JP2010141035A - 移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
回転する定盤RB1を回転駆動しつつ、回転している定盤RB1上でレチクルR11,R12,R13のそれぞれを保持するステージを駆動することにより、これらのステージを走査方向に延びる直線経路P11−P12に沿って、交互に且つ繰り返し、等速度で駆動するステージ駆動系221を露光装置に搭載する。ステージ駆動系221を用いて、複数のステージを走査方向に交互に駆動すると同時に、ウエハを保持するステージを走査方向に駆動することにより、ステージがそれぞれ保持するレチクルに形成されたパターンを、共通の投影光学系を介して、ウエハ上の走査方向に配列された複数の区画領域に連続して転写する。それにより、露光工程に要する時間の短縮、すなわちスループットの向上が可能となる。
【選択図】図3
Description
Claims (32)
- 所定平面に垂直な軸に対して回転する回転体と;
前記所定平面に平行な前記回転体の一面上に載置され、基板を保持して前記一面上を移動する少なくとも1つの移動体と;
前記回転体を回転駆動するとともに、前記移動体を前記垂直な軸に関する動径方向に駆動することで、前記移動体を、前記所定平面内の第1方向に延びる直線経路に沿って該経路の一端から他端に等速駆動する移動体駆動システムと;
を備える移動体装置。 - 前記移動体駆動システムは、
前記移動体の前記所定平面内での位置を計測する計測装置と、
前記計測装置の計測結果に基づいて、前記移動体を前記動径方向に駆動するとともに、前記動径と前記直線経路との交点を中心に前記移動体を前記一面内で回転駆動する駆動装置と、を備える請求項1に記載の移動体装置。 - 前記移動体は、前記垂直な軸から前記動径方向に所定距離隔てた前記一面上の領域内を移動する請求項1又は2に記載の移動体装置。
- 前記一面には、前記基板と対向する領域の少なくとも一部に開口が設けられている請求項1〜3のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記移動体は、前記一面上に浮上支持されている請求項1〜4のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記移動体を複数備える請求項1〜5のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記複数の移動体は、前記一面上に、前記垂直な軸から動径方向に等距離隔て、且つ前記垂直な軸を中心として等角度間隔で配置されている請求項6に記載の移動体装置。
- 前記移動体駆動システムは、前記回転体の回転方向を反転させて、前記移動体を前記一端から前記他端への順方向と該方向に対する逆方向とに等速駆動する請求項1〜7のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記移動体駆動システムは、前記直線経路と交差しない経路に沿って前記他端から前記一端に向かって前記移動体を周回駆動する請求項1〜8のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 複数のマスクと1つの共通の光学系を用いて前記複数のマスクに形成されたパターンを物体上に転写する走査露光方式の露光装置であって、
前記複数のマスクのうちの第1マスクを前記基板として保持する第1移動体を前記移動体として含み、前記第1移動体が所定平面内の走査方向に延びる第1直線経路を含む閉じた経路に沿って周回駆動される請求項9に記載の移動体装置から成る第1移動体装置と;
前記複数のマスクのうちの前記第1マスクとは別の第2マスクを前記基板として保持する第2移動体を前記移動体として含み、前記第2移動体が前記走査方向に延びる第2直線経路を含む閉じた経路に沿って周回駆動される請求項9に記載の移動体装置から成る第2移動体装置と;
前記物体を保持して、少なくとも前記走査方向に移動可能な第3移動体と;
前記第1移動体及び前記第2移動体に対して共通に設けられた光学系と;
前記第1及び第2移動体装置を用いて前記第1及び第2移動体を前記走査方向に交互に駆動すると同時に前記第3移動体を前記走査方向に駆動して、前記第1及び第2移動体が保持する前記第1及び第2マスクに形成されたパターンを、前記光学系を介して、前記第3移動体が保持する前記物体上の前記走査方向に配列された複数の区画領域に連続して転写するパターン転写装置と;
を備える露光装置。 - 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2移動体を互いに逆方向に周回駆動する請求項10に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2移動体を連続して複数回周回駆動する請求項10又は11に記載の露光装置。
- 前記第1及び第2直線経路は、前記所定平面内で前記走査方向に直交する非走査方向に離間する請求項10〜12のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記共通の光学系と前記第1マスクを介して前記物体が有する感応層に第1エネルギビームを投射するとともに、前記共通の光学系と前記第2マスクを介して前記感応層に第2エネルギビームを投射する請求項10〜13のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1移動体が前記第1直線経路上を移動する際に、前記第1移動体に保持された前記第1マスクに前記第1エネルギビームを投射し、前記第2移動体が前記第2直線経路上を移動する際に、前記第2移動体に保持された前記第2マスクに前記第2エネルギビームを投射する請求項14に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第3移動体が前記走査方向に移動する際に、前記第3移動体に保持された前記物体上の前記走査方向に配列された複数の区画領域に前記第1及び第2エネルギビームを交互に投射する請求項14又は15に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2エネルギビームを前記複数の区画領域に連続して投射する、請求項16に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2エネルギビームを、それぞれ、前記物体上の前記走査方向に離間する第1及び第2投射点に投射する請求項14〜17のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2エネルギビームのそれぞれを前記物体上に配列された前記走査方向に隣接する2つの区画領域に、前記第1及び第2投射点の前記走査方向に関する離間距離に対応する時間にわたって、同時に投射する請求項18に記載の露光装置。
- 前記第1及び第2エネルギビームは、それぞれ、独立なビーム源により生成・供給される請求項14〜19のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2移動体を、それぞれ、前記第1及び第2直線経路上で等速駆動する請求項10〜20のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2移動体を、前記走査方向に関して所定距離を隔てて連続して駆動する請求項21に記載の露光装置。
- 前記所定距離は、前記物体上に配列された前記走査方向に隣接する区画領域の中心間距離に対応する請求項22に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2移動体の等速駆動に同期して前記第3移動体を等速駆動する請求項21〜23のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第3移動体を、等速駆動する前記第1及び第2移動体の数に対応する距離にわたって等速駆動する請求項24に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、所定数の前記第1及び第2移動体をそれぞれの閉じた経路に沿って一方の向きに駆動した後、駆動された前記第1及び第2移動体をそれぞれの閉じた経路に沿って他方の向きに駆動する請求項21〜25のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2移動体の駆動方向を反転すると同時に、前記第3移動体の駆動方向を反転し、且つ前記所定平面内で前記走査方向に垂直な非走査方向に前記第3移動体をステップ駆動する請求項26に記載の露光装置。
- 前記ステップ駆動の距離は、前記物体上に配列された前記非走査方向に隣接する区画領域の配列間隔に対応する請求項27に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1及び第2移動体のそれぞれを駆動する2つの独立な移動体装置を有する請求項10〜28のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記パターン転写装置は、前記第1、第2、及び第3移動体の位置を計測する位置計測系と、該位置計測系の計測結果に従って前記第1、第2、及び第3移動体を駆動する駆動システムと、を有する請求項10〜29のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項10〜30のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、物体上にパターンを形成する工程と;
前記パターンが形成された前記物体に処理を施す工程と;
を含むデバイス製造方法。 - 所定平面上で移動体を駆動する移動体駆動方法であって、
前記所定平面に垂直な軸を中心として回転する回転体の前記所定平面に平行な一面上に、基板を保持する移動体を載置し、
前記回転体を回転駆動するとともに、前記移動体を前記垂直な軸に関する動径方向に駆動することで、前記移動体を、前記所定平面内の第1方向に延びる直線経路に沿って該経路の一端から他端に等速駆動する移動体駆動方法。
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