間なく照射するように互い
違いに配置されている。それぞれの加速器１０ａ、１０ｂ、１０ｃの電子ビーム６０は１
台の加速器の外径よりも細いため、３台を並べて取り付けても、製品６２の全幅に渡って
電子ビーム６０を照射することはできない。その代わり、加速器１０ｂを、製品６２の移
動方向に沿って、加速器１０ａと１０ｃに対して少し横後方にずらせで配置する。その結
果、それぞれの電子ビーム６０の側端は互いに横方向に整列することになる。結果的に、
図のように移動製品６２は、階段的配置の電子ビーム６０が重なって照射される。３台の
加速器が図示されているが、別の方法としては、４台以上の加速器１０を互い違いに並べ
て幅の広い製品を照射したり、２台の加速器１０で幅の狭い製品を照射することもできる
。
図７と８は、リード線２６ａと２６ｂをフィラメント・ハウジング３０とフィラメント
３２に電気的に接続する別の好ましい方法を図示する。リード線２６ａはフィラメント・
ハウジング３０の上部に固定する。３つのフィラメント・ブラケット１０２はフィラメン
ト・ハウジング３０の上部から下方へ延びている。フィラメント・マウント１０４はそれ
ぞれのブラケット１０２に取り付けられている。絶縁ブロック１１０とフィラメント・マ
ウント１０８は、フィラメント・ハウジング３０の反対側に取り付けられている。フィラ
メント３２はフィラメント・マウント１０４と１０８間に張り渡して取り付けられる。フ
レキシブルなリード線１０６でリード線２６ｂとフィラメント・マウント１０８を電気的
に接続する。フィラメント・ブラケット１０２はスプリング効果を有し、使用中にフィラ
メント３２が膨張／収縮するのを補正する。円筒状のブラケット１１２は、リード線２６
ａ／２６ｂの代わりにハウジング３０を支持する。
図９において、フィラメント配列９０は、電子ビームの幅を単一フィラメントの場合よ
りも広げるために、複数のフィラメントを電気的に接続する別の好ましい方法である。フ
ィラメント９２は平行に配置され、リード線９４で相互に電気的に直列接続されている。
図１０において、フィラメント配列９８は、平行に配置されて２本のリード線９６で電気
的に並列に接続された一連のフィラメント９７を図示している。またフィラメント配列９
８は、電子ビームの幅を広げるのにも使用される。
図１１において、加速器７０は本発明の別の好ましい実施形態である。加速器７０は、
先の加速器１０で発生する電子ビームに対して９０°の角度の方向に電子ビームを発生す
る。加速器７０が加速器１０と異なるのは、フィラメント７８が真空チャンバ８８の長軸
線Ａに対して垂直ではなく、平行になっていることである。さらに、電子ビーム放射窓８
２は、真空チャンバ８８の細長い外側ケーシング７２に取り付けられており、長軸線Ａに
平行になっている。電子ビーム放射窓８２は、外側ケーシング７２の側面に取り付けた支
持板８０で支持されている。細長いフィラメント・ハウジング７５がフィラメント７８を
囲み、ハウジング７５の一側面７６には、長軸線Ａに垂直な方向に開口した格子状開口３
４を有する。フィラメント・ハウジング７５の側面開口３５は、開口３４に垂直な方向に
開口している。エンド・キャップ７４は真空チャンバ８８の端面を塞いでいる。加速器７
０は、複数の加速器を互い違いに配置して使用することなく、電子ビームを広い範囲に放
射するのに適し、また狭い場所での使用に適する。加速器７０は長さ約３〜４フィートに
でき、より広い範囲に使用するためには互い違いに配置することもできる。
本発明による電子加速器は、液体や気体（空気のような）殺菌や表面の殺菌のほか医療
用品、食品、有害な医療廃棄物の殺菌および有害廃棄物の浄化に適する。その他の応用分
野には、オゾン生成、燃料霧化（微粒化）および材料の化学的接着や融合がある。また、
本発明による電子加速器は、インク、被覆加工、接着、密封剤の硬化に利用できる。さら
にポリマーのような材料を、電子ビームで交差結合(cross linked)させて構造特性を改良
することができる。
フィラメント・ハウジングにある開口列３５は、電界線の形状を整えるための受動的電
界線整形手段を形成し、特に電界線を均一にする機能を持つ。“受動的”とは電界線を形
成するのに、別途のエキストラクタ電源を必要としない意味である。さらに、電界線は複
数のフィラメントを使用して形成することができる。また、電界線の形状をさらに変える
のに、フィラメント間に隔壁や受動電極を配置することもできる。複数フィラメントや隔
壁および受動電極は、電界線を平坦化したり、その他の形状にしたりする平坦化機能手段
として使用できる。
均等物
本発明について、好ましい実施形態に関連して具体的に図示し説明したが、添付の請求
事項に規定するように、形態や詳細についての各種の変更が、本発明の精神および範囲を
逸脱しない範囲内で可能であることは、当業者に理解できよう。
例えば、本発明では複数フィラメントを組み込む、と述べているが、その代わりに単一
フィラメントを使用することもできる。さらに、外側ケーシング、エンド・キャップ、フ
ィラメント・ハウジングはステンレス鋼製が望ましいが、その代わりに、チタン、銅、コ
バールのようなその他の適切な金属を使用することもできる。通常、エンド・キャップ１
６と２０は外側ケーシングに溶接されているが、ろう付けすることもできる。支持板２２
の開口２２は、長孔のような非円形であってもよい。フィラメント３２の寸法と加速器１
０の直径は、用途により変更してもよい。また、絶縁体２８にはガラスのようなその他の
適切な材料を使用してもよい。
チタン製の電子ビーム放射窓の厚さは１２．５ミクロン以下（６〜１２ミクロン）が望
ましいが、必要なら用途によって１２．５ミクロンより厚くすることもできる。１２．５
ミクロンより厚い電子ビーム放射窓には、約１００ＫＶ〜１５０ＫＶの高電圧を供給する
必要がある。もし、電子ビーム放射窓がアルミニウムのようなチタンより軽い材料からで
きている場合は、同一電子ビーム特性を実現するのに、電子ビーム放射窓の厚さはチタン
製電子ビーム放射窓の相当厚さより厚くしてもよい。加速器１０および７０は円筒形状が
望ましいが、四角形や長円形断面のようなその他の適切な形状としてもよい。本発明によ
る加速器は、安価にするために多量に作り、使い捨て使用とすることもできる。最後に、
レセプタクル１８はスペースを節約するために長軸線Ａに垂直に配置することもできる。
２４ 電子ビーム放射窓
３０ ハウジング
３１ 電子発生器
４６ 真空チャンバ

Claims (37)

  1. 電子ビーム放射窓を有する真空チャンバと、
    前記真空チャンバ内に配置されて電子を発生する電子発生器と、
    前記電子発生器を囲むハウジングであって、前記電子発生器と前記電子ビーム放射窓間
    のハウジング部分に設けた第１の開口列を有し、前記ハウジングと前記電子ビーム放射窓
    間に電圧が供給されたとき、電子を前記電子発生器から電子ビームにして前記電子ビーム
    放射窓の外へ加速し、さらに、電子ビームの幅方向の電子分布を均一にする受動的電界線
    整形手段を有するハウジングと、
    を備えた電子加速器
  2. 請求項１において、
    前記真空チャンバが円筒体の内部に形成され、この円筒体が長軸線と外壁を有する電子加
    速器。
  3. 請求項２において、
    さらに、前記電子発生器と前記ハウジングに電力を供給する高電圧コネクタと、
    前記真空チャンバを前記高圧コネクタから分離する円盤状の高電圧絶縁体と、
    を備えた電子加速器。
  4. 請求項３において、
    さらに、前記高圧コネクタを前記電子発生器と前記ハウジングに電気的に接続するため
    に絶縁体を貫通する２本のリード線を備えた電子加速器。
  5. 請求項３において、
    さらに、真空チャンバに設けられた密封可能な排気口を有する電子加速器。
  6. 請求項１において、
    前記電子発生器がフィラメントを有する電子加速器。
  7. 請求項２において、
    前記真空チャンバが密封されて持続的に真空を維持するものである電子加速器。
  8. 請求項７において、
    前記電子ビーム放射窓が前記真空チャンバにろう付けされて気密を維持する外縁部を有
    する電子加速器。
  9. 請求項８において、
    さらに、前記真空チャンバに取り付けられて前記電子ビーム放射窓を支持する支持板を
    有する電子加速器。
  10. 請求項９において、
    前記電子ビーム放射窓を前記真空チャンバの接軸線に垂直な方向に配置した電子加速器
    。
  11. 請求項９において、
    前記電子ビーム放射窓を前記真空チャンバの長軸線に平行な方向に配置した電子加速器
    。
  12. 請求項９において、
    前記電子ビーム放射窓を金属箔で構成した電子加速器。
  13. 請求項１２において、
    前記電子ビーム放射窓を厚さ約６〜１２インチのチタン箔で構成した電子加速器。
  14. 請求項７において、
    前記電子ビーム放射窓が、真空チャンバに溶接されて気密を維持する外縁部を有する電
    子加速器。
  15. 請求項７において、
    前記電子ビーム放射窓が、真空チャンバに接着されて気密を維持する外縁部を有する電
    子加速器。
  16. 請求項１において、
    前記電子ビームが実質的に集束していない電子加速器。
  17. 請求項１において、
    前記電子加速器が第１電子ビームを発生する第１電子加速器であり、
    さらに、第２電子ビームを発生する第２電子加速器を有し、この第２加速器は、第１加
    速器から横後方にずらせて配置され、これにより、電子ビームの下で移動する対象物上に
    横方向に隙間無く電子ビームを照射するものである電子加速器。
  18. 請求項１において、
    前記受動的電界線形成器が、前記ハウジングの電子発生器を挟む両対向側面に第２と第
    ３の開口列を有する電子加速器。
  19. 電子ビーム放射窓を有し、細長い構造体内部に形成されて密封され持続的に前記真空を
    維持する真空チャンバと、
    前記真空チャンバ内に配置されて電子を発生する電子発生器と、
    細長い構造体内に配置されて電子加速器に電力を供給する高電圧コネクタと、
    前記真空チャンバを前記高電圧コネクタから分離する高電圧絶縁体と、
    前記電子発生器を囲むハウジングであって、前記電子発生器と前記電子ビーム放射窓間
    のハウジング部分に設けた第１の開口列を有し、前記ハウジングと前記電子ビーム放射窓
    間に電圧が供給されたとき、電子を前記電子発生器から電子ビームにして前記電子ビーム
    放射窓の外へ加速し、さらに、電子ビームの幅方向の電子分布を均一にする受動的電界線
    整形手段を有するハウジングと、
    を備えた電子加速器。
  20. 請求項１９において、
    前記電子ビーム放射窓が、厚さ１２．５ミクロン以下のチタン箔から形成されている電
    子加速器。
  21. 請求項２０において、
    前記電子ビーム放射窓が、厚さ８〜１０ミクロンである電子加速器。
  22. 請求項２０において、
    さらに、ハウジングと電子ビーム放射窓間に約１００から１５０ＫＶの電圧を供給する
    高圧電源を備えた電子加速器。
  23. 請求項２１において、
    さらに、ハウジングと電子ビーム放射窓間に約８０から１２５ＫＶの電圧を供給する高
    圧電源を備えた電子加速器。
  24. 請求項２３において、
    前記電子発生器が長さ約８インチのフィラメントを備えた電子加速器。
  25. 請求項２４において、
    前記電子発生器が、幅約２インチ、長さ約２０インチである電子加速器。
  26. 電子ビーム放射窓を有する真空チャンバを設け、
    前記真空チャンバ内に配置した電子発生器で電子を発生し、
    前記電子発生器と電子ビーム放射窓間に第１の開口列を有するハウジングにより前記電
    子発生器を囲み、
    前記ハウジングと前記電子ビーム放射窓間に電圧を供給して、電子を前記電子発生器か
    ら電子ビームにして前記電子ビーム放射窓の外に加速し、
    受動的電界線整形手段により前記電子発生器と前記電子ビーム放射窓間に電子ビームを
    その幅方向に均一に分布させる電子加速方法。
  27. 請求項２６において、
    さらに、持続的に前記チャンバ内の真空を維持するために真空チャンバを密封する電子
    加速方法。
  28. 請求項２６において、
    前記電子ビーム放射窓が外縁部を有し、さらに、前記外縁部を真空チャンバにろう付け
    して気密性を保つ電子加速方法。
  29. 請求項２８において、
    さらに、真空チャンバに取り付けた支持板により電子ビーム放射窓を支持する電子加速
    方法。
  30. 請求項２９において、
    さらに、電子ビーム放射窓を真空チャンバの長軸線に垂直に配置する電子加速方法。
  31. 請求項２９において、
    さらに、電子ビーム放射窓を真空チャンバの長軸線に平行に配置する電子加速方法。
  32. 請求項２７において、
    さらに、ハウジングの表面上の真空チャンバ内に含まれるイオン化分子を捕獲すること
    により、前記真空チャンバ内の真空度を上げる電子加速方法。
  33. 請求項２６において、
    さらに、ハウジングの表面上の真空チャンバ内に含まれるイオン化分子を捕獲すること
    により、前記真空チャンバ内の真空度を上げる電子加速方法。
  34. 請求項２６において、
    前記電子ビーム放射窓が外縁部を有し、さらに、前記外縁部を真空チャンバに接着して
    気密性を保つ電子加速方法。
  35. 請求項２６において、
    前記受動的電界線整形手段を、ハウジング上の電子発生器を挟む両対向側面に第２およ
    び第３の開口列を設けることにより形成する電子加速方法。
  36. 電子ビーム放射窓を有する真空チャンバを設け、
    前記真空チャンバ内に配置した電子発生器で電子を発生し、
    前記電子発生器と電子ビーム放射窓間に第１開口列を有するハウジングにより前記電子
    発生器を囲み、
    前記ハウジングと前記電子ビーム放射窓間に電圧を供給して、電子を前記電子発生器か
    ら電子ビームにして前記電子ビーム放射窓の外に加速し、
    前記真空チャンバを密封して持続的にチャンバ内の真空を維持し、前記ハウジングの表
    面上の前記真空チャンバ内に含まれるイオン化分子を捕獲することにより、前記真空チャ
    ンバ内の真空度を上げる電子加速方法。
  37. 電子ビーム放射窓を有し、細長い構造体内部に形成されて密封され持続的に前記真空を
    維持する真空チャンバを設け、
    前記真空チャンバ内に配置した電子発生器で電子を発生し、
    前記電子発生器に電力を供給する高電圧コネクタを細長い構造体内に配置し、
    前記真空チャンバを高電圧絶縁体により前記高電圧コネクタから分離し、
    前記電子発生器をハウジングにより囲み、このハウジングは、ハウジングにおける前記
    電子発生器と電子ビーム放射窓間に第１の開口列が形成され、前記ハウジングと前記電子
    ビーム放射窓間に電圧が供給されたときに、電子を前記電子発生器から電子ビームにして
    前記電子ビーム放射窓の外に加速するものである電子加速方法。
JP2010100751A 1997-01-02 2010-04-26 電子ビーム加速器 Expired - Lifetime JP5059903B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/778,037 1997-01-02
US08/778,037 US5962995A (en) 1997-01-02 1997-01-02 Electron beam accelerator

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009183768A Division JP4684342B2 (ja) 1997-01-02 2009-08-06 電子加速方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010164582A true JP2010164582A (ja) 2010-07-29
JP5059903B2 JP5059903B2 (ja) 2012-10-31

Family

ID=25112112

Family Applications (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP53025598A Expired - Fee Related JP4213770B2 (ja) 1997-01-02 1997-12-30 電子加速器、電子加速器システム及び電子加速方法
JP2008037208A Expired - Fee Related JP4855428B2 (ja) 1997-01-02 2008-02-19 電子ビーム加速器
JP2009183768A Expired - Lifetime JP4684342B2 (ja) 1997-01-02 2009-08-06 電子加速方法
JP2010100538A Pending JP2010181415A (ja) 1997-01-02 2010-04-26 電子ビーム加速器
JP2010100751A Expired - Lifetime JP5059903B2 (ja) 1997-01-02 2010-04-26 電子ビーム加速器

Family Applications Before (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP53025598A Expired - Fee Related JP4213770B2 (ja) 1997-01-02 1997-12-30 電子加速器、電子加速器システム及び電子加速方法
JP2008037208A Expired - Fee Related JP4855428B2 (ja) 1997-01-02 2008-02-19 電子ビーム加速器
JP2009183768A Expired - Lifetime JP4684342B2 (ja) 1997-01-02 2009-08-06 電子加速方法
JP2010100538A Pending JP2010181415A (ja) 1997-01-02 2010-04-26 電子ビーム加速器

Country Status (9)

Country Link
US (1) US5962995A (ja)
EP (3) EP2204838A3 (ja)
JP (5) JP4213770B2 (ja)
AT (1) ATE489722T1 (ja)
AU (1) AU5808498A (ja)
BR (1) BR9714246A (ja)
DE (1) DE69740064D1 (ja)
RU (1) RU2212774C2 (ja)
WO (1) WO1998029895A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2461151C1 (ru) * 2011-01-25 2012-09-10 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ" (НИЯУ МИФИ) Ионный диод для генерации нейтронов

Families Citing this family (93)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5909032A (en) * 1995-01-05 1999-06-01 American International Technologies, Inc. Apparatus and method for a modular electron beam system for the treatment of surfaces
US6407492B1 (en) 1997-01-02 2002-06-18 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam accelerator
US6576915B1 (en) 1998-02-12 2003-06-10 Mcintyre Peter M. Method and system for electronic pasteurization
US7640083B2 (en) 2002-11-22 2009-12-29 Monroe David A Record and playback system for aircraft
US6545398B1 (en) * 1998-12-10 2003-04-08 Advanced Electron Beams, Inc. Electron accelerator having a wide electron beam that extends further out and is wider than the outer periphery of the device
US6140657A (en) * 1999-03-17 2000-10-31 American International Technologies, Inc. Sterilization by low energy electron beam
JP2000347000A (ja) * 1999-06-04 2000-12-15 Ebara Corp 電子線照射装置
WO2001004924A1 (en) * 1999-07-09 2001-01-18 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam accelerator
US6426507B1 (en) * 1999-11-05 2002-07-30 Energy Sciences, Inc. Particle beam processing apparatus
FR2815769A1 (fr) * 2000-10-23 2002-04-26 Thomson Csf Linac Canon a electrons a faisceau recombine avec fenetre de sortie a refroidissement central
WO2002058742A1 (en) 2000-12-13 2002-08-01 Advanced Electron Beams, Inc. Decontamination apparatus
US7183563B2 (en) * 2000-12-13 2007-02-27 Advanced Electron Beams, Inc. Irradiation apparatus
PT1232760E (pt) * 2001-02-16 2007-11-30 Tetra Laval Holdings & Finance Método e unidade para esterilizaçâo do material de embalagem em folha para fabrico de embalagens seladas de produtos alimentares vazáveis
US6630774B2 (en) * 2001-03-21 2003-10-07 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter
US7265367B2 (en) 2001-03-21 2007-09-04 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter
US20020135290A1 (en) 2001-03-21 2002-09-26 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter
US8367013B2 (en) 2001-12-24 2013-02-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reading device, method, and system for conducting lateral flow assays
US20030119203A1 (en) 2001-12-24 2003-06-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Lateral flow assay devices and methods for conducting assays
US20040000648A1 (en) * 2002-06-28 2004-01-01 Rissler Lawrence D. E-beam treatment system for machining coolants and lubricants
US7285424B2 (en) 2002-08-27 2007-10-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Membrane-based assay devices
US6808600B2 (en) * 2002-11-08 2004-10-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for enhancing the softness of paper-based products
US7247500B2 (en) 2002-12-19 2007-07-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reduction of the hook effect in membrane-based assay devices
US20040197819A1 (en) 2003-04-03 2004-10-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Assay devices that utilize hollow particles
US7851209B2 (en) 2003-04-03 2010-12-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reduction of the hook effect in assay devices
CN100557755C (zh) * 2003-07-30 2009-11-04 能源科学公司 采用粒子束处理材料的方法和如此处理的材料
US7754197B2 (en) 2003-10-16 2010-07-13 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for reducing odor using coordinated polydentate compounds
FR2861215B1 (fr) * 2003-10-20 2006-05-19 Calhene Canon a electrons a anode focalisante, formant une fenetre de ce canon, application a l'irradiation et a la sterilisation
US7713748B2 (en) 2003-11-21 2010-05-11 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of reducing the sensitivity of assay devices
US7943395B2 (en) 2003-11-21 2011-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Extension of the dynamic detection range of assay devices
US20050112703A1 (en) 2003-11-21 2005-05-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Membrane-based lateral flow assay devices that utilize phosphorescent detection
US20050132466A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Elastomeric glove coating
US20050127552A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-16 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for forming an elastomeric article
US7943089B2 (en) 2003-12-19 2011-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Laminated assay devices
US7295015B2 (en) * 2004-02-19 2007-11-13 Brooks Automation, Inc. Ionization gauge
US7030619B2 (en) * 2004-02-19 2006-04-18 Brooks Automation, Inc. Ionization gauge
US7148613B2 (en) 2004-04-13 2006-12-12 Valence Corporation Source for energetic electrons
US7449232B2 (en) * 2004-04-14 2008-11-11 Energy Sciences, Inc. Materials treatable by particle beam processing apparatus
US20060113486A1 (en) * 2004-11-26 2006-06-01 Valence Corporation Reaction chamber
US7957507B2 (en) 2005-02-28 2011-06-07 Cadman Patrick F Method and apparatus for modulating a radiation beam
US8232535B2 (en) 2005-05-10 2012-07-31 Tomotherapy Incorporated System and method of treating a patient with radiation therapy
DE602006021803D1 (de) 2005-07-22 2011-06-16 Tomotherapy Inc System zur Verabreichung einer Strahlentherapie auf ein sich bewegendes Zielgebiet
CA2616292A1 (en) * 2005-07-22 2007-02-01 Tomotherapy Incorporated Method and system for evaluating quality assurance criteria in delivery of a treament plan
EP2532386A3 (en) 2005-07-22 2013-02-20 TomoTherapy, Inc. System for delivering radiation therapy to a moving region of interest
US8442287B2 (en) 2005-07-22 2013-05-14 Tomotherapy Incorporated Method and system for evaluating quality assurance criteria in delivery of a treatment plan
US7839972B2 (en) 2005-07-22 2010-11-23 Tomotherapy Incorporated System and method of evaluating dose delivered by a radiation therapy system
WO2007014090A2 (en) 2005-07-23 2007-02-01 Tomotherapy Incorporated Radiation therapy imaging and delivery utilizing coordinated motion of gantry and couch
EP1775752A3 (de) * 2005-10-15 2007-06-13 Burth, Dirk, Dr. Herstellung eines Elektronenaustrittsfensters mittels eines Ätzprozesses
US7759661B2 (en) * 2006-02-14 2010-07-20 Advanced Electron Beams, Inc. Electron beam emitter for sterilizing containers
JP4584851B2 (ja) * 2006-03-10 2010-11-24 浜松ホトニクス株式会社 電子線発生装置
US20080043910A1 (en) * 2006-08-15 2008-02-21 Tomotherapy Incorporated Method and apparatus for stabilizing an energy source in a radiation delivery device
US8223918B2 (en) 2006-11-21 2012-07-17 Varian Medical Systems, Inc. Radiation scanning and disabling of hazardous targets in containers
US7935538B2 (en) 2006-12-15 2011-05-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Indicator immobilization on assay devices
US7785496B1 (en) 2007-01-26 2010-08-31 Clemson University Research Foundation Electrochromic inks including conducting polymer colloidal nanocomposites, devices including the electrochromic inks and methods of forming same
US7656236B2 (en) 2007-05-15 2010-02-02 Teledyne Wireless, Llc Noise canceling technique for frequency synthesizer
US7768267B2 (en) * 2007-07-11 2010-08-03 Brooks Automation, Inc. Ionization gauge with a cold electron source
US8440981B2 (en) 2007-10-15 2013-05-14 Excellims Corporation Compact pyroelectric sealed electron beam
US7960704B2 (en) * 2007-10-15 2011-06-14 Excellims Corporation Compact pyroelectric sealed electron beam
US8399368B2 (en) * 2007-10-16 2013-03-19 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nonwoven web material containing a crosslinked elastic component formed from a linear block copolymer
US8349963B2 (en) * 2007-10-16 2013-01-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Crosslinked elastic material formed from a linear block copolymer
US7923392B2 (en) * 2007-10-16 2011-04-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Crosslinked elastic material formed from a branched block copolymer
US7923391B2 (en) * 2007-10-16 2011-04-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nonwoven web material containing crosslinked elastic component formed from a pentablock copolymer
US20090157024A1 (en) * 2007-12-14 2009-06-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Hydration Test Devices
US8134042B2 (en) * 2007-12-14 2012-03-13 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Wetness sensors
US8179045B2 (en) 2008-04-22 2012-05-15 Teledyne Wireless, Llc Slow wave structure having offset projections comprised of a metal-dielectric composite stack
CN102099889A (zh) * 2008-05-21 2011-06-15 先进电子束公司 带狭缝枪的电子束发射机
US20090325440A1 (en) * 2008-06-30 2009-12-31 Thomas Oomman P Films and film laminates with relatively high machine direction modulus
US8222476B2 (en) 2008-10-31 2012-07-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Absorbent articles with impending leakage sensors
JP2009143237A (ja) * 2009-01-16 2009-07-02 Energy Sciences Inc 粒子線で材料を処理するための方法およびこのように処理された材料
SE534156C2 (sv) * 2009-03-11 2011-05-17 Tetra Laval Holdings & Finance Förfarande för montering av ett fönster för utgående elektroner och en fönsterenhet för utgående elektroner
US8293173B2 (en) * 2009-04-30 2012-10-23 Hitachi Zosen Corporation Electron beam sterilization apparatus
US20110012030A1 (en) 2009-04-30 2011-01-20 Michael Lawrence Bufano Ebeam sterilization apparatus
WO2011005307A2 (en) 2009-07-07 2011-01-13 Advanced Electron Beams Method and apparatus for ebeam treatment of webs and products made therefrom
JP2010047017A (ja) * 2009-11-20 2010-03-04 Energy Sciences Inc 粒子線で材料を処理するための方法およびこのように処理された材料
ES2610626T3 (es) 2010-02-08 2017-04-28 Tetra Laval Holdings & Finance S.A. Conjunto y método para reducir las arrugas de las láminas en una disposición circular
US8623292B2 (en) 2010-08-17 2014-01-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Dehydration sensors with ion-responsive and charged polymeric surfactants
WO2012025546A1 (en) * 2010-08-26 2012-03-01 Tetra Laval Holdings & Finance S.A. Control grid design for an electron beam generating device
JP5911507B2 (ja) * 2010-12-16 2016-04-27 日立造船株式会社 プラズマまたはオゾンの生成システム、及びプラズマまたはオゾンの生成方法
US8604129B2 (en) 2010-12-30 2013-12-10 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Sheet materials containing S-B-S and S-I/B-S copolymers
CN102340922B (zh) * 2011-08-09 2012-11-28 湖北久瑞核技术股份有限公司 一种电子加速器
EP2819708B1 (en) 2012-02-28 2017-08-02 Life Technologies Corporation Systems and containers for sterilizing a fluid
EP2962309B1 (en) 2013-02-26 2022-02-16 Accuray, Inc. Electromagnetically actuated multi-leaf collimator
US9202660B2 (en) 2013-03-13 2015-12-01 Teledyne Wireless, Llc Asymmetrical slow wave structures to eliminate backward wave oscillations in wideband traveling wave tubes
DE102014001344B4 (de) * 2014-02-02 2015-08-20 Crosslinking AB Elektronenstrahleinheit mit schräg zur Transportrichtung ausgerichteten Heizkathodendrähten sowie Verfahren zur Bestrahlung
DE102014001342A1 (de) * 2014-02-02 2015-08-06 Crosslinking AB Stützkonstruktion mit schräg verlaufenden Kühlkanälen für ein Elektronenaustrittsfenster
KR102587532B1 (ko) 2015-02-27 2023-10-11 킴벌리-클라크 월드와이드, 인크. 흡수 용품 누설 평가 시스템
CN104717823A (zh) * 2015-03-30 2015-06-17 同方威视技术股份有限公司 绝缘密封结构和电子帘加速器
WO2017075021A1 (en) 2015-10-29 2017-05-04 Celanese EVA Performance Polymers Corporation Medical tube
CN106211536A (zh) * 2016-08-30 2016-12-07 中广核达胜加速器技术有限公司 一种中能半自屏蔽电子加速器
RU2648241C2 (ru) * 2016-09-01 2018-03-23 Акционерное Общество "Нииэфа Им. Д.В. Ефремова" Широкоапертурный ускоритель с планарной электронно-оптической системой
JP6451716B2 (ja) * 2016-10-21 2019-01-16 岩崎電気株式会社 電子線照射装置
EP3536132B1 (en) * 2016-11-03 2022-03-16 Starfire Industries LLC A compact system for coupling rf power directly into an accelerator
MX2019010970A (es) 2017-04-05 2019-12-16 Kimberly Clark Co Prenda para detectar fugas en un articulo absorbente y metodos para detectar fugas del articulo absorbente usando la misma.
US11139139B2 (en) * 2018-06-28 2021-10-05 Hitaclii High-Tech Corporation Charged particle beam generator and charged particle beam apparatus

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52117053A (en) * 1976-03-29 1977-10-01 Hokushin Electric Works Electromagnetic counter drive circuit
JPS61183859A (ja) * 1985-02-09 1986-08-16 Nisshin Haiboruteeji Kk 電子線照射装置の線量分布均一化方法
JPS62198045A (ja) * 1986-02-24 1987-09-01 Nisshin Haiboruteeji Kk 電子線照射装置
JPS6348200U (ja) * 1986-09-16 1988-04-01
JPH03129650A (ja) * 1989-10-13 1991-06-03 Jeol Ltd 電子線発生装置
JPH0587994A (ja) * 1991-09-30 1993-04-09 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
JPH05225934A (ja) * 1991-11-22 1993-09-03 Energy Sciences Inc 改善した並列フィラメント電子銃

Family Cites Families (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3440466A (en) * 1965-09-30 1969-04-22 Ford Motor Co Window support and heat sink for electron-discharge device
US3418155A (en) * 1965-09-30 1968-12-24 Ford Motor Co Electron discharge control
US3462292A (en) * 1966-01-04 1969-08-19 Ford Motor Co Electron induced deposition of organic coatings
US3433947A (en) * 1966-06-02 1969-03-18 High Voltage Engineering Corp Electron beam accelerator with shielding means and electron beam interlocked
US3617740A (en) * 1968-10-08 1971-11-02 High Voltage Engineering Corp Modular electron source for uniformly irradiating the surface of a product
US3610993A (en) * 1969-12-31 1971-10-05 Westinghouse Electric Corp Electronic image device with mesh electrode for reducing moire patterns
US3702412A (en) † 1971-06-16 1972-11-07 Energy Sciences Inc Apparatus for and method of producing an energetic electron curtain
US3749967A (en) * 1971-12-23 1973-07-31 Avco Corp Electron beam discharge device
US3769600A (en) † 1972-03-24 1973-10-30 Energy Sciences Inc Method of and apparatus for producing energetic charged particle extended dimension beam curtains and pulse producing structures therefor
US3956712A (en) * 1973-02-05 1976-05-11 Northrop Corporation Area electron gun
US3863163A (en) * 1973-04-20 1975-01-28 Sherman R Farrell Broad beam electron gun
US3925670A (en) * 1974-01-16 1975-12-09 Systems Science Software Electron beam irradiation of materials using rapidly pulsed cold cathodes
US4020354A (en) * 1975-05-22 1977-04-26 The Goodyear Tire & Rubber Company Treatment of tire making components
US4061944A (en) * 1975-06-25 1977-12-06 Avco Everett Research Laboratory, Inc. Electron beam window structure for broad area electron beam generators
US4079328A (en) * 1976-09-21 1978-03-14 Radiation Dynamics, Inc. Area beam electron accelerator having plural discrete cathodes
DE2656314A1 (de) * 1976-12-11 1978-06-15 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Stromversorgungseinrichtung fuer elektronenstrahlkanonen
US4246297A (en) * 1978-09-06 1981-01-20 Energy Sciences Inc. Process and apparatus for the curing of coatings on sensitive substrates by electron irradiation
DE3108006A1 (de) * 1981-03-03 1982-09-16 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Strahlenaustrittsfenster
US4499405A (en) * 1981-05-20 1985-02-12 Rpc Industries Hot cathode for broad beam electron gun
SU1107191A1 (ru) † 1981-10-12 1984-08-07 Предприятие П/Я А-1067 Электронна пушка
US4446374A (en) * 1982-01-04 1984-05-01 Ivanov Andrei S Electron beam accelerator
US4468282A (en) * 1982-11-22 1984-08-28 Hewlett-Packard Company Method of making an electron beam window
JPS6013300A (ja) * 1983-07-04 1985-01-23 株式会社トーキン 電子線用ウインド
NL8302616A (nl) * 1983-07-22 1985-02-18 Philips Nv Electronenbeeldbuis met een invangruimte voor losse deeltjes.
US4646338A (en) * 1983-08-01 1987-02-24 Kevex Corporation Modular portable X-ray source with integral generator
JPS60207300A (ja) * 1984-03-30 1985-10-18 日本電子株式会社 荷電粒子線加速装置
CH664044A5 (de) * 1984-10-02 1988-01-29 En Physiquedes Plasmas Crpp Ce Vorrichtung zur fuehrung eines elektronenstrahls.
US4746909A (en) * 1986-09-02 1988-05-24 Marcia Israel Modular security system
US4786844A (en) † 1987-03-30 1988-11-22 Rpc Industries Wire ion plasma gun
US4957835A (en) * 1987-05-15 1990-09-18 Kevex Corporation Masked electron beam lithography
US4910435A (en) * 1988-07-20 1990-03-20 American International Technologies, Inc. Remote ion source plasma electron gun
JPH0752640Y2 (ja) * 1988-08-16 1995-11-29 日新ハイボルテージ株式会社 電子線照射装置
FR2638891A1 (fr) * 1988-11-04 1990-05-11 Thomson Csf Fenetre etanche pour tube electronique hyperfrequence et tube a ondes progressives comportant cette fenetre
US5003178A (en) * 1988-11-14 1991-03-26 Electron Vision Corporation Large-area uniform electron source
FI84961C (fi) * 1989-02-02 1992-02-10 Tampella Oy Ab Foerfarande foer alstrande av hoegeffektelektronridaoer med hoeg verkningsgrad.
US5093602A (en) * 1989-11-17 1992-03-03 Charged Injection Corporation Methods and apparatus for dispersing a fluent material utilizing an electron beam
US5126633A (en) * 1991-07-29 1992-06-30 Energy Sciences Inc. Method of and apparatus for generating uniform elongated electron beam with the aid of multiple filaments
US5236159A (en) * 1991-12-30 1993-08-17 Energy Sciences Inc. Filament clip support
DE4219562C1 (ja) * 1992-06-15 1993-07-15 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De
US5382802A (en) * 1992-08-20 1995-01-17 Kawasaki Steel Corporation Method of irradiating running strip with energy beams
US5378898A (en) * 1992-09-08 1995-01-03 Zapit Technology, Inc. Electron beam system
SE9301428D0 (sv) † 1993-04-28 1993-04-28 Tetra Laval Holdings & Finance Sa Elektronaccelerator foer sterilisering av foerpackningsmaterial i en aseptisk foerpackningsmaskin
JPH06317700A (ja) † 1993-04-30 1994-11-15 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
US5414267A (en) * 1993-05-26 1995-05-09 American International Technologies, Inc. Electron beam array for surface treatment
JPH0720295A (ja) * 1993-06-30 1995-01-24 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
US5561298A (en) * 1994-02-09 1996-10-01 Hughes Aircraft Company Destruction of contaminants using a low-energy electron beam
DE4432984C2 (de) * 1994-09-16 1996-08-14 Messer Griesheim Schweistechni Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen mit Elektronen
JP3569329B2 (ja) * 1994-12-12 2004-09-22 日本原子力研究所 電子ビーム照射設備の照射窓装置
US5483074A (en) * 1995-01-11 1996-01-09 Litton Systems, Inc. Flood beam electron gun

