JP2010153613A - 半導体ウエハ研磨用組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか1種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第4アンモニウムを含有することで、25℃におけるpHが8.5〜11.0に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。
【選択図】図1
Description
以下「半導体ウエハ研磨用組成物」を「研磨用組成物」と略記することがある。
エッジ面は上記の金属膜等が不規則に堆積した状態となっている。半導体素子チップに分割されるまではウエハは最初の円板状の形状を保ったままエッジ部を支えにした搬送等の工程が入る。搬送時にウエハの外周側面エッジが不規則な構造形状であると、搬送装置との接触により微小破壊が起こり微細粒子を発生する。その後の工程で発生した微粒子が散逸して精密加工を施した面を汚染し、製品の歩留まりや品質に大きな影響を与える。この微粒子汚染を防止するために、金属膜等の形成後に半導体ウエハのエッジ部分を鏡面研磨する加工が必要となっている。
特許文献9には、25℃における酸解離定数の逆数の対数値(pKa)が8.0〜12.0の弱酸および/または弱塩基を使用して、弱酸と強塩基、強酸と弱塩基あるいは弱酸と弱塩基の何れかの組み合わせのものを添加することによって、pH8.7〜10.6の間で緩衝作用を有する緩衝溶液として調整された酸化珪素のコロイド溶液が記載されている。しかしながら、アルカリ金属を配合しているため、研磨表面に対する近年の要求に対応することは困難であり、また、シリカ粒子の形状に関しては何ら言及されていない。
前記第一の発明および第二の発明においては、研磨用組成物の溶液全体に対してシリカ濃度が2〜50重量%の水分散液であることが好ましい。さらには、研磨用組成物の溶液全体に対してアルカリ金属濃度が100ppm以下であることが好ましい。
いずれの窒素含有塩基性化合物も、アルカリ金属を含まないことが好ましい。また、アルギニン以外のいずれの窒素含有塩基性化合物も、刺激性、毒性、腐食性が強く、10%程度の濃度の水溶液として使用することが好ましい。
本発明で使用するカチオン交換樹脂は、公知のものを適宜選択して使用することができ、とくに制限されない。珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂との接触工程は、例えば珪酸アルカリ水溶液をシリカ濃度3〜10重量%に水希釈し、次いでH型強酸性カチオン交換樹脂に接触させて脱アルカリし、必要に応じてOH型強塩基性アニオン交換樹脂に接触させて脱アニオンすることによって行うことができる。この工程により、活性珪酸水溶液が調製される。前記接触条件の詳細は、従来から既に様々な提案があり、本発明ではそれら公知のいかなる条件も採用することができる。
本発明のコロイダルシリカの製造方法は、前記活性珪酸水溶液を調製し、次いでこの活性珪酸水溶液に前記窒素含有塩基性化合物を添加してアルカリ性とした後、加熱してコロイド粒子を形成させる工程(種粒子形成工程)、前工程で形成したコロイド粒子に加熱条件下で、アルカリ性を維持しながら、前記活性珪酸水溶液とアルカリ剤または、前記活性珪酸水溶液と窒素含有塩基性化合物とアルカリ剤を添加してコロイド粒子を成長させる工程(粒子成長工程)を行う方法である。種粒子形成工程では窒素含有塩基性化合物を使用するが、粒子成長工程ではアルカリ剤だけの使用でもよい。アルカリ剤には水酸化第4アンモニウムを用いる。
水相に溶解している窒素含有塩基性化合物は限外濾過による濃縮工程で水とともに減少する。不足した場合には、濃縮後に添加補充することも好ましい。
強酸と第4アンモニウム塩基の塩としては、硫酸第4アンモニウム、硝酸第4アンモニウムまたはフッ化第4アンモニウムの少なくとも一つであることが好ましい。水酸化第4アンモニウムとしては水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウムまたは水酸化コリンが好ましい。
コロイダルシリカの分析には以下の装置を使用した。
(1)TEM観察:(株)日立製作所、透過型電子顕微鏡 H−7500型を使用した。
(2)BET法比表面積:(株)島津製作所、フローソーブ2300型を使用した。
(3)ヒドラジン以外の窒素含有塩基性化合物分析:(株)島津製作所、全有機体炭素計TOC−5000A、SSM−5000Aを使用した。炭素量より窒素含有塩基性化合物に換算した。具体的には、全有機体炭素量(TOC)は、全炭素量(TC)と無機体炭素量(IC)を測定後TOC=TC−ICにより求めた。TC測定の標準として炭素量1重量%のグルコース水溶液を用い、IC測定の標準として炭素量1重量%の炭酸ナトリウムを用いた。超純水を炭素量0重量%の標準とし、それぞれ先に示した標準を用い、TCは150μlと300μl、またICは250μlで検量線を作成した。サンプルのTC測定ではサンプルを約100mg採取し、900℃燃焼炉で燃焼させた。また、IC測定ではサンプルを約20mg採取し、(1+1)燐酸を約10ml添加し200℃燃焼炉で反応を促進した。
(4)ヒドラジン分析:(株)島津製作所、吸光光度計UV−VISIBLERECORDINGSPECTROPHOTOMETER UV−160を使用した。JISB8224に記載されているp−ジメチルアミノベンズアルデヒド吸光光度法により測定を行った。具体的には、試料を塩酸酸性にしてp−ジメチルベンズアルデヒドを加えて生じる黄色の化合物の吸光度を測定してヒドラジニュウムイオンを定量した。求められたヒドラジニュウムイオンの値からヒドラジン濃度を算出した。
(5)金属元素分析:(株)堀場製作所、ICP発光分析計、ULTIMA2を使用した。
以下、実施例(製造例1〜8)および比較例(製造例9〜10と市販品)に用いたコロイダルシリカの製造例を詳細に説明する。比較例での市販品1としては、市販のコロイダルシリカ(日本化学工業(株)製「シリカドール40L」,粒子径21nm、シリカ濃度40%、Na含有量4000ppm)を使用した。比較例での市販品2としては、市販のコロイダルシリカ(日本化学工業(株)製「シリカドール40G」,粒子径50nm、シリカ濃度40%、Na含有量3000ppm)を使用した。
脱イオン水28KgにJIS3号珪酸ソーダ(SiO2:28.8重量%、Na2O:9.7重量%、H2O:61.5重量%)5.2Kgを加えて均一に混合しシリカ濃度4.5重量%の希釈珪酸ソーダを作成した。この希釈珪酸ソーダを予め塩酸によって再生したH型強酸性カチオン交換樹脂(オルガノ(株)製アンバーライトIR120B)20リットルのカラムに通して脱アルカリし、シリカ濃度3.7重量%でpH2.9の活性珪酸水溶液40Kgを得た。
別途、無水エチレンジアミン(試薬)を純水に加えて10%エチレンジアミン水溶液を調製した。
次いで、ビルドアップの方法をとり、コロイド粒子を成長させた。すなわち、得られた活性珪酸水溶液の一部500gに攪拌下10%エチレンジアミン水溶液16gを加えてpHを8.5とし、攪拌下98℃に加熱して1時間保ち、98℃を維持したまま、7.6Kgの活性珪酸水溶液を16時間かけて添加した。活性珪酸水溶液の添加中は98℃を維持し、かつ途中で10%エチレンジアミン水溶液96gを断続的に加えてpH9〜10を維持した。添加終了後、98℃で1時間熟成を行い、放冷した。添加中の水の蒸発により放冷後には7.46Kgのコロイダルシリカが得られ、pHは9.7であった。
続いて、分画分子量6000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度23重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約1.35Kgを回収した。このコロイダルシリカは25℃のpHが9.4であって、BET法による粒子径は18.6nmであり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約20nmで、長径/短径比が1.5〜7の非球状の異形粒子群であって、長径/短径比の平均値は5となっていた。エチレンジアミンの全含有量は0.258重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ30ppmと0ppmであった。エチレンジアミンの使用によりアルカリ金属イオンの少ないコロイダルシリカが得られた。シリカ粒子のTEM写真を図1に示した。
製造例1と同じ方法でシリカ濃度3.7重量%でpH2.9の活性珪酸水溶液40Kgを得た。別途、ジエチレンジアミン6水和物(試薬)34gを純水に加えて全量を190gとし8%ジエチレンジアミン水溶液を調製した。
500gの活性珪酸水溶液に攪拌下8%ジエチレンジアミン水溶液30gを加えてpHを8.5とし、加熱して100℃に1時間保った後、活性珪酸水溶液9500gを9時間かけて添加した。添加中は8%ジエチレンジアミン水溶液を加えてpH9〜10を維持し温度も99℃を保った。添加終了後、99℃で1時間熟成を行い、放冷した。添加した8%ジエチレンジアミン水溶液は152gであった。8.38Kgのコロイダルシリカが得られ、pHは9.35であった。
続いて、分画分子量6000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度29.0重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約1218gを回収した。このコロイダルシリカは25℃のpHが8.9であって、BET法による粒子径は24.6nmであり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約25nmで、長径/短径比が1.5〜7の非球状の異形粒子群であって、長径/短径比の平均値は3となっていた。ジエチレンジアミンの全含有量は0.86重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ24ppmと0ppmであった。ジエチレンジアミンの使用によりアルカリ金属イオンの少ないコロイダルシリカが得られた。シリカ粒子のTEM写真を図2に示した。
製造例1と同じ方法でシリカ濃度3.7重量%、pH2.9の活性珪酸水溶液40Kgを得た。別途、イミダゾール結晶(99%試薬)を純水に溶解して、10%イミダゾール水溶液と2.5%イミダゾール水溶液を調製した。
次いで、ビルドアップの方法をとり、コロイド粒子を成長させた。すなわち、得られた活性珪酸水溶液の一部1000gに攪拌下10%イミダゾール水溶液を加えてpHを8.0とし、95℃に1時間保ち、残部の活性珪酸水溶液7080gを4.2時間かけて添加した。添加中は2.5%イミダゾール水溶液を加えてpHを8.0〜8.5に保ち、温度も97℃を保った。添加終了後、97℃で1時間熟成を行い、放冷した。続いて、分画分子量6000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度21重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約1300gを回収した。このコロイダルシリカは25℃のpHが8.3であって、シリカのBET法による粒子径が10.0nmで、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約12nmで、長径/短径比が1.5〜10の非球状の異形粒子群となっていた。長径/短径比の平均値は約3となっていた。イミダゾールの全含有量は0.85重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ5ppmと0ppmであった。イミダゾールの使用によりアルカリ金属イオンの少ないコロイダルシリカが得られた。シリカ粒子のTEM写真を図3に示した。
製造例1と同じ方法でシリカ濃度3.7重量%でpH2.9の活性珪酸水溶液40Kgを得た。別途、2-メチルイミダゾール結晶(99%試薬)を純水に溶解して、10%メチルイミダゾール水溶液と3%メチルイミダゾール水溶液を調製した。次いで、ビルドアップの方法をとり、コロイド粒子を成長させた。すなわち、得られた活性珪酸水溶液の一部1000gに攪拌下10%メチルイミダゾール水溶液を加えてpHを8.0とし、95℃に1時間保ち、残部の活性珪酸水溶液4500gを3.8時間かけて添加した。添加中は3%メチルイミダゾール水溶液を加えてpHを9.0に保ち、温度も97℃を保った。添加終了後、97℃で1時間熟成を行い、放冷した。続いて、分画分子量6000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度22重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約900gを回収した。このコロイダルシリカは25℃のpHが8.5であって、シリカのBET法による粒子径が11.5nmで、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が12nmであって、長径/短径比が1.5〜15の非球状の異形粒子群となっていた。長径/短径比の平均値は約5となっていた。メチルイミダゾールの全含有量は0.76重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ8ppmと0ppmであった。メチルイミダゾールの使用によりアルカリ金属イオンの少ないコロイダルシリカが得られた。シリカ粒子のTEM写真を図4に示した。
製造例1と同じ方法でシリカ濃度3.7重量%でpH2.9の活性珪酸水溶液40Kgを得た。別途、ピペリジン(試薬)を純水に加えて10%ピペリジン水溶液を調製した。
次いで、ビルドアップの方法をとり、コロイド粒子を成長させた。すなわち、得られた活性珪酸水溶液の一部500gに攪拌下10%ピペリジン水溶液20gを加えてpHを8.5とし、加熱して100℃に1時間保ち、2500gの活性珪酸水溶液を4時間かけて添加した。活性珪酸水溶液の添加中は100℃を維持し、10%ピペリジン水溶液を同時添加しpH9〜10を維持した。同時添加で使用した10%ピペリジン水溶液は68gであった。添加中の水の蒸発により放冷後には2660gのコロイダルシリカを得た。このコロイダルシリカは25℃でのpHが9.58であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約12nmで、長径/短径比が1.5〜10の非球状シリカの異形粒子群よりなるコロイダルシリカであった。
続いて、分画分子量6,000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度18重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約550gを回収した。このコロイダルシリカは25℃でのpHが9.1であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約12nmで、長径/短径比が1.5〜10の非球状の異形粒子群となっており、長径/短径比の平均値が3.5であった。また、BET法による粒子径は11.3nmであった。
