TH55727B - ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล - Google Patents
ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอลInfo
- Publication number
- TH55727B TH55727B TH601000083A TH0601000083A TH55727B TH 55727 B TH55727 B TH 55727B TH 601000083 A TH601000083 A TH 601000083A TH 0601000083 A TH0601000083 A TH 0601000083A TH 55727 B TH55727 B TH 55727B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- air
- reaction chamber
- silicon
- surface area
- silicon dioxide
- Prior art date
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 35
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract 18
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract 14
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 title claims abstract 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract 14
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 claims abstract 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 7
- 241000219430 Betula pendula Species 0.000 claims abstract 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract 4
- 229910004721 HSiCl3 Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract 3
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 8
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims 7
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M NaHCO3 Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 6
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 6
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 4
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 claims 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N HCl Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims 2
- 230000000996 additive Effects 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 claims 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 230000000051 modifying Effects 0.000 claims 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 230000001698 pyrogenic Effects 0.000 abstract 5
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N Silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 230000000240 adjuvant Effects 0.000 abstract 3
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 abstract 3
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 abstract 3
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N Trimethylsilyl chloride Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 abstract 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 abstract 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 abstract 1
- 210000000051 Wattle Anatomy 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตแบบไพโรจีนิคอลในรูปกลุ่มก้อนของอนุภาคพื้นฐานที่มีพื้น ที่ผิว BET เท่ากับ 300 จำนวนบวกหรือจำนวนลบ 25 ตารางเมตร / กรัม, ที่ซึ่งและกลุ่มก้อนแสดงพื้นที่ผิวเฉลี่ยเท่ากับ 4800 ถึง 6000 ตารางนาโนเมตร, เส้นผ่าศูนย์กลางวงกลมอีควิวาเลนท์ (ECD) เท่ากับ 60 ถึง 80 นาโนเมตร และ ความยาวเส้นรอบวงเฉลี่ยเท่ากับ 580 ถึง 750 นาโนเมตร ถูกผลิตขึ้นโดยกรรมวิธีไพโรจีนิกที่ซึ่งซิลิคอน เตตราคลอไรด์ และสูงสุดถึง 40% โดย น้ำหนัก ของส่วนประกอบซิลิคอนที่สองอันประกอบด้วย H3SiCl, H2SiCl2, HSiCl3, CH3SiCl3, (CH3) 2SiCl2, (CH3)3SiCl และ/หรือ (n-C3H7)SiCl3 ถูกผสมกับอากาศอันดับที่หนึ่ง และแก๊สเผาไหม้ และถูกเผาไหม้เข้าไปในห้องทำปฏิกิริยา, อากาศอันดับที่สองถูกนำเข้าไปในห้องทำปฏิกิริยาเช่นกัน, และวัตถุดิบป้อนเข้าถูกเลือกเพื่อให้ได้อุณหภูมิเปลวไฟที่ไม่มีการได้หรือสูญความร้อนเท่ากับ 1390 ถึง 1450 องศาเซลเซียส สามารถใช้ได้เป็นเสมือนสารเสริม แก้ไข 25/6/2558 ผงซีลิคสน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตแบบไพโรจีนิคอลในรูปกลุ่มก้อนของอนุภาคพืนฐานที่มีพืน ที่ผิว BET เท่ากับ 300 + 25 ตารางเมตร / กรัม, ที่ซึ่งและกลุ่มก้อนแสดงพื้นที่ผิวเฉลี่ยเท่ากับ 4800 ถึง 6000 ตารางนาโนเมตร, เส้นผ่าศูนย์กลางวงกลมอควิวาเลนท์ (ECD) เท่ากับ 60 ถึง 80 นาโนเมตร และ ความยาวเส้นรอบวงเฉลี่ยเท่ากับ 580 ถึง 750 นาโนเมตร ถูกผลิตขึ้นโดยกรรมวิธีไพโรจีนิกที่ซึ่งซิลิคอน เตตราคลอไรค์ และสูงสุดถึง 40 %โดย นำหนัก ของส่วนประกอบซิลิคอนที่สองอันประกอบรวมด้วย HjSiCl, H,SiCl,, HSiClj, CHjSiClp (CHj),SiCl,, (CH,)jSiCI และ/หรือ (n-CjH,)SiClj ถูกผสมกับอากาศอันดับที่หนึ่ง และแก๊สเผาไหม และถูกเผาไหม้เข้าไปในห้องทำปฏิกิริยา, อากาศอันดับที่สองถูกนำเข้าไปในห้องทำปฏิกิริยาเช่นกัน, และวัตลุคิบป้อนเข้าถูกเลือกเพื่อให้ได้อุณหภูมิเปลวไฟที่ไม่มีการได้หรือสูญความร้อนเท่ากับ 1390 ถึง 1450 องศาเซลเซียส สามารถใช้ได้เป็นเสมือนสารเสริม ----------------------------------- ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตแบบไพโรจีนิคอลในรูปกลุ่มก้อนของอนุภาคพื้นฐานที่มีพื้น ที่ผิว BET เท่ากับ 300 +- 25 ตารางเมตร / กรัม, ที่ซึ่งและกลุ่มก้อนแสดงพื้นที่ผิวเฉลี่ยเท่ากับ 4800 ถึง 6000 ตารางนาโนเมตร, เส้นผ่าศูนย์กลางวงกลมอีควิวาเลนท์ (ECD) เท่ากับ 60 ถึง 80 นาโนเมตร และ ความยาวเส้นรอบวงเฉลี่ยเท่ากับ 580 ถึง 750 นาโนเมตร ถูกผลิตขึ้นโดยกรรมวิธีไพโรจีนิกที่ซึ่งซิลิคอน เตตราคลอไรด์ และสูงสุดถึง 40% โดย น้ำหนัก ของส่วนประกอบซิลิคอนที่สองอันประกอบด้วย H3SiCl, H2SiCl2, HSiCl3, CH3SiCl3, (CH3) 2SiCl2, (CH3)3SiCl และ/หรือ (n-C3H7)SiCl3 ถูกผสมกับอากาศอันดับที่หนึ่ง และแก๊สเผาไหม้ และถูก เผาไหม้เข้าไปในห้องทำปฏิกิริยา, อากาศอันดับที่สองถูกนำเข้าไปในห้องทำปฏิกิริยาเช่นกัน, และ วัตถุดิบป้อนเข้าถูกเลือกเพื่อให้ได้อุณหภูมิเปลวไฟที่ไม่มีการได้หรือสูญความร้อนเท่ากับ 1390 ถึง 1450 องศาเซลเซียส สามารถใช้ได้เป็นเสมือนสารเสริม
Claims (9)
1. ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตแบบไพโรจีนิคอลในรูปกลุ่มก้อนของอนุภาคพื้นฐานที่มี พื้นผิว BET เท่ากับ 300 +- 25 ตารางเมตร / กรัม, มีลักษณะที่กลุ่มก้อนแสดง - พื้นที่ผิวเฉลี่ยเท่ากับ 4800 ถึง 6000 ตารางนาโนเมตร, - เส้นผ่าศูนย์กลางวงกลมอีควิวาเลนท์ (ECD) เท่ากับ 60 ถึง 80 นาโนเมตร และ - ความยาวเส้นรอบวงเฉลี่ยเท่ากับ 580 ถึง 750 นาโนเมตร
2. ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล ตามข้อถือสิทธิ 1, มีลักษณะที่ซึ่ง กลุ่มก้อนแสดง - พื้นที่ผิวเฉลี่ยเท่ากับ 5000 ถึง 5700 ตารางนาโนเมตร, - เส้นผ่าศูนย์กลางวงกลมอีควิวาเลนท์ เท่ากับ 65 ถึง 75 นาโนเมตร และ - ความยาวเส้นรอบวงเฉลี่ยเท่ากับ 600 ถึง 720 นาโนเมตร
3. ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล ตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2, มีลักษณะ ที่ซึ่งเส้นผ่าศูนย์กลางสูงสุดของกลุ่มก้อนเท่ากับระหว่าง 100 และ 140 นาโนเมตร และเส้นผ่าศูนย์ กลางต่ำสุดของกลุ่มก้อนเท่ากับระหว่าง 60 และ 90 นาโนเมตร
4. ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอง ตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ 1 ถึง 3, มีลักษณะที่ซึ่งปริมาณคลอไรด์มีน้อยกว่า 250 ส่วนในล้านส่วน
5. ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล ตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ 1 ถึง 4, มีลักษณะที่ซึ่งปริมาณคาร์บอนมีน้อยกว่า 100 ส่วนในล้านส่วน
6. กรรมวิธีสำหรับการผลิตผงซิลิคอน ไดออกไซด์ ตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ 1 ถึง 5, มีลักษณะที่ซึ่ง - ของผสมของสารประกอบซิลิคอน ถูกทำให้ระเหย, อย่างแยกจากกัน หรือร่วมกัน, ไอระเหย ถูกเคลื่อนย้านโดยใช้แก๊สพาหะไปยังห้องผสม, ที่มี - SiCl4 เป็นเสมือนส่วนประกอบที่หนึ่งในสัดส่วน 60 ถึง 100% โดยน้ำหนัก เทียบกับของ ผสม, และ - ส่วนประกอบที่สองเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย H3SiCl, H2SiCl2, HSiCl3, CH3SiCl3, (CH3)2SiCl2, (CH3)SiCl, (n-C3H7)SiCl3, ในสัดส่วน 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก เทียบกับของ ผสม, - และแก๊สเผาไหม้ และอากาศอันดับที่หนึ่ง, ซึ่งอย่างสามารถเลือกได้สามารถเพิ่มออกซิเจน และ / หรือทำให้กร่อน, ถูกเคลื่อนย้ายอย่างแยกจากกัน ไปยังห้องผสม, - ของผสมที่ประกอบด้วยไอระเหยของซิลิคอน, แก๊สเผาไหม้ และอากาศอันดับที่หนึ่ง ถูกจุด ติดไฟในหัวเผาไหม้ และเปลวไฟเผาไหม้เข้าไปในห้องทำปฏิกิริยา, - อากาศอันดับที่สอง, ซึ่งล้อมรอบเปลวไฟ, ถูกนำเข้าไปในห้องทำปฏิกิริยา, อัตราส่วนของ อากาศอันดับที่สอง ต่ออากาศอันดับที่หนึ่งอยู่ในช่วงจาก 0.05 ถึง 4, - จากนั้นของแข็งถูกแยกออกจากสารที่เป็นหรือคล้ายแก๊ส และจากนั้นของแข็งถูกกระทำด้วย ไอน้ำ, ที่ซึ่ง - ปริมาณทั้งหมดของออกซิเจนเท่ากับอย่างน้อยพอเพียงสำหรับการเผาไหม้สมบูรณ์ของแก๊ส เผาไหม้ และสารประกอบซิลิคอน และ - ปริมาณของวัตถุดิบป้อนเข้าที่ประกอบด้วยสารประกอบซิลิคอน, แก๊สเผาไหม้, อากาศอันดับ ที่หนึ่ง และอากาศอันดับที่สอง ถูกเลือกให้ได้อุณหภูมิเปลวไฟซึ่งเกิดขึ้นโดยไม่มีการสูญเสีย หรือได้รับความร้อน Tad เท่ากับ 1390 ถึง 1450 องศาเซลเซียส, ที่ซึ่ง Tad = อุณหภูมิของวัตถุ ดิบป้อนเข้า + ผลรวมของเอนทาลปีปฏิกิริยาของปฏิกิริยาย่อย / ความจุความร้อนของสารที่ ออกจากห้องทำปฏิกิริยา, อันประกอบด้วยซิลิคอน ไดออกไซด์, น้ำ, ไฮโดรเจน คลอไรด์, คาร์บอน ไดออกไซด์, ออกซิเจน, ไนโตรเจน, และ อย่างสามารถเลือกได้กับแก๊สพาหะถ้ามัน ไม่ใช่อากาศ หรือไนโตรเจน, โดยใช้ความจุความร้อนจำเพาะของสารเหล่านี้ที่ 1000 องศาเซลเซียส เป็นมาตรฐาน
7. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 6, มีลักษณะะที่ซึ่งอุณหภูมิของวัตถุดิบป้อนเข้าเท่ากับ 90 องศา เซลเซียส +- 40 องศาเซลเซียส
8. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิ 6 หรือ 7, มีลักษณะที่ซึ่งความเร็วปล่อยออกของผสมปฏิกิริยาจาก ห้องผสมไปยังที่ว่างทำปฏิกิริยาเท่ากับ 10 ถึง 80 เมตร / วินาที
9. การใช้ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล ตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อ ถือสิทธิ 1 ถึง 5 เป็นเสมือนสารเสริมในยาง, ยางซิลิโคน และพลาสติก, เพื่อปรับการไหลในสีทาและ การเคลือบ, เป็นเสมือนโพลีเอสเทอร์, เป็นเสมือนตัวค้ำจุนสำหรับตัวเร่งปฏิกิริยา, เพื่อผลิต ดิสเพอร์ชั่น
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH80967B TH80967B (th) | 2006-11-09 |
TH80967A TH80967A (th) | 2006-11-09 |
TH55727B true TH55727B (th) | 2017-07-03 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101148291B1 (ko) | 발열 제조된 이산화규소 분말 | |
KR100644313B1 (ko) | 화염 가수분해에 의해서 생성된 훈증 실리카, 그의제조방법 및 그의 용도 | |
KR100649047B1 (ko) | 발열 제조된 이산화규소 분말 | |
Briesen et al. | The effect of precursor in flame synthesis of SiO2 | |
ATE488472T1 (de) | Pyrogen hergestellte siliciumdioxidpulver und dieses pulver enthaltende silikondichtmasse | |
JPH09142829A (ja) | 熱分解法珪酸、その製法ならびにそれからなる充填剤、レオロジー調節剤、触媒担体、石英原料、電子包装材料及び分散液原料 | |
US2399687A (en) | Preparation of finely-divided silicon dioxide | |
SU1421256A3 (ru) | Способ получени пирогенной кремниевой кислоты | |
US5372795A (en) | Process for hydrophobicizing of pyrogenic silica | |
NL7908270A (nl) | Werkwijze voor de gestuurde bereiding van kiezelzuur met behulp van vlamhydrolyse. | |
TWI591017B (zh) | 具有可變稠化程度之矽石的製法 | |
TH55727B (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล | |
TH80967A (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล | |
NO147968B (no) | Elektrisk tenner | |
JP2023025185A (ja) | 高分散二酸化ケイ素を製造する方法 | |
TH55747B (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล และสารกระจายตัวของมัน | |
TH80965A (th) | ผงซิลิคอน ไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล และสารกระจายตัวของมัน | |
TH80797A (th) | ผงซิลิคอนไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล | |
TH57441B (th) | ผงซิลิคอนไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล | |
KR102278196B1 (ko) | 발열성 실리카의 제조 방법 | |
JP2889202B2 (ja) | 高分散性二酸化珪素の製造法 | |
TH80966A (th) | ผงซิลิคอนไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล และสารประกอบผนึกซิลิโคนที่ประกอบด้วยผงนี้ | |
TH37948B (th) | ผงซิลิคอนไดออกไซด์ที่ถูกผลิตขึ้นแบบไพโรจีนิคอล และสารประกอบผนึกซิลิโคนที่ประกอบด้วยผงนี้ |