UA84428C2 - Порошок діоксиду кремнію, виготовлений в пірогенних умовах, спосіб його одержання та застосування - Google Patents
Порошок діоксиду кремнію, виготовлений в пірогенних умовах, спосіб його одержання та застосуванняInfo
- Publication number
- UA84428C2 UA84428C2 UAA200600279A UAA200600279A UA84428C2 UA 84428 C2 UA84428 C2 UA 84428C2 UA A200600279 A UAA200600279 A UA A200600279A UA A200600279 A UAA200600279 A UA A200600279A UA 84428 C2 UA84428 C2 UA 84428C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- produced
- powder
- silicon dioxide
- compounds
- dioxide powder
- Prior art date
Links
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 title abstract 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910004721 HSiCl3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- OCBFFGCSTGGPSQ-UHFFFAOYSA-N [CH2]CC Chemical compound [CH2]CC OCBFFGCSTGGPSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 abstract 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 abstract 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 abstract 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/181—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
- C01B33/183—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q50/00—Information and communication technology [ICT] specially adapted for implementation of business processes of specific business sectors, e.g. utilities or tourism
- G06Q50/10—Services
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/067—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
- G06K19/07—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
- G06K19/0723—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips the record carrier comprising an arrangement for non-contact communication, e.g. wireless communication circuits on transponder cards, non-contact smart cards or RFIDs
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q20/00—Payment architectures, schemes or protocols
- G06Q20/08—Payment architectures
- G06Q20/18—Payment architectures involving self-service terminals [SST], vending machines, kiosks or multimedia terminals
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
Landscapes
- Business, Economics & Management (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Accounting & Taxation (AREA)
- Strategic Management (AREA)
- General Business, Economics & Management (AREA)
- Tourism & Hospitality (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Human Resources & Organizations (AREA)
- Marketing (AREA)
- Primary Health Care (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Economics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Finance (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
Порошок діоксиду кремнію, виготовлений у пірогенних умовах, у вигляді сполук первинних частинок з площею поверхні BET від 300±25 м2/г, де сполуки мають середню площу 4800-6000 нм2, середній еквівалентний діаметр від 60 до 80 нм та середній розмір від 580 до 750 нм. Порошок виготовляють в пірогенних умовах, де тетрахлорид кремнію та другий кремнієвий компонент, вміст якого складає максимум 40 мас. %, який вибирають з групи, яка містить H3SiCl, H2SiCl2, HSiCl3, CH3SiCl3, (CH3)2SiCl2, (CH3)3SiCl й/або (n-C3H7)SiCl3, змішують з первинним повітрям та горючим газом, та під час горіння подають в камеру реактора, причому в камеру реактора подають вторинне повітря, а реагуючі сполуки вибираються таким чином, щоб адіабатна температура полум'я факела складала від 1390 до 1450 °С. Порошок використовують як наповнювач.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102005001414A DE102005001414A1 (de) | 2005-01-12 | 2005-01-12 | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxidpulver |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA84428C2 true UA84428C2 (uk) | 2008-10-27 |
Family
