JP2010156913A - レンズ形成方法 - Google Patents
レンズ形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010156913A JP2010156913A JP2009000160A JP2009000160A JP2010156913A JP 2010156913 A JP2010156913 A JP 2010156913A JP 2009000160 A JP2009000160 A JP 2009000160A JP 2009000160 A JP2009000160 A JP 2009000160A JP 2010156913 A JP2010156913 A JP 2010156913A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- sheet
- pin
- state
- liquid resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract description 8
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
【解決手段】上面が平面となるピン2を用いて、弾性のあるシート1をその下方から突き上げた状態とし、この突き上げ状態のシート1上に液状樹脂5を球状に塗布し、この液状樹脂5に紫外線を照射して硬化することによりレンズ50を形成し、その後、上記ピン2による突き上げ状態を解除する。次いで、シート1上のレンズ50を吸着コレット6でピックアップして剥離し、接着剤9を介して光半導体パッケージ8の搭載部に載置することで、レンズ50の組付けが完了する。
【選択図】図1
Description
即ち、図3には、従来(特許文献1)の撥液処理後の状態が示されており、図示されるように、基体11上においてマイクロレンズ形成領域12の周囲に、撥液性を得るための自己組織化膜13を形成し、このマイクロレンズ形成領域12に、樹脂14を滴下することで、この樹脂14の濡れ広がりが防止される。このような撥液処理は、プラズマ処理等でも行うことができる。
請求項2の発明は、上記ピンによる突き上げ状態を解除した後、上記シート上のレンズをピックアップ装置でピックアップし、接着剤を介して光半導体装置の搭載部に載置することを特徴とする。
4,4b…多ピン並設部材、
5…液状樹脂、 50…レンズ、
6…吸着コレット、 8…光半導体パッケージ、
9…接着剤、 F…台座。
Claims (2)
- 上面と側面との間に角を持つピンを用いて、弾性のあるシートをその下方から突き上げた状態とし、
この突き上げ状態のシート上に液状樹脂を球状に塗布し、
次いで、上記球状液状樹脂を硬化することによりレンズを形成し、
その後、上記ピンによる突き上げ状態を解除するレンズ形成方法。 - 上記ピンによる突き上げ状態を解除した後、上記シート上のレンズをピックアップ装置でピックアップし、接着剤を介して光半導体装置の搭載部に載置することを特徴とする請求項1記載のレンズ形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009000160A JP5436866B2 (ja) | 2009-01-05 | 2009-01-05 | レンズ形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009000160A JP5436866B2 (ja) | 2009-01-05 | 2009-01-05 | レンズ形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010156913A true JP2010156913A (ja) | 2010-07-15 |
JP5436866B2 JP5436866B2 (ja) | 2014-03-05 |
Family
ID=42574871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009000160A Active JP5436866B2 (ja) | 2009-01-05 | 2009-01-05 | レンズ形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5436866B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016206437A (ja) * | 2015-04-23 | 2016-12-08 | 三菱電機株式会社 | 波長多重光通信モジュールの製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04261501A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-09-17 | Olympus Optical Co Ltd | 微小光学素子の製造方法 |
JP2003240913A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-08-27 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ、光学膜、プロジェクション用スクリーン、及びプロジェクターシステム |
JP2004272016A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Seiko Epson Corp | 光通信モジュール、光通信システム、光通信モジュールの製造方法、及び電子機器 |
JP2006145738A (ja) * | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Seiko Epson Corp | 光素子の製造方法および光素子の製造装置 |
JP2006150751A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Sharp Corp | 3次元形状構成物の製造方法、及びマイクロレンズ |
-
2009
- 2009-01-05 JP JP2009000160A patent/JP5436866B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04261501A (ja) * | 1990-12-27 | 1992-09-17 | Olympus Optical Co Ltd | 微小光学素子の製造方法 |
JP2003240913A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-08-27 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ、光学膜、プロジェクション用スクリーン、及びプロジェクターシステム |
JP2004272016A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Seiko Epson Corp | 光通信モジュール、光通信システム、光通信モジュールの製造方法、及び電子機器 |
JP2006145738A (ja) * | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Seiko Epson Corp | 光素子の製造方法および光素子の製造装置 |
JP2006150751A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Sharp Corp | 3次元形状構成物の製造方法、及びマイクロレンズ |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016206437A (ja) * | 2015-04-23 | 2016-12-08 | 三菱電機株式会社 | 波長多重光通信モジュールの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5436866B2 (ja) | 2014-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8946093B2 (en) | Imprint method, imprint apparatus, and method of manufacturing semiconductor device | |
JP5796449B2 (ja) | 電子デバイスの製造方法、樹脂層付きキャリア基板の製造方法 | |
KR101583167B1 (ko) | 레티클 척 클리너 및 레티클 척 클리닝 방법 | |
JP6532428B2 (ja) | ペリクル | |
JP6475519B2 (ja) | 保護部材の形成方法 | |
WO2010107851A3 (en) | Rapid fabrication of a microelectronic temporary support for inorganic substrates | |
TW201716601A (zh) | 蒸鍍遮罩之製造方法、蒸鍍遮罩準備體、有機半導體元件之製造方法、有機電致發光顯示器之製造方法及蒸鍍遮罩 | |
WO2017045202A1 (en) | Method of manufacturing flexible display device | |
JP6441181B2 (ja) | インプリント用テンプレートおよびその製造方法、および半導体装置の製造方法 | |
JP5982996B2 (ja) | 異物除去方法 | |
JP5899585B2 (ja) | マスクの製造方法 | |
KR20210092225A (ko) | 마이크로 소자 이송 장치 및 이의 제조 방법 | |
JP6343814B2 (ja) | モールド、インプリント装置及びインプリント方法 | |
JP2016058663A (ja) | 感光性組成物、インプリント方法および層間層 | |
JP5436866B2 (ja) | レンズ形成方法 | |
JP6347741B2 (ja) | ペリクル | |
JP6139434B2 (ja) | インプリント方法 | |
JP6106949B2 (ja) | パターン形成方法 | |
US10185218B2 (en) | Method of transferring reverse pattern by using imprint process | |
WO2013161095A1 (ja) | 凹凸構造を有する結晶基板の製造方法 | |
KR102201321B1 (ko) | 임프린트 공정을 이용하여 패턴형성영역에 정렬된 패턴을 형성하는 방법 | |
TW201514611A (zh) | 膜罩修正裝置 | |
JP2008207374A (ja) | 樹脂モールドおよび樹脂モールドを利用した印刷版の製造方法 | |
TWI574344B (zh) | 支承板及其製造方法、基板處理方法 | |
JP5516196B2 (ja) | 薄膜トランジスタの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121024 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131001 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131211 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5436866 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |