JP2010147338A - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発光点と電極間の距離dが下記式で示される。
λ1は発光層のフォトルミネッセンススペクトルの分光放射束とCIE標準視感度との積が極大値を示す波長、nは発光点と電極間の層の波長λ1での屈折率n1、k1は発光点と電極間の電極に接する層の波長λ1での屈折率及び消衰係数n2、k2は電極の波長λ1での屈折率及び消衰係数mは0又は1、mが0の場合は−1.17×norg/nEML+1.94≦a≦−0.16×norg/nEML+2.33mが1の場合は0.28×norg/nEML+0.75≦a≦2.85×norg/nEML−1.23norgは発光層に電極側で接する層の波長λ1での屈折率nEMLは発光層の波長λ1での屈折率。
【選択図】なし
Description
このとき、na、nb…は発光点から光反射性の電極2の間に位置する層のそれぞれの屈折率を、da、db…はこれらの層のそれぞれの厚みを意味する。複数のda、db…の値の組み合わせは、上記式(1)を満たすように適宜選択して決定される。
このとき、na、na…は発光点から光反射性の電極2の間に位置する層のそれぞれの屈折率を、da、db…はこれらの層のそれぞれの厚みを意味する。複数のda、db…の値の組み合わせは、上記式(2)を満たすように適宜選択して決定される。
尚、前記のように有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層3から光透過性の電極1内と基板6内に導入される光の総量が高められているため、光透過性の電極1の有機発光層5とは反対側に光の反射・屈折角を乱れさせる領域7、及び光透過性の基板6をこの順に積層し、かつ光透過性の基板6の外面側に更に別の光の反射・屈折角を乱れさせる領域7を設ける場合や、光透過性の基板6の外面側にのみ光の反射・屈折角を乱れさせる領域7を設ける場合であっても、非常に高い光取出し効率を実現することが可能である。
光の反射・屈折角を乱れさせる領域7が設けられた光透過性基板6を、次のようにして作製した。まず、テトラエトキシシラン86.8gにイソプロピルアルコール803.5gを加え、更にγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン34.7g及び0.1N−硝酸75gを加え、ディスパーを用いてよく混合することによって溶液を得た。得られた溶液を40℃恒温槽中で2時間攪拌し、バインダー形成材料として重量平均分子量が1050のシリコーンレジン5質量%溶液を得た。
電子輸送層9の厚みを155nmとしたこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9の厚みを235nmとしたこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9の厚みを350nmとしたこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9の厚みを435nmとしたこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
実施例1と同じ条件で、基板6上に領域7、電極1、ホール輸送層8、発光層3(第一の発光層3)を順次形成した。次に、電子輸送層9としてTpPyPhBを厚み50nmに成膜した。次いで電荷供給層10として、下記[化2]に示すTmPyPhBにLiをモル比1:0.3でドープした層を厚み10nmに形成すると共に酸化モリブデン層を厚み10nmに形成した。更にホール輸送層8としてα−NPDを厚み110nm、第二の発光層3として下記[化3]に示すTBADNに下記[化4]に示すTBPをドープした層を厚み30nmに、電子輸送層9として、TpPyPhBを厚み50nmに成膜し、更に電子注入層としてLiFを厚み1nm、陰極としてAlを厚み80nmに成膜して、二つの発光層3を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
実施例4と同じ条件で、基板6上に領域7、電極1、ホール輸送層8、発光層3、電子輸送層9、電荷供給層10、酸化モリブデン層を、順次形成した。次にホール輸送層8としてα−NPDを厚み200nm成膜した。次に、実施例4と同じ条件で第二の発光層3を形成した後、電子輸送層9としてTpPyPhBを厚み150nmに成膜した。更に実施例4と同じ条件で電子注入層及び陰極を形成して、二つの発光層3を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9としてTmPyPhBを厚み70nmに成膜したこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9としてTmPyPhBを厚み170nmに成膜したこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9としてTmPyPhBを厚み230nmに成膜したこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9としてTmPyPhBを厚み345nmに成膜したこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9としてDPBを厚み85nmに成膜したこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9としてDPBを厚み185nmに成膜したこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9としてDPBを厚み275nmに成膜したこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
電子輸送層9としてDPBを厚み380nmに成膜したこと以外は、実施例1と同じ条件で有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
(1)ルブレン
ホストとして用いるAlq3に発光ドーパントとして用いるルブレンを6質量%ドープした共蒸着膜をガラス基板上に蒸着し、フォトルミネッセンススペクトルを計測した結果、その極大値をとる波長は559nmであった。
ホストとして用いるTBADNに発光ドーパントとして用いるTBPを4質量%ドープした共蒸着膜をガラス基板上に蒸着し、ルブレンの場合と同様にフォトルミネッセンススペクトルを測定したところ、極大値をとる波長λ1は462nm、分光放射束とCIE標準比視感度との積が極大値を示す波長は504nm、分光放射束を各波長におけるフォトンエネルギーで除した商が極大値を示す波長λ2は464nmであった。
各実施例、比較例で有機エレクトロルミネッセンス素子を作製するのに用いた材料に関し、ルブレン、TBPの上記波長λ1、λ2ごとの、屈折率、消衰係数などを下表にまとめる。ここで、ルブレンの上記波長λ1、λ2については表1に、TBPの上記波長λ1、λ2については表2に示している。
各実施例および比較例にて得られた有機エレクトロルミネッセンス素子において、電極間に電流密度が10mA/cm2となるように電流を流し、出射光を積分球によって計測した。
2 光反射性の電極
3 発光層
5 有機発光層
6 基板
7 光の反射・屈折角を乱れさせる領域
Claims (3)
- 光透過性の電極と光反射性の電極との間に発光材料を含有する発光層を含む有機発光層が設けられ、前記光透過性の電極の有機発光層とは反対側に光の反射・屈折角を乱れさせる領域と、光透過性の基板とがこの順に積層して設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記有機発光層に含まれる少なくとも一つの発光層における発光点と光反射性の電極との間の距離dが、下記式(1)で示される距離であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
nは発光層における発光点と光反射性の電極との間に位置する層の波長λ1における屈折率である。
n1、k1はそれぞれ発光層における発光点と光反射性の電極との間に位置し、かつ光反射性の電極に接する層の波長λ1における屈折率及び消衰係数である。
n2、k2はそれぞれ光反射性の電極の波長λ1における屈折率及び消衰係数である。
mは0又は1である。
aは、mが0の場合に、−1.17×norg/nEML+1.94≦a≦−0.16×norg/nEML+2.33の関係を満たし、mが1の場合に、0.28×norg/nEML+0.75≦a≦2.85×norg/nEML−1.23の関係を満たす数である。
norgは発光層に光反射性の電極側で接する層の波長λ1における屈折率である。
nEMLは発光層の波長λ1における屈折率である。 - 光透過性の電極と光反射性の電極との間に発光材料を含有する発光層を含む有機発光層が設けられ、前記光透過性の電極の有機発光層とは反対側に光の反射・屈折角を乱れさせる領域と、光透過性の基板とがこの順に積層して設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記有機発光層に含まれる少なくとも一つの発光層における発光点と光反射性の電極との間の距離dが、下記式(2)で示される距離であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
nは発光層における発光点と光反射性の電極との間に位置する層の、波長λ2における屈折率である。
n1、k1は、それぞれ発光層における発光点と光反射性の電極との間に位置し、且つ光反射性の電極に接する層の、波長λ2における屈折率及び消衰係数である。
n2、k2は、それぞれ光反射性の電極の、波長λ2における屈折率及び消衰係数である。
mは0又は1である。
aは、mが0の場合に、−1.17×norg/nEML+1.94≦a≦−0.16×norg/nEML+2.33を満たし、mが1の場合に、0.28×norg/nEML+ 0.75≦a≦2.85×norg/nEML−1.23の関係を満たす数である。
norgは、発光層に光反射性の電極側で接する層の、波長λ2における屈折率である。
nEMLは、発光層の波長λ2における屈折率である。 - 光透過性の電極と光反射性の電極との間に発光材料を含有する二層の発光層を含む有機発光層を設けると共に前記光透過性の電極の有機発光層とは反対側に光の反射・屈折角を乱れさせる領域と、光透過性の基板とがこの順に積層して設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記有機発光層に含まれる二層の各発光層における発光点と光反射性の電極との間の距離が、請求項1における上記式(1)と請求項2における上記式(2)のうちのいずれかで示される距離であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
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