ピペリジンの全含有量は0.96重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ35ppmと0ppmであった。ピペリジンの使用によりアルカリ金属イオンの少ないコロイダルシリカが得られた。シリカ粒子のTEM写真を図5に示した。
製造例1と同じ方法でシリカ濃度3.7重量%でpH2.9の活性珪酸水溶液40Kgを得た。別途、モルホリン(試薬)を純水に加えて10%モルホリン水溶液を調製した。
次いで、ビルドアップの方法をとり、コロイド粒子を成長させた。すなわち、得られた活性珪酸水溶液の一部500gに攪拌下10%モルホリン水溶液70gを加えてpHを9.0とし、加熱して100℃に1時間保ち、更に8570gの活性珪酸水溶液を9時間かけて添加した。活性珪酸水溶液の添加中は100℃を維持し、10%モルホリン水溶液を同時添加しpH9〜10を維持した。同時添加で使用した10%モルホリン水溶液は370gであった。添加中の水の蒸発により放冷後には6200gのコロイダルシリカを得た。
続いて、分画分子量6000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度17重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約1900gを回収した。このコロイダルシリカは25℃でのpHが9.2であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約15nmで、長径/短径比が1.5〜4の非球状の異形粒子群となっており、長径/短径比の平均値が2であった。また、BET法による粒子径は14.1nmであった。モルホリンの全含有量は0.81重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ45ppmと0ppmであった。モルホリンの使用によりアルカリ金属イオンの少ないコロイダルシリカが得られた。シリカ粒子のTEM写真を図6に示した。
製造例1と同じ方法でシリカ濃度3.7重量%でpH2.9の活性珪酸水溶液40Kgを得た。別途、アルギニン(試薬)を純水に加えて10%アルギニン水溶液を調製した。
次いで、ビルドアップの方法をとり、コロイド粒子を成長させた。すなわち、得られた活性珪酸水溶液の一部500gに攪拌下10%アルギニン水溶液50gを加えてpHを8.5とし、加熱して100℃に1時間保ち、さらに9500gの活性珪酸水溶液を4時間かけて添加した。活性珪酸水溶液の添加中は100℃を維持し、10%アルギニン水溶液を同時添加しpH9〜10を維持した。同時添加で使用した10%アルギニン水溶液は112gであった。添加中の水の蒸発により放冷後には7360gのコロイダルシリカを得た。このコロイダルシリカは25℃でのpHが9.09であった。
続いて、分画分子量6000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度25重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約1470gを回収した。このコロイダルシリカは25℃でのpHが8.60であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約12nmで、長径/短径比が1.1〜4の歪な球状ないし細長い形状のシリカの異形粒子群となっており、長径/短径比の平均値が1.3であった。また、BET法による比表面積換算の粒子径は11.2nmであった。アルギニンの全含有量は0.63重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ30ppmと0ppmであった。アルギニンの使用によりアルカリ金属イオンの少ないコロイダルシリカが得られた。シリカ粒子のTEM写真を図7に示した。
製造例1と同じ方法で、シリカ濃度3.7重量%でpH2.9の活性珪酸水溶液40Kgを得た。別途、ヒドラジン(抱水ヒドラジン、N2H4・H2O試薬)を純水に加えて5.1%、2.6%ヒドラジン水溶液を調製した。
次いで、ビルドアップの方法をとり、コロイド粒子を成長させた。すなわち、得られた活性珪酸水溶液の一部800gに攪拌下5.1%ヒドラジン水溶液24gを加えてpHを8.2とし、100℃に1時間保ち、さらに4.2Kgの活性珪酸水溶液を3.8時間かけて添加した。活性珪酸水溶液の添加中は100℃を維持し、2.6%ヒドラジン水溶液を同時添加しpH9〜10を維持した。同時添加で使用した2.6%ヒドラジン水溶液は0.57Kgであった。このコロイダルシリカは25℃でのpHが9.2であり、BET粒子径は11.9nmであり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約12nmで、長径/短径比が1.5〜10の非球状シリカの異形粒子群よりなるコロイダルシリカであった。
続いて、分画分子量6000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度18重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約970gを回収した。このコロイダルシリカは25℃でのpHが8.6であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約12nmで、長径/短径比が1.5〜10の非球状の異形粒子群となっており、長径/短径比の平均値が3.5であった。ヒドラジンの全含有量は0.64重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ6ppmと0ppmであった。ヒドラジンの使用によりアルカリ金属イオンの少ないコロイダルシリカが得られた。シリカ粒子のTEM写真を図8に示した。
製造例1における活性珪酸水溶液の添加量を30Kgとした以外は製造例1と同様にしてエチレンジアミンを使用したコロイダルシリカを作成した。
限外濾過でシリカ濃度27重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約4.1Kgを回収した。このコロイダルシリカは25℃のpHが8.4であって、BET法による粒子径は27.4nmであり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約33nmで、長径/短径比が1.5〜4の非球状の異形粒子群であって、長径/短径比の平均値は3となっていた。エチレンジアミンの全含有量は0.19重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ60ppmと0ppmであった。
製造例2でジエチレンジアミンを使用して作成したシリカ濃度29.0重量%のコロイダルシリカ640gに純水を加えて全量を5000gとし、攪拌下8%ジエチレンジアミン水溶液を加えてpHを8.5とし、加熱して100℃に1時間保った後、活性珪酸水溶液10670gを9時間かけて添加した。添加中は8%ジエチレンジアミン水溶液を加えてpH9〜10を維持し温度も99℃を保った。添加終了後、99℃で1時間熟成を行い、放冷した。
続いて、分画分子量6000の中空糸型限外濾過膜(旭化成(株)製マイクローザUFモジュールSIP−1013)を用いてポンプ循環送液による加圧濾過を行い、シリカ濃度33重量%まで濃縮し、コロイダルシリカ約1750gを回収した。このコロイダルシリカは25℃のpHが8.3であって、BET法による粒子径は36.1nmであり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察では平均短径が約41nmで、長径/短径比が1.1〜2.5の非球状の異形粒子群であって、長径/短径比の平均値は1.6となっていた。ジエチレンジアミンの全含有量は0.43重量%であり、NaとKの含有率はそれぞれ19ppmと0ppmであった。
実施例に用いたコロイダルシリカを表1に、比較例に用いたコロイダルシリカを表2に示す。
以下、25%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液、35%水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液および水酸化コリンをそれぞれ、TMAH、TEAHおよびコリンと記載する。実施例1として、製造例1〜8のコロイダルシリカに純水を加えてシリカ濃度2重量%とし、TMAH、TEAHまたはコリンとを添加してpHが10.2の研磨用組成物を作成した。
比較例1として、製造例9〜10および市販品のコロイダルシリカに純水を加えてシリカ濃度2重量%として研磨用組成物を作成した。
作成した研磨用組成物でシリコンウエハの研磨試験を行った結果を表3に記載した。
研磨条件は以下の方法で鏡面研磨加工を実施した。
実施例1及び比較例1は、下記の片面研磨条件を用い、ベアウエハの一方の平面を研磨した。
(片面の研磨条件)
研磨装置:スピードファム株式会社製、SH−24型片面加工機
定盤回転数:70RPM
プレッシャープレート回転数:50RPM
研磨布:suba600(ロデールニッタ社製)
面圧力:150g/cm2
研磨組成物流量:100ml/分
研磨時間:10分
工作物:200mmφベアシリコンウエハ
研磨後洗浄:アンモニア水スクラブ洗浄後、純水スクラブ洗浄30秒
ウエハの研磨後洗浄工程では、1%アンモニア水溶液によるブラシスクラブ洗浄の後、純水によるブラシスクラブ洗浄を各30秒実施した後、窒素ブローを施しながらスピン乾燥を行った。
片面研磨の研磨速度は、研磨前後のシリコンウエハの厚さの差より算出した。
シリコンウエハの厚さは、ウルトラゲージ9700(ADE社製)を用い測定した。
片面研磨、洗浄後の研磨面に残存するパーティクル数は、WM−10(TOPCON社製)を用い0.1μm以上のパーティクル数を測定した。
片面研磨、洗浄後の研磨面の表面状態は、集光灯下目視で観察した。
以下、水酸化テトラメチルアンモニウムをTMAHと記載し、炭酸水素テトラメチルアンモニウムをTMACと記載する。
25%TMAH水溶液180Kgに炭酸ガスをバブリングして、33.1%TMAC水溶液201.7Kgを作成した。TMAC/TMAHのモル比が1.1と成るよう、33.1%TMAC水溶液201.7Kgに163.6Kgの25%TMAH水溶液を加えて混合し、365.3KgのTMAC/TMAH緩衝溶液を作成した。製造例1〜8のコロイダルシリカに純水を加えてシリカ濃度2重量%とし、表4に記載した量のTMAC/TMAH緩衝溶液を添加して研磨用組成物を作成した。緩衝溶液の添加量はコロイダルシリカのシリカ1Kgあたりのモル量であって、例えば0.1mol/Kg−SiO2とは、シリカ1Kgあたり0.11molのTMACと0.1molのTMAHを添加したことを示している。
作成した研磨用組成物でシリコンウエハの研磨試験を行った結果を表4に記載した。
研磨条件は前記実施例1と同様の条件で実施した。
製造例2〜8のコロイダルシリカに純水を加えてシリカ濃度2重量%とし、添加量を変えてTMAHを添加してpHが8〜12の研磨用組成物を作成した。
作成した研磨用組成物でシリコンウエハの研磨試験を行なった結果を表5及び表6に記載した。
研磨条件は前記実施例1と同様の条件で実施した。
製造例2〜6のコロイダルシリカおよび市販品に純水を加えてシリカ濃度4重量%とし、添加剤を添加、または添加せずして研磨用組成物を作成した。添加剤の緩衝溶液とは、実施例2で作成したTMAC/TMAH緩衝溶液である。
作成した研磨用組成物でシリコンウエハのエッジ研磨試験を行った。300枚の連続研磨を行い、研磨用組成物は循環して使用した。結果を表7に記載した。
(エッジ面の研磨条件)
本発明に使用したウエハエッジ研磨装置および研磨条件は以下の通りである。
研磨装置:スピードファム株式会社製、EPD−200X型エッジポリッシュ装置
ウエハ回転数:2000回/分
研磨時間:60秒/枚
研磨組成物流量:3L/分
研磨布:suba400(ニッタ・ハース社製)
加重:40N/ユニット
工作物:200mmφベアシリコンウエハ
連続してウエハを研磨し5枚目、および50枚目、以降100枚目ごとに、研磨速度を測定した。加工は各水準について300枚実施した。
エッジ研磨の研磨速度は、研磨前後のシリコンウエハの重量の差より算出した。
Claims (8)
- 珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか1種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第4アンモニウムを含有することで、25℃におけるpHが8.5〜11.0に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。
- 前記半導体ウエハ研磨用組成物が、25℃における酸解離定数の逆数の対数値(pKa)が8.0〜12.5の弱酸と水酸化第4アンモニウムの組み合わせによる25℃においてpH8.5〜11.0の間で緩衝作用を有する緩衝溶液を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体ウエハ研磨用組成物。
- 水酸化第4アンモニウムが、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウムまたは水酸化コリンであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体ウエハ研磨用組成物。
- 弱酸を構成する陰イオンが、炭酸イオン及び/または炭酸水素イオンであることを特徴とする請求項2に記載の半導体ウエハ研磨用組成物。
- 前記コロイダルシリカの電子顕微鏡観察による平均短径が10〜30nmであって、シリカ粒子の長径/短径比が1.1〜20であり、かつ、長径/短径比の平均値が1.2〜7である非球状のシリカ粒子を含有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の研磨用組成物。
- コロイダルシリカのシリカ粒子の窒素吸着BET法による平均粒子径が10〜50nmであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体ウエハ研磨用組成物。
- 前記コロイダルシリカの溶液全体に対してシリカ濃度が2〜50重量%の水分散液であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体ウエハ研磨用組成物。
- 前記コロイダルシリカの溶液全体に対してアルカリ金属濃度が100ppm以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体ウエハ研磨用組成物。
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