ID=34934382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UAA200600279A UA84428C2 (uk) | 2005-01-12 | 2006-01-11 | Порошок діоксиду кремнію, виготовлений в пірогенних умовах, спосіб його одержання та застосування |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US7351388B2 (uk) |
| EP (1) | EP1686093B1 (uk) |
| JP (1) | JP4440157B2 (uk) |
| KR (1) | KR101148291B1 (uk) |
| CN (1) | CN1803605B (uk) |
| AT (1) | ATE501978T1 (uk) |
| DE (2) | DE102005001414A1 (uk) |
| ES (1) | ES2361672T3 (uk) |
| PL (1) | PL1686093T3 (uk) |
| UA (1) | UA84428C2 (uk) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007025685A1 (de) * | 2007-06-01 | 2008-12-04 | Evonik Degussa Gmbh | RTV-Zweikomponenten-Silikonkautschuk |
| DE102007030604A1 (de) * | 2007-07-02 | 2009-01-08 | Weppner, Werner, Prof. Dr. | Ionenleiter mit Granatstruktur |
| DE102007035952A1 (de) | 2007-07-30 | 2009-04-09 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte, pyrogen hergestellte Kieselsäuren |
| US8729158B2 (en) * | 2008-09-05 | 2014-05-20 | Cabot Corporation | Fumed silica of controlled aggregate size and processes for manufacturing the same |
| US8038971B2 (en) * | 2008-09-05 | 2011-10-18 | Cabot Corporation | Fumed silica of controlled aggregate size and processes for manufacturing the same |
| CN102039069B (zh) * | 2009-10-20 | 2013-02-27 | 中国石油化工集团公司 | 气液分离旋流板及其制造方法 |
| JP5746210B2 (ja) | 2009-12-26 | 2015-07-08 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | 水含有粉末組成物 |
| JP5038449B2 (ja) * | 2010-03-09 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| TWI788111B (zh) | 2015-01-02 | 2022-12-21 | 美商梅拉洛伊卡公司 | 多元補充品組成物 |
| US10137164B2 (en) | 2015-01-02 | 2018-11-27 | Melaleuca, Inc. | Dietary supplement compositions |
| TWI790189B (zh) | 2015-01-02 | 2023-01-21 | 美商梅拉洛伊卡公司 | 細菌組成物 |
| DE102017203998A1 (de) * | 2017-03-10 | 2017-06-01 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von pyrogener Kieselsäure |
| KR102284997B1 (ko) | 2017-07-13 | 2021-08-05 | 와커 헤미 아게 | 고 분산된 이산화규소의 제조 방법 |
| EP3428135A1 (de) | 2017-07-14 | 2019-01-16 | Evonik Degussa GmbH | Wärmedämm-materialien auf basis hochverdickender kieselsäuren |
| CN107777693B (zh) * | 2017-11-14 | 2021-01-22 | 湖北汇富纳米材料股份有限公司 | 一种纳米气相二氧化硅的生产工艺及装置 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4067954A (en) * | 1971-05-11 | 1978-01-10 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Process for the production of finely divided silicon dioxide having a large specific surface |
| US5340560A (en) * | 1993-04-30 | 1994-08-23 | General Electric Company | Method for making fumed silica having a reduced aggregate size and product |
| US5855860A (en) * | 1994-10-27 | 1999-01-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for porifying fine particulate silica |
| EP0725037B2 (de) * | 1995-02-04 | 2012-04-25 | Evonik Degussa GmbH | Granulate auf Basis von pyrogen hergestelltem Siliciumdioxid, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
| DE19650500A1 (de) * | 1996-12-05 | 1998-06-10 | Degussa | Dotierte, pyrogen hergestellte Oxide |
| DE19922915A1 (de) * | 1999-05-19 | 2000-11-23 | Wacker Chemie Gmbh | Siliconentschäumer enthaltende wäßrige Polymerisatdispersion |
| JP3767672B2 (ja) * | 2000-04-21 | 2006-04-19 | 信越化学工業株式会社 | 疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法 |
| JP3796565B2 (ja) * | 2000-08-15 | 2006-07-12 | 信越化学工業株式会社 | 球状シリカ微粒子の製造方法 |
| JP3750728B2 (ja) * | 2000-12-05 | 2006-03-01 | 信越化学工業株式会社 | 微細シリカの製造方法 |
| DE10145162A1 (de) * | 2001-09-13 | 2003-04-10 | Wacker Chemie Gmbh | Kieselsäure mit geringem Gehalt an Kieselsäure-Silanolgruppen |
| DE10211958A1 (de) * | 2002-03-18 | 2003-10-16 | Wacker Chemie Gmbh | Hochreines Silica-Pulver, Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung |
| KR100954073B1 (ko) * | 2002-12-18 | 2010-04-23 | 에보닉 데구사 게엠베하 | 구조적으로 피복된 실리카 |
