JP2010158747A5 - - Google Patents
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たとえば、砥粒であるヒュームドシリカの凝集が発生すると、凝集した粗大粒子の増加に伴って被研磨物表面にスクラッチ（傷跡）が生じてしまうという問題がある。図５は、研磨組成物中の粗大粒子数と研磨によって発生したスクラッチ数との関係を示すグラフである。
ヒュームドシリカは、たとえば、酸水素火炎中で四塩化ケイ素を気相加水分解することによって製造できる。また、たとえば、特開２０００−８６２２７号公報に記載される方法によって製造できる。該特許公報によれば、揮発性ケイ素化合物を、可燃ガスおよび酸素を含有する混合ガスとともにバーナーに供給し、１０００〜２１００℃の温度で燃焼させ、揮発性ケイ素化合物を熱分解することにより、ヒュームドシリカが製造できる。ここで、揮発性ケイ素化合物としては公知のものを使用でき、たとえば、ＳｉＨ４、ＳｉＣｌ４、ＣＨ３ＳｉＣｌ３、ＣＨ３ＳｉＨＣｌ２、ＨＳｉＣｌ３、（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２、（ＣＨ３）３ＳｉＣｌ、（ＣＨ３）２ＳｉＨ ２ 、（ＣＨ３）３ＳｉＨ、アルコキシシラン類などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子を含有する揮発性ケイ素化合物が好ましい。揮発性ケイ素化合物は１種を単独で使用でき、または２種以上を併用できる。可燃ガスとしては、酸素の存在下での燃焼により水を生成するものが好ましく、たとえば、水素、メタン、ブタンなどが挙げられる。酸素に代えて、空気を用いることもできる。揮発性ケイ素化合物と混合ガスとの使用割合は、混合ガス中に含まれる可燃ガスの種類に応じて適宜選択される。たとえば、可燃ガスが水素である場合は、揮発性ケイ素化合物１モルに対して、酸素を２．５〜３．５モル程度および水素を１．５〜３．５モル程度用いればよい。
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