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52117053A (en) * 1976-03-29 1977-10-01 Hokushin Electric Works Electromagnetic counter drive circuit
JPS61183859A (ja) * 1985-02-09 1986-08-16 Nisshin Haiboruteeji Kk 電子線照射装置の線量分布均一化方法
JPS62198045A (ja) * 1986-02-24 1987-09-01 Nisshin Haiboruteeji Kk 電子線照射装置
JPS6348200U (ja) * 1986-09-16 1988-04-01
JPH03129650A (ja) * 1989-10-13 1991-06-03 Jeol Ltd 電子線発生装置
JPH0587994A (ja) * 1991-09-30 1993-04-09 Iwasaki Electric Co Ltd 電子線照射装置
JPH05225934A (ja) * 1991-11-22 1993-09-03 Energy Sciences Inc 改善した並列フィラメント電子銃

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2461151C1 (ru) * 2011-01-25 2012-09-10 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ" (НИЯУ МИФИ) Ионный диод для генерации нейтронов

Also Published As

Publication number Publication date
BR9714246A (pt) 2000-04-18
JP4855428B2 (ja) 2012-01-18
AU5808498A (en) 1998-07-31
EP2204839A3 (en) 2012-09-12
JP2008209410A (ja) 2008-09-11
EP0950256A1 (en) 1999-10-20
DE69740064D1 (de) 2011-01-05
JP4684342B2 (ja) 2011-05-18
US5962995A (en) 1999-10-05
JP2010181415A (ja) 2010-08-19
JP2001507800A (ja) 2001-06-12
JP5059903B2 (ja) 2012-10-31
EP2204838A2 (en) 2010-07-07
EP0950256B2 (en) 2014-07-23
JP2009259848A (ja) 2009-11-05
EP2204839A2 (en) 2010-07-07
EP2204838A3 (en) 2012-09-05
WO1998029895A1 (en) 1998-07-09
EP0950256B1 (en) 2010-11-24
RU2212774C2 (ru) 2003-09-20
JP4213770B2 (ja) 2009-01-21
ATE489722T1 (de) 2010-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5059903B2 (ja) 電子ビーム加速器
US6407492B1 (en) Electron beam accelerator
JP4808879B2 (ja) 電子加速器及び電子を加速する方法
AU2005236862A1 (en) Improved source for energetic electrons
EP1153400B1 (en) Electron accelerator having a wide electron beam
JP2006514421A (ja) 軟ｘ線を利用した静電気除去装置
JPH10199697A (ja) 大気圧プラズマによる表面処理装置
JPH0418714B2 (ja)
US8698097B2 (en) Radially inwardly directed electron beam source and window assembly for electron beam source or other source of electromagnetic radiation
CN1223241C (zh) 常压射频冷等离子体系统及其喷枪
US20020067130A1 (en) Flat-panel, large-area, dielectric barrier discharge-driven V(UV) light source
CN2571127Y (zh) 常压射频冷等离子体发生器
DE19608160C1 (de) Stromversorgungseinrichtung für Elektroden einer Gasentladungskammer zur Plasmabehandlung von Substraten, insbesondere durch chemische Gasphasenabscheidung
CN118160781A (zh) 一种物料消杀装置
CN110677970A (zh) 基于混合型等离子体结构的平板式等离子体发生装置
JPH01274347A (ja) イオンビーム装置
JPH04139719A (ja) 気相成長装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100519

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100519

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100921

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101209

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111213

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120309

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120314

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120612

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20120619

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20120619

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120720

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120802

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

EXPY Cancellation because of completion of term