| DE10326049A1 (de) * | 2003-06-10 | 2004-12-30 | Degussa Ag | Flammenhydrolytisch hergestelltes Siliciumdioxid, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung |
-
2005
- 2005-01-12 DE DE102005001414A patent/DE102005001414A1/de not_active Withdrawn
- 2005-03-19 EP EP05006062A patent/EP1686093B1/de active Active
- 2005-03-19 ES ES05006062T patent/ES2361672T3/es active Active
- 2005-03-19 PL PL05006062T patent/PL1686093T3/pl unknown
- 2005-03-19 DE DE502005011122T patent/DE502005011122D1/de active Active
- 2005-03-19 AT AT05006062T patent/ATE501978T1/de active
- 2005-03-22 US US11/085,151 patent/US7351388B2/en active Active
- 2005-04-01 JP JP2005106635A patent/JP4440157B2/ja active Active
- 2005-04-04 KR KR1020050028063A patent/KR101148291B1/ko active IP Right Grant
- 2005-04-22 CN CN2005100676212A patent/CN1803605B/zh active Active
-
2006
- 2006-01-11 UA UAA200600279A patent/UA84428C2/uk unknown
-
2008
- 2008-01-22 US US12/017,861 patent/US20080145659A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2361672T3 (es) | 2011-06-21 |
| CN1803605B (zh) | 2011-12-28 |
| JP2006193403A (ja) | 2006-07-27 |
| EP1686093B1 (de) | 2011-03-16 |
| JP4440157B2 (ja) | 2010-03-24 |
| KR101148291B1 (ko) | 2012-05-25 |
| US20060153764A1 (en) | 2006-07-13 |
| EP1686093A2 (de) | 2006-08-02 |
| EP1686093A3 (de) | 2006-08-09 |
| US20080145659A1 (en) | 2008-06-19 |
| ATE501978T1 (de) | 2011-04-15 |
| KR20060082383A (ko) | 2006-07-18 |
| DE102005001414A1 (de) | 2006-07-20 |
| CN1803605A (zh) | 2006-07-19 |
| PL1686093T3 (pl) | 2011-08-31 |
| US7351388B2 (en) | 2008-04-01 |
| DE502005011122D1 (de) | 2011-04-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| UA84428C2 (uk) | Порошок діоксиду кремнію, виготовлений в пірогенних умовах, спосіб його одержання та застосування | |
| UA84021C2 (uk) | Порошок діоксиду кремнію,виготовлений в пірогенних умовах, спосіб його виробництва, застосування та силіконовий герметик з вмістом цього порошку | |
| UA84153C2 (uk) | Порошок діоксиду кремнію, виготовлений в пірогенних умовах, спосіб його виробництва, застосування та водна дисперсія, яка його містить | |
| UA83667C2 (uk) | Порошок діоксиду кремнію, виготовлений у пірогенних умовах, спосіб його виготовлення, поліефір та силіконовий каучук, які його містять | |
| AU2003290058A1 (en) | Pyrogenic silicon dioxide and a dispersion thereof | |
| DE502007006418D1 (de) | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid mit niedriger Verdickungswirkung | |
| US11565974B2 (en) | Granular thermal insulation material and method for producing the same | |
| UA86789C2 (uk) | Порошкоподібний оксид алюмінію, одержаний полуменевим гідролізом, спосіб його одержання та застосування | |
| TWI455883B (zh) | 矽石以及環氧樹脂 | |
| ATE371629T1 (de) | Durch flammenhydrolyse hergestelltes silicium- titan-mischoxidpulver | |
| DE602004021912D1 (de) | Pyrogenes siliciumdioxidpulver und dispersion hiervon | |
| JP2009196891A (ja) | 火炎加水分解により製造した珪素−アルミニウム−混合酸化物粉末、その製法およびその使用 | |
| JP2014515720A5 (uk) | ||
| CN100506693C (zh) | 热解制备的二氧化硅 | |
| UA83096C2 (uk) | Порошкоподібний діоксид титану та спосіб його одержання полуменевим гідролізом | |
| ES2693907T3 (es) | Polvo de dióxido de silicio con una longitud de poro grande | |
| JP2023025185A (ja) | 高分散二酸化ケイ素を製造する方法 | |
| TH80797B (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล | |
| TH80966B (th) | ผงซิลิคอนไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล และสารประกอบผนึกซิลิโคนที่ประกอบด้วยผงนี้ | |
| ATE465976T1 (de) | Titandioxid mit erhöhter sinteraktivität | |
| TH80967B (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล | |
| TH80965B (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล และดิสเพอร์ชั่นของมัน | |
| TH55727B (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล | |
| TH80967A (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล | |
| TH80797A (th) | ผงซิลิคอนไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล |