JP2010138393A - Energy ray-curable resin composition for optical lens sheet, and cured product thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物に関する。更に詳しくは、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等のレンズ類に特に適する樹脂組成物及びその硬化物に関する。 The present invention relates to an energy beam curable resin composition for an optical lens sheet and a cured product thereof. More specifically, the present invention relates to a resin composition particularly suitable for lenses such as a Fresnel lens, a lenticular lens, a prism lens, and a microlens, and a cured product thereof.
従来、上記のレンズはプレス法、キャスト法(注型形成法)等の方法により成形されていた。前者のプレス法は、加熱、加圧、冷却サイクルで製造するため生産性が悪かった。又、後者のキャスト法は、金型にモノマーを流し込んで重合するため製作時間が長くかかるとともに、金型が多数個必要なため製造コストが上がるという問題があった。更に、このようにして成型されたレンズシートの表面は導電性が乏しく、塵埃の吸着という問題があった。この問題を解決するために、導電性を付与したエネルギー線硬化型樹脂組成物の使用について種々の提案がなされている(特許文献1、特許文献2等)。 Conventionally, the above-described lens has been molded by a method such as a press method or a cast method (casting method). The former pressing method was poor in productivity because it was manufactured by heating, pressurizing and cooling cycles. Further, the latter casting method has a problem that it takes a long manufacturing time because a monomer is poured into a mold for polymerization, and a manufacturing cost increases because a large number of molds are required. Further, the surface of the lens sheet molded in this way has poor conductivity, and there is a problem of dust adsorption. In order to solve this problem, various proposals have been made on the use of an energy ray curable resin composition imparted with conductivity (Patent Document 1, Patent Document 2, etc.).
即ち、これらのエネルギー線硬化型樹脂組成物に界面活性剤を添加したり、導電性を有する微粒子等の帯電防止剤を添加する方法である。 That is, it is a method of adding a surfactant to these energy beam curable resin compositions or adding an antistatic agent such as conductive fine particles.
しかしながら、界面活性剤を添加する方法では湿熱条件下でのブリードの問題があり、金属微粒子等の帯電防止剤の添加は透過率の低下等の問題がある。 However, the method of adding a surfactant has a problem of bleeding under wet heat conditions, and the addition of an antistatic agent such as metal fine particles has a problem of a decrease in transmittance.
光学レンズシート等に用いられる樹脂組成物は、近年の画像の高精細化や最終製品の薄型化等に伴い屈折率の高い樹脂組成物が望まれており、又、より微細な形状に加工し、より薄く加工し、ロール状のシートやフィルムに連続加工したりするために、低粘度のものが求められる傾向がある。更に、光学レンズシートを巻き取ったとき等に微細構造が潰れにくいことも必要であり、ガラス転移温度(Tg)が高いことが求められている。 Resin compositions used for optical lens sheets and the like have been desired to have a high refractive index along with recent high-definition images and thinner final products, and have been processed into finer shapes. In order to process the film more thinly and continuously process it into a roll-like sheet or film, a low-viscosity one tends to be required. Furthermore, it is necessary that the microstructure is not easily crushed when the optical lens sheet is wound up, and a high glass transition temperature (Tg) is required.
その中で、特許文献3では密着性、離型性の両性能を兼ね備えた樹脂組成物が提案されているが、より微細な形状に加工するための粘度としては高すぎるものであり、特許文献4では高屈折率の樹脂組成物の提案がなされているが、密着性及び離型性については言及されておらず、密着性と離型性のバランスの取れた高屈折率で微細な構造を持つ光学レンズシートの要求に対する提案は、いずれの特許文献にも記載されていない。 Among them, Patent Document 3 proposes a resin composition having both adhesion and releasability, but the viscosity for processing into a finer shape is too high. No. 4 proposes a resin composition having a high refractive index, but does not mention adhesion and releasability, and has a fine structure with a high refraction index that balances adhesion and releasability. A proposal for the requirement of the optical lens sheet is not described in any patent document.
又、光学レンズシートを高温環境下で使用しても物性の変化が少ないように、なるべくガラス転移温度(Tg)の高い硬化物を与えるものが求められる傾向にあり、長期間使用した際に着色による物性低下がおこらないよう耐光性の良いものが求められ、又、最近では家電製品等の部品に難燃性のものを使用することが求められることも多い。しかしながら、高い屈折率、高いTg点、離型性、密着性、低粘度、耐光性等を兼ね備えることは難しく、すべてを満足できるものは得られていなかった。 In addition, there is a tendency to obtain a cured product having as high a glass transition temperature (Tg) as possible so that even if the optical lens sheet is used in a high temperature environment, there is a tendency to change the physical properties. In order to prevent deterioration of physical properties due to the above, a light-resistant material is required, and recently, it is often required to use a flame-retardant material for parts such as home appliances. However, it is difficult to combine high refractive index, high Tg point, releasability, adhesion, low viscosity, light resistance and the like, and none satisfying all of them has been obtained.
本発明の目的は、帯電防止性を付与したフレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の光学レンズシートの製造に適した低粘度の樹脂組成物で、離型性、型再現性、密着性に優れ、高屈折率であるその硬化物を提供するものである。 The object of the present invention is a low-viscosity resin composition suitable for the production of optical lens sheets such as Fresnel lenses, lenticular lenses, prism lenses, and microlenses imparted with antistatic properties, with releasability, mold reproducibility, and adhesion. The cured product is excellent in properties and has a high refractive index.
本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意研究の結果、特定の組成成分にイオン性液体を含有するエネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物が前記課題を解決することを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that an energy beam curable resin composition containing an ionic liquid in a specific composition component and a cured product thereof solve the above problems. Completed the invention.
即ち、本発明は以下の(1)〜(7)に関する。
(1)イオン性液体(A)、分子中にフェニルエーテル構造を有さずアルキレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるポリアルキレンオキサイド構造と(メタ)アクリロイル基とを持つ化合物(B)、フェニルエーテル構造を有する(メタ)アクリレートモノマー(C)及び光重合開始剤(D)を含む光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。
(2)イオン性液体(A)が、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド又はビス(フルオロスルホニル)イミドをアニオンとし、ピリジニウム、イミダゾリウム、ホスホニウム、アンモニウム及びリチウムからなる群から選ばれる少なくとも1種のイオンをカチオンとする塩である上記(1)に記載の樹脂組成物。
That is, the present invention relates to the following (1) to (7).
(1) An ionic liquid (A), a compound (B) having a polyalkylene oxide structure having no phenyl ether structure in the molecule and having 3 to 50 alkylene oxide repeats and a (meth) acryloyl group, phenyl An energy ray-curable resin composition for an optical lens sheet, comprising a (meth) acrylate monomer (C) having an ether structure and a photopolymerization initiator (D).
(2) The ionic liquid (A) has at least one ion selected from the group consisting of pyridinium, imidazolium, phosphonium, ammonium, and lithium, using bis (trifluoromethanesulfonyl) imide or bis (fluorosulfonyl) imide as an anion. The resin composition according to the above (1), which is a salt having cation as a cation.
(3)フェニルエーテル構造を有する(メタ)アクリレートモノマー(C)が、o−フェニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレート、p−フェニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールエポキシ(メタ)アクリレート又はp−フェニルフェノールエポキシ(メタ)アクリレートである上記(1)又は(2)に記載の樹脂組成物。
(4)更に、化合物(B)、(メタ)アクリレートモノマー(C)以外の(メタ)アクリレート化合物(E)を含む上記(1)〜(3)のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
(3) The (meth) acrylate monomer (C) having a phenyl ether structure is converted into o-phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, p-phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, o-phenylphenol epoxy ( The resin composition according to the above (1) or (2), which is a meth) acrylate or p-phenylphenol epoxy (meth) acrylate.
(4) The resin composition according to any one of (1) to (3), further including (meth) acrylate compound (E) other than compound (B) and (meth) acrylate monomer (C).
(5)E型粘度計で測定した25℃の粘度が3000mPa・s以下である上記(1)〜(4)のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
(6)上記(1)〜(5)のいずれか一項に記載の樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物であって、25℃における屈折率が1.52以上である硬化物。
(7)上記(1)〜(5)のいずれか一項に記載の樹脂組成物を硬化して得られる硬化物又は上記(6)に記載の硬化物を用いる光学レンズシート。
(5) The resin composition according to any one of (1) to (4), wherein the viscosity at 25 ° C. measured with an E-type viscometer is 3000 mPa · s or less.
(6) A cured product obtained by irradiating the resin composition according to any one of (1) to (5) with active energy rays, and a refractive index at 25 ° C. is 1.52 or more. Cured product.
(7) An optical lens sheet using a cured product obtained by curing the resin composition according to any one of (1) to (5) or the cured product according to (6).
本発明の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物は、帯電防止機能を有し、低粘度で、その硬化物は離型性、型再現性、基板との密着性に優れ、高屈折率であり、高温高湿中でも透明性を維持する。そのため特にフレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の光学レンズシートに適している。 The energy ray curable resin composition for optical lens sheets of the present invention has an antistatic function, has a low viscosity, and the cured product has excellent releasability, mold reproducibility, and adhesion to a substrate, and has a high refractive index. It maintains transparency even at high temperatures and high humidity. Therefore, it is particularly suitable for optical lens sheets such as Fresnel lenses, lenticular lenses, prism lenses, and micro lenses.
本発明の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物は、イオン性液体(A)、分子中にフェニルエーテル構造を有さずアルキレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるポリアルキレンオキサイド構造と(メタ)アクリロイル基とを持つ化合物(B)、フェニルエーテル構造を有する(メタ)アクリレートモノマー(C)及び光重合開始剤(D)を含む。更に、フェニルエーテル構造を有さずアルキレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるポリアルキレンオキサイド構造と(メタ)アクリロイル基とを持つ化合物(B)及びフェニルエーテル構造を有する(メタ)アクリレートモノマー(C)以外の(メタ)アクリレート化合物(E)を含んでいてもよい。 The energy ray-curable resin composition for an optical lens sheet of the present invention comprises an ionic liquid (A), a polyalkylene oxide structure having no phenyl ether structure in the molecule and 3 to 50 repeating alkylene oxides ( A compound (B) having a (meth) acryloyl group, a (meth) acrylate monomer (C) having a phenyl ether structure, and a photopolymerization initiator (D) are included. Further, a compound (B) having a polyalkylene oxide structure and a (meth) acryloyl group having no phenyl ether structure and having 3 to 50 repeating alkylene oxides, and a (meth) acrylate monomer having a phenyl ether structure (C (Meth) acrylate compounds (E) other than) may be included.
本発明の樹脂組成物に含有されるイオン性液体(A)について説明する。
該イオン性液体(A)とは、例えば、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド又はビス(フルオロスルホニル)イミドをアニオンとし、ピリジニウム、イミダゾリウム、ホスホニウム、アンモニウム及びリチウムからなる群から選ばれる少なくとも1種のイオンをカチオンとする塩であり、中でもピリジニウム塩、イミダゾリウム塩が優れた帯電防止機能を有し好ましい。
The ionic liquid (A) contained in the resin composition of the present invention will be described.
The ionic liquid (A) is, for example, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide or bis (fluorosulfonyl) imide as an anion, and at least one selected from the group consisting of pyridinium, imidazolium, phosphonium, ammonium and lithium. Among them, salts having ions as cations, among them, pyridinium salts and imidazolium salts are preferable because they have an excellent antistatic function.
該ピリジニウム系のカチオンとしては特に限定されるものではないが、ピリジン環の炭素原子の置換基として(C1〜C4)アルキル基が好ましく、且つ、ピリジン環の窒素原子の置換基として(C2〜C18)アルキル基が好ましい。ピリジン環の炭素原子の置換基として複数の置換基を有する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。該ピリジニウム系のカチオンとしては、例えば、N−イソプロピル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−イソプロピル−3−エチル−4−メチルピリジニウムイオン、N−n−プロピル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−n−プロピル−3−エチル−4−メチルピリジニウムイオン、N−n−ブチル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−n−ブチル−3−エチル−4−メチルピリジニウムイオン、N−エチル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−エチル−3−エチル−4−メチルピリジニウムイオン、N−n−ヘキシル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−n−ヘキシル−3−エチル−4−メチルピリジニウムイオン、N−n−オクチル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−n−オクチル−3−エチル−4−メチルピリジニウムイオン、N−n−ドデシル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−n−ドデシル−3−エチル−4−メチルピリジニウムイオン、N−n−オクタデシル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−n−オクタデシル−3−エチル−4−メチルピリジニウムイオン等が挙げられる。上記カチオンのうち、N−イソプロピル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−n−プロピル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−n−ブチル−3,4−ジメチルピリジニウムイオン、N−エチル−3,4−ジメチルピリジニウムイオンが特に好ましい。 The pyridinium-based cation is not particularly limited, but a (C1 to C4) alkyl group is preferable as a carbon atom substituent of the pyridine ring, and (C2 to C18) is a nitrogen atom substituent of the pyridine ring. ) An alkyl group is preferred. When having a plurality of substituents as substituents of carbon atoms of the pyridine ring, they may be the same or different. Examples of the pyridinium-based cation include N-isopropyl-3,4-dimethylpyridinium ion, N-isopropyl-3-ethyl-4-methylpyridinium ion, Nn-propyl-3,4-dimethylpyridinium ion, Nn-propyl-3-ethyl-4-methylpyridinium ion, Nn-butyl-3,4-dimethylpyridinium ion, Nn-butyl-3-ethyl-4-methylpyridinium ion, N-ethyl- 3,4-dimethylpyridinium ion, N-ethyl-3-ethyl-4-methylpyridinium ion, Nn-hexyl-3,4-dimethylpyridinium ion, Nn-hexyl-3-ethyl-4-methylpyridinium Ion, Nn-octyl-3,4-dimethylpyridinium ion, Nn-octi -3-ethyl-4-methylpyridinium ion, Nn-dodecyl-3,4-dimethylpyridinium ion, Nn-dodecyl-3-ethyl-4-methylpyridinium ion, Nn-octadecyl-3,4 -Dimethylpyridinium ion, Nn-octadecyl-3-ethyl-4-methylpyridinium ion, etc. are mentioned. Among the above cations, N-isopropyl-3,4-dimethylpyridinium ion, Nn-propyl-3,4-dimethylpyridinium ion, Nn-butyl-3,4-dimethylpyridinium ion, N-ethyl-3 1,4-dimethylpyridinium ion is particularly preferred.
該イミダゾリウム系のカチオンとしては特に限定されるものではないが、イミダゾール環の炭素原子の置換基として(C1〜C4)アルキル基、窒素原子の置換基として(C1〜C18)アルキル基が好ましく、直鎖アルキル基が特に好ましい。イミダゾール環の炭素原子の置換基又は窒素原子の置換基として複数の置換基を有する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。該イミダゾリウム系のカチオンとしては、例えば、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−プロピル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−デシル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−ドデシル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−テトラデシル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−ヘキサデシル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−オクタデシル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムイオン、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムイオン、1−ヘキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウムイオン、1−オクチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムイオン、1,3−ジメチルイミダゾリウムイオン、1−メチル−3−エチルイミダゾリウムイオン、1−メチル−3−ブチルイミダゾリウムイオン等が挙げられ、中でも1−エチル−3−メチルイミダゾリウムイオンが好ましい。 The imidazolium-based cation is not particularly limited, but a (C1-C4) alkyl group is preferable as a carbon atom substituent of the imidazole ring, and a (C1-C18) alkyl group is preferable as a nitrogen atom substituent. Straight chain alkyl groups are particularly preferred. When having a plurality of substituents as a carbon atom substituent or nitrogen atom substituent of the imidazole ring, they may be the same or different. Examples of the imidazolium cation include 1-ethyl-3-methylimidazolium ion, 1-propyl-3-methylimidazolium ion, 1-butyl-3-methylimidazolium ion, 1-hexyl-3- Methylimidazolium ion, 1-octyl-3-methylimidazolium ion, 1-decyl-3-methylimidazolium ion, 1-dodecyl-3-methylimidazolium ion, 1-tetradecyl-3-methylimidazolium ion, 1 Hexadecyl-3-methylimidazolium ion, 1-octadecyl-3-methylimidazolium ion, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazolium ion, 1-butyl-2,3-dimethylimidazolium ion, 1-hexyl -2,3-dimethylimidazolium ion, 1 Examples include octyl-2,3-dimethylimidazolium ion, 1,3-dimethylimidazolium ion, 1-methyl-3-ethylimidazolium ion, 1-methyl-3-butylimidazolium ion, etc. Among them, 1-ethyl -3-Methylimidazolium ion is preferred.
本発明の光学レンズシート用樹脂組成物に含有されるイオン性液体は、公知の方法若しくは公知の方法を参考に製造することができ、又、市販品を使用することもできる。 The ionic liquid contained in the resin composition for an optical lens sheet of the present invention can be produced by referring to a known method or a known method, and a commercially available product can also be used.
本発明の樹脂組成物に含有される分子中にフェニルエーテル構造を有さずアルキレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるポリアルキレンオキサイド構造と(メタ)アクリロイル基とを持つ化合物(B)について説明する。 The compound (B) having a polyalkylene oxide structure and a (meth) acryloyl group having no phenyl ether structure and 3 to 50 alkylene oxide repeats in the molecule contained in the resin composition of the present invention will be described. To do.
該化合物(B)としては、エチレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート(例えば、日本化薬(株)製、KAYARAD HX−220、HX−620等)等が挙げられ、又、屈折率を考慮してビスフェノールA骨格を含む構造の化合物が好ましい。該化合物としては、例えば、エチレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるビスフェノールAポリエトキシジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるビスフェノールAポリプロポキシジ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー;アルキレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるビスフェノールAポリエトキシジオールやビスフェノールAポリプロポキシジオール等のジオール化合物、あるいはこれらジオール化合物と二塩基酸若しくはその無水物との反応物であるポリエステルジオール化合物と、有機ポリイソシアネートと、水酸基含有(メタ)アクリレートとを反応させたビスフェノールAウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー;エチレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるビスフェノールAエチレンオキサイド付加物の末端グリシジルエーテルやプロピレンオキサイドの繰り返し数が3〜50であるビスフェノールAプロピレンオキサイド付加物の末端グリシジルエーテル等のエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応物であるビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられる。 Examples of the compound (B) include polyethylene glycol mono (meth) acrylate having an ethylene oxide repeating number of 3 to 50, polyethylene glycol di (meth) acrylate having an ethylene oxide repeating number of 3 to 50, and neodymium hydroxypivalate. Di (meth) acrylate of ε-caprolactone adduct of pentyl glycol (for example, KAYARAD HX-220, HX-620, etc., manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like, and bisphenol A in consideration of the refractive index A compound having a structure containing a skeleton is preferred. Examples of the compound include (meth) acrylates such as bisphenol A polyethoxydi (meth) acrylate having 3 to 50 ethylene oxide repeats and bisphenol A polypropoxydi (meth) acrylate having 3 to 50 propylene oxide repeats. ) Acrylate monomer; diol compound such as bisphenol A polyethoxydiol or bisphenol A polypropoxydiol having an alkylene oxide repeating number of 3 to 50, or a polyester which is a reaction product of these diol compound and dibasic acid or anhydride thereof A bisphenol A urethane (meth) acrylate oligomer obtained by reacting a diol compound, an organic polyisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate; It is a reaction product of an epoxy compound such as a terminal glycidyl ether of a bisphenol A ethylene oxide adduct which is 0 or a terminal glycidyl ether of a bisphenol A propylene oxide adduct having a repeating number of 3 to 50 with (meth) acrylic acid. A certain bisphenol A type epoxy (meth) acrylate oligomer etc. are mentioned.
次に、本発明の樹脂組成物に含有されるフェニルエーテル構造を有する(メタ)アクリレートモノマー(C)について説明する。
該フェニルエーテル構造を有する(メタ)アクリレートモノマー(C)としては、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノールポリエトキシ(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、p−クミルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェニルチオエチル(メタ)アクリレート、フェニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレート、フェニルフェノールグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸との反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート等を挙げることができ、フェニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレート、フェニルフェノールエポキシ(メタ)アクリレートが好ましく、中でもノニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレート、p−フェニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールエポキシ(メタ)アクリレート、p−フェニルフェノールエポキシ(メタ)アクリレートが好ましい。
Next, the (meth) acrylate monomer (C) having a phenyl ether structure contained in the resin composition of the present invention will be described.
Examples of the (meth) acrylate monomer (C) having a phenyl ether structure include phenoxyethyl (meth) acrylate, phenol polyethoxy (meth) acrylate, nonylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl. (Meth) acrylate, p-cumylphenoxyethyl (meth) acrylate, tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, phenylthioethyl (meth) acrylate, phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, phenylphenol glycidyl ether and ( Epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product with (meth) acrylic acid, and the like, such as phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, phenylphenol epoxy (Meth) acrylate is preferred, and among them, nonylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, o-phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, p-phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate, o-phenylphenol epoxy (meth) ) Acrylate and p-phenylphenol epoxy (meth) acrylate are preferred.
該フェニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレートとしては、エチレンオキサイドの繰り返し数が平均で1〜3の正数である化合物が好ましく、原料であるフェニルフェノールとエチレンオキサイドとの反応物と(メタ)アクリル酸を反応させることにより製造することができる。フェニルフェノールはオルト体であるo−フェニルフェノール、パラ体であるp−フェニルフェノールが好ましく、市販品を入手して使用することができる(例えば、O−PP、P−PPとして、何れも三光(株)製として入手可能)。フェニルフェノールとエチレンオキサイドとの反応物は、例えば、特開2001−124904号記載の方法やそれを応用することにより得ることができ、又、市販品も使用できる。フェニルフェノールとエチレンオキサイドとの反応物を、p−トルエンスルホン酸又は硫酸等のエステル化触媒、ハイドロキノンやフェノチアジン等の重合禁止剤の存在下に、好ましくは溶剤類(例えば、トルエン、シクロヘキサン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等)の存在下、好ましくは70〜150℃で(メタ)アクリル酸と反応させることによりフェニルフェノール(ポリ)エトキシ(メタ)アクリレートが得られる。(メタ)アクリル酸の使用割合は、フェニルフェノールとエチレンオキサイドとの反応物1モルに対して1〜5モル、好ましくは1.05〜2モルである。エステル化触媒は使用する(メタ)アクリル酸に対して0.1〜15モル%、好ましくは1〜6モル%である。 The phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate is preferably a compound in which the number of ethylene oxide repeats is a positive number of 1 to 3 on average, and a reaction product of phenylphenol and ethylene oxide as a raw material and (meth) It can be produced by reacting acrylic acid. Phenylphenol is preferably o-phenylphenol which is an ortho form, and p-phenylphenol which is a para form, and can be obtained by using commercially available products (for example, as O-PP and P-PP, all three light ( Available as a product). The reaction product of phenylphenol and ethylene oxide can be obtained, for example, by applying the method described in JP-A-2001-124904 or by applying it, and commercially available products can also be used. The reaction product of phenylphenol and ethylene oxide is preferably dissolved in the presence of an esterification catalyst such as p-toluenesulfonic acid or sulfuric acid, or a polymerization inhibitor such as hydroquinone or phenothiazine, such as toluene, cyclohexane, n- Phenylphenol (poly) ethoxy (meth) acrylate is obtained by reacting with (meth) acrylic acid in the presence of hexane, n-heptane, etc., preferably at 70 to 150 ° C. The use ratio of (meth) acrylic acid is 1 to 5 mol, preferably 1.05 to 2 mol, with respect to 1 mol of the reaction product of phenylphenol and ethylene oxide. An esterification catalyst is 0.1-15 mol% with respect to the (meth) acrylic acid to be used, Preferably it is 1-6 mol%.
本発明の樹脂組成物に含有される光重合開始剤(D)について説明する。
該光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;アセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−フェニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン]等のアセトフェノン類;2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフエノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルサルファイド、4,4'−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ジフェニル−(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類等を挙げることができる。
The photopolymerization initiator (D) contained in the resin composition of the present invention will be described.
Examples of the photopolymerization initiator include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin isobutyl ether; acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2 -Phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl Acetophenones such as 2-morpholinopropan-1-one and oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone]; 2-ethylanthraquinone, 2-tert- The Anthraquinones such as luanthraquinone, 2-chloroanthraquinone and 2-amylanthraquinone; Thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone and 2-isopropylthioxanthone; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyldimethyl ketal Benzophenones, such as benzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 4,4′-bismethylaminobenzophenone; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethyl) And phosphine oxides such as benzoyl) phenylphosphine oxide and diphenyl- (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide.
好ましくは、アセトフェノン類であり、更に好ましくは2−ヒドロキシ−2−メチル−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを挙げることができる。なお、本発明の樹脂組成物においては、光重合開始剤(D)は単独で用いてもよいし複数種を混合して用いてもよいが、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類を少なくとも1種用いるのが好ましい。 Preferred are acetophenones, and more preferred are 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone. In the resin composition of the present invention, the photopolymerization initiator (D) may be used singly or as a mixture of a plurality of types, but 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, It is preferable to use at least one phosphine oxide such as bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide and diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide.
次に、本発明の樹脂組成物の粘度、密着性や、ガラス転移温度(Tg)、硬化物の硬度等を考慮して含有させることが好ましい、化合物(B)、(メタ)アクリレートモノマー(C)以外の(メタ)アクリレート化合物(E)について説明する。
該(メタ)アクリレート化合物(E)としては(メタ)アクリレートモノマーや(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げられ、単独あるいは二種類以上を混合して使用してもよい。
Next, the compound (B), (meth) acrylate monomer (C), which is preferably contained in consideration of the viscosity, adhesion, glass transition temperature (Tg), hardness of the cured product, and the like of the resin composition of the present invention. The (meth) acrylate compound (E) other than) will be described.
Examples of the (meth) acrylate compound (E) include (meth) acrylate monomers and (meth) acrylate oligomers, which may be used alone or in admixture of two or more.
該(メタ)アクリレートモノマーとしては、単官能(メタ)アクリレートモノマー、2官能(メタ)アクリレートモノマー、3官能以上の多官能(メタ)アクリレートモノマー等を挙げることができる。 Examples of the (meth) acrylate monomer include a monofunctional (meth) acrylate monomer, a bifunctional (meth) acrylate monomer, and a trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate monomer.
単官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメタノールモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate monomer include acryloylmorpholine, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexane-1,4-dimethanol mono (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl. (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, etc. can be mentioned.
2官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, and tricyclo Examples include decanedimethanol di (meth) acrylate and ethylene glycol di (meth) acrylate.
3官能以上の多官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate monomer include tris ((meth) acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( (Meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethoxytri (meth) acrylate, trimethylolpropane diethoxytri (meth) Examples thereof include acrylate and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate.
該(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the (meth) acrylate oligomer include urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate.
ウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジオール化合物(エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、シクロヘキサン−1,4−ジメタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、アルキレンオキサイドの繰り返し数が1又は2のビスフェノールAポリエトキシジオール、アルキレンオキサイドの繰り返し数が1又は2のビスフェノールAポリプロポキシジオール)又はこれらのジオール化合物と二塩基酸(コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、ダイマー酸、イソフタル酸、テレフタル酸、フタル酸等)若しくはその無水物との反応物であるポリエステルジオールと、有機ポリイソシアネート(テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の鎖状飽和炭化水素ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシレンジイソシアネート、水添トルエンジイソシアネート等の環状飽和炭化水素ジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3'−ジメチル−4,4'−ジフェニレンジイソシアネート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート)を反応させ、次いで水酸基含有(メタ)アクリレート(ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等)を付加した反応物等が挙げられる。 Examples of urethane (meth) acrylates include diol compounds (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol. 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, cyclohexane-1,4-dimethanol, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and alkylene oxide having a repeating number of 1 or 2 Phenol A polyethoxydiol, bisphenol A polypropoxydiol having 1 or 2 alkylene oxide repeats) or these diol compounds and dibasic acids (succinic acid, adipic acid, azelaic acid, dimer acid, isophthalic acid, terephthalic acid, Polyester diol which is a reaction product of phthalic acid or the like or an anhydride thereof and organic polyisocyanate (tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene) Chain saturated hydrocarbon diisocyanates such as diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate Cyclic saturated hydrocarbon diisocyanates such as hydrogenated xylene diisocyanate and hydrogenated toluene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4 '-Diphenylene diisocyanate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, aromatic diisocyanate such as 1,5-naphthalene diisocyanate), and then hydroxyl group-containing (meth) acrylate (hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl) (Meth) acrylate and the like) and the like.
エポキシ(メタ)アクリレートとしては、エポキシ樹脂類(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フルオレンエポキシ樹脂等)と(メタ)アクリル酸との反応物等が挙げられる。
ポリエステル(メタ)アクリレートとしては、例えば、上記のジオール化合物と上記の二塩基酸又はその無水物との反応物であるポリエステルジオールと(メタ)アクリル酸との反応物等が挙げられる。
Examples of the epoxy (meth) acrylate include reaction products of epoxy resins (bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, fluorene epoxy resin, etc.) and (meth) acrylic acid.
Examples of the polyester (meth) acrylate include a reaction product of polyester diol and (meth) acrylic acid, which is a reaction product of the above diol compound and the above dibasic acid or anhydride thereof.
硬化物の密着性や粘度等を考慮すると、(メタ)アクリレート化合物(E)としては単官能あるいは2官能(メタ)アクリレートモノマーが適しており、中でも、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等が好ましい。 Considering the adhesiveness and viscosity of the cured product, a monofunctional or bifunctional (meth) acrylate monomer is suitable as the (meth) acrylate compound (E), and among them, acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl Oxyethyl (meth) acrylate and the like are preferable.
又、硬化物のガラス転移温度(Tg)を考慮すると、(メタ)アクリレート化合物(E)としてはトリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーが好ましい。 In consideration of the glass transition temperature (Tg) of the cured product, as the (meth) acrylate compound (E), tris ((meth) acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa ( Tri- or higher functional (meth) acrylate monomers such as (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (meth) acrylate are preferred.
本発明の樹脂組成物の各成分の使用割合は、所望の屈折率やガラス転移温度や粘度や密着性等を考慮して決められるが、モノマーとして、成分(B)+成分(D)+成分(E)を100質量部とした場合に、イオン性液体(A)の含有量は0.1〜50質量部であり、好ましくは1〜30質量部であり、より好ましくは2〜10質量部である。又、成分(B)+成分(C)+成分(E)を100質量部とした場合に、成分(B)+成分(C)の含有量は90質量部未満が好ましく、70質量部未満が特に好ましい。成分(D)は成分(B)+成分(C)+成分(E)の総量100質量部に対して、0.1〜10質量部使用することが好ましく、特に好ましくは0.3〜5質量部である。 The use ratio of each component of the resin composition of the present invention is determined in consideration of a desired refractive index, glass transition temperature, viscosity, adhesion and the like, but as a monomer, component (B) + component (D) + component When (E) is 100 parts by mass, the content of the ionic liquid (A) is 0.1 to 50 parts by mass, preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 2 to 10 parts by mass. It is. Moreover, when component (B) + component (C) + component (E) is 100 parts by mass, the content of component (B) + component (C) is preferably less than 90 parts by mass, and less than 70 parts by mass. Particularly preferred. Component (D) is preferably used in an amount of 0.1 to 10 parts by weight, particularly preferably 0.3 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of component (B) + component (C) + component (E). Part.
本発明のエネルギー線硬化型樹脂組成物には、前記成分以外に取り扱い時の利便性等を改善するために、離型剤、消泡剤、レベリング剤、光安定剤、酸化防止剤、重合禁止剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等を目的等に応じて併用して含有することができる。更に、必要に応じて、アクリルポリマー、ポリエステルエラストマー、ウレタンポリマーやニトリルゴム等のポリマー類、無機あるいは有機の光拡散フィラー等も添加することができる。溶剤を加えることもできるが、溶剤を添加しないものが好ましい。 In addition to the above components, the energy ray curable resin composition of the present invention includes a mold release agent, an antifoaming agent, a leveling agent, a light stabilizer, an antioxidant, and a polymerization prohibition in order to improve convenience during handling. An agent, an antistatic agent, an ultraviolet absorber and the like can be used in combination depending on the purpose. Furthermore, polymers such as acrylic polymers, polyester elastomers, urethane polymers and nitrile rubber, inorganic or organic light diffusing fillers, and the like can be added as necessary. Although a solvent can also be added, what does not add a solvent is preferable.
本発明の樹脂組成物は、各成分を常法に従い混合溶解することにより調製することができる。例えば、撹拌装置、温度計のついた丸底フラスコに各成分を仕込み、40〜80℃にて0.5〜6時間撹拌することにより得ることができる。 The resin composition of the present invention can be prepared by mixing and dissolving each component according to a conventional method. For example, each component can be prepared in a round bottom flask equipped with a stirrer and a thermometer and stirred at 40 to 80 ° C. for 0.5 to 6 hours.
本発明の樹脂組成物の粘度は、光学レンズシート類を製造するに適した粘度として、E型粘度計(TV−200:東機産業(株)製)を用いて25℃で測定した粘度が3000mPa・s以下である組成物が好ましい。 The viscosity of the resin composition of the present invention is a viscosity measured at 25 ° C. using an E-type viscometer (TV-200: manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) as a viscosity suitable for producing optical lens sheets. The composition which is 3000 mPa * s or less is preferable.
常法に従い、本発明の樹脂組成物に紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより硬化して得ることができる硬化物も本発明に含まれる。該硬化物は本発明の樹脂組成物を、例えば、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ等の形状を有するスタンパー上に塗布して該樹脂組成物の層を設け、その層の上に硬質透明基板であるバックシート(例えば、ポリメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、又はこれらポリマーのブレンド品等からなる基板あるいはフィルム)を接着させ、次いで該硬質透明基板側から高圧水銀灯等により紫外線を照射して該樹脂組成物を硬化させた後、該スタンパーから硬化物を剥離して得ることができる。又、これらの応用として連続式での加工により行うこともできる。 A cured product obtained by curing the resin composition of the present invention by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays according to a conventional method is also included in the present invention. The cured product is obtained by applying the resin composition of the present invention on a stamper having a shape of, for example, a Fresnel lens, a lenticular lens, or a prism lens to form a layer of the resin composition, and a hard transparent substrate on the layer. A back sheet (for example, a substrate or film made of polymethacrylic resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyester resin, or a blend of these polymers) is adhered, and then ultraviolet light is emitted from the hard transparent substrate side by a high-pressure mercury lamp or the like. After the resin composition is cured by irradiation, the cured product can be peeled off from the stamper. Moreover, it can also carry out by a continuous process as these applications.
この様にして得られる屈折率(25℃)が1.52以上の硬化物も本発明に含まれ、該硬化物は離型性、型再現性、密着性、耐光性に優れており、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の光学レンズ部分を形成した光学レンズシートを得ることができ、これらも本発明に含まれる。本発明のエネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物の屈折率(25℃)は1.55以上が好ましい。なお、屈折率はアッベ屈折率計(DR−M2:(株)アタゴ製)で測定することができる。 A cured product having a refractive index (25 ° C.) of 1.52 or more obtained in this way is also included in the present invention, and the cured product is excellent in releasability, mold reproducibility, adhesion, and light resistance. An optical lens sheet in which optical lens portions such as a lens, a lenticular lens, a prism lens, and a microlens are formed can be obtained, and these are also included in the present invention. The refractive index (25 ° C.) of the cured product of the energy beam curable resin composition of the present invention is preferably 1.55 or more. The refractive index can be measured with an Abbe refractometer (DR-M2: manufactured by Atago Co., Ltd.).
本発明の樹脂組成物は、上記したように、光学レンズシート用として有用である。光学レンズシート用以外の用途としては、例えば、各種コーティング剤、接着剤等が挙げられる。 As described above, the resin composition of the present invention is useful for optical lens sheets. Examples of uses other than those for optical lens sheets include various coating agents and adhesives.
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって何ら限定されるものではない。又、実施例中、特に断りがない限り、部は質量部を示す。
樹脂組成物及び硬化膜についての評価方法及び評価基準は以下の通り行った。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, this invention is not limited at all by the following examples. Moreover, unless otherwise indicated in an Example, a part shows a mass part.
The evaluation method and evaluation criteria for the resin composition and the cured film were as follows.
(1)粘度:E型粘度計(TV−200:東機産業(株)製)を用い、25℃にて測定した。
(2)離型性:硬化した樹脂を金型より離型させるときの難易度を表す。
○・・・・金型からの離型が良好である
△・・・・離型がやや困難あるいは離型時に剥離音がある
×・・・・離型が困難あるいは型残りがある
(3)型再現性:硬化した紫外線硬化性樹脂層の表面形状と金型の表面形状を観察した。
○・・・・再現性良好である
×・・・・再現性が不良である
(1) Viscosity: Viscosity was measured at 25 ° C. using an E-type viscometer (TV-200: manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).
(2) Releasability: Expresses the degree of difficulty when releasing a cured resin from a mold.
○ ································································································································ Mold reproducibility: The surface shape of the cured ultraviolet curable resin layer and the surface shape of the mold were observed.
○ ・ ・ ・ ・ Reproducibility is good × ・ ・ ・ ・ Reproducibility is poor
(4)密着性:基材上に樹脂組成物を膜厚約50μmに塗布し、次いで高圧水銀灯(80W/cm、オゾンレス)で1000mJ/cm2の照射を行い硬化させたテストピースを作製し、JIS K5600−5−6に準じて密着性評価を行った。
評価結果は0〜2を○とし、3〜5を×とした。
(5)屈折率(25℃):硬化した紫外線硬化性樹脂層の屈折率(25℃)をアッベ屈折率計(DR−M2:(株)アタゴ製)で測定した。
(6)ガラス転移温度(Tg):硬化した紫外線硬化性樹脂層のTg点を粘弾性測定システム(DMS−6000:セイコー電子工業(株)製)において、引っ張りモード、周波数1Hzにて測定した。
(4) Adhesion: A test piece was prepared by applying a resin composition to a film thickness of about 50 μm on a substrate and then irradiating it with 1000 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm, ozone-less), Adhesion evaluation was performed according to JIS K5600-5-6.
In the evaluation results, 0 to 2 were evaluated as ○, and 3 to 5 as ×.
(5) Refractive index (25 ° C.): The refractive index (25 ° C.) of the cured ultraviolet curable resin layer was measured with an Abbe refractometer (DR-M2: manufactured by Atago Co., Ltd.).
(6) Glass transition temperature (Tg): Tg point of the cured ultraviolet curable resin layer was measured with a viscoelasticity measurement system (DMS-6000: manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.) in a tensile mode at a frequency of 1 Hz.
(7)ヘイズの試験方法:硬化物を湿熱試験機(PP−2KP:ヤマト科学(株)製:60℃、95%RH(相対湿度))の中に72時間放置後、目視で曇りと透明度を評価した。
(8)表面抵抗値:基材上に樹脂組成物を膜厚約50μmに塗布し、次いで高圧水銀灯(80W/cm、オゾンレス)で1000mJ/cm2の照射を行い硬化させたテストピースを作製し、表面抵抗計((株)ダイアインスツルメンツ製「MCP−260」)で測定した。
(7) Haze test method: The cured product was allowed to stand in a wet heat tester (PP-2KP: manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd .: 60 ° C., 95% RH (relative humidity)) for 72 hours, and then visually checked for haze and transparency. Evaluated.
(8) Surface resistance value: A test piece was prepared by applying a resin composition to a film thickness of about 50 μm on a substrate and then irradiating it with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm, ozone-less) at 1000 mJ / cm 2. And a surface resistance meter ("MCP-260" manufactured by Dia Instruments Co., Ltd.).
合成例1
乾燥容器中に、トリレンジイソシアネート3.27部を仕込み、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(数平均分子量1968.77、水酸基価57)19.48部を、発熱を確認しながら3分割で仕込み、55℃で攪拌し、約3時間反応を行った。イソシアネート基が3.287質量%になったところで2−ヒドロキシエチルアクリレート2.23部とp−メトキシフェノール(重合禁止剤)0.012部を仕込み90℃で約20時間反応を行い、イソシアネート基が0.3質量%以下になったところで反応を終了した。
Synthesis example 1
3.27 parts of tolylene diisocyanate was charged into a dry container, and 19.48 parts of polytetramethylene ether glycol (number average molecular weight 1968.77, hydroxyl value 57) was charged in 3 portions while confirming heat generation. The reaction was carried out for about 3 hours. When the isocyanate group reached 3.287% by mass, 2.23 parts of 2-hydroxyethyl acrylate and 0.012 part of p-methoxyphenol (polymerization inhibitor) were added and reacted at 90 ° C. for about 20 hours. The reaction was terminated when it became 0.3% by mass or less.
実施例1
成分(A)としてN−n−ブチル−3−メチルピリジニウム・ビス(トリフルオロメタンスルホニウム)イミド1部、成分(B)としてニューフロンティアBPE−10(第一工業製薬(株)製:エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート)20部、成分(C)としてライトアクリレートNP−8EA(共栄社化学(株)製:ノニルフェノールポリエトキシアクリレート)10部、成分(D)として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン3部、成分(E)として合成例1で得た化合物20部、KAYARAD R−115(日本化薬(株)製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂のエポキシアクリレート)15部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート20部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10部、テトラヒドロフルフリルアクリレート5部を60℃に加温し、混合して本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は914mPa・sであった。又、この樹脂組成物を高圧水銀灯(80w/cm、オゾンレス)にて600mJ/cm2の照射を行って硬化した膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率(25℃)は1.522であり、ガラス転移温度(Tg)は42℃だった。
Example 1
Nn-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonium) imide 1 part as component (A), New Frontier BPE-10 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: ethylene oxide modified bisphenol) as component (B) 20 parts of A diacrylate), 10 parts of light acrylate NP-8EA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: nonylphenol polyethoxyacrylate) as component (C), 3 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as component (D), component (E ) 20 parts of the compound obtained in Synthesis Example 1, KAYARAD R-115 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy acrylate of bisphenol A type epoxy resin), 20 parts of 1,6-hexanediol diacrylate, dipenta 10 parts erythritol hexaacrylate, 5 parts of trahydrofurfuryl acrylate was heated to 60 ° C. and mixed to obtain a resin composition of the present invention. The viscosity of this resin composition was 914 mPa · s. Moreover, the refractive index (25 degreeC) of the 200-micrometer-thick UV curable resin layer which hardened this resin composition by irradiating 600 mJ / cm < 2 > with a high pressure mercury lamp (80 w / cm, ozone-less) is 1.522. Yes, the glass transition temperature (Tg) was 42 ° C.
評価結果
表面抵抗値は4×1012Ω/□であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistance value was 4 × 10 12 Ω / □.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
実施例2
成分(A)としてN−n−ブチル−3−メチルピリジニウム・ビス(トリフルオロメタンスルホニウム)イミド1部、成分(B)としてニューフロンティアBPE−10(第一工業製薬(株)製:エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート)25部、成分(C)としてo−フェニルフェノールモノエトキシアクリレート20部、成分(D)として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン3部、成分(E)として合成例1で得た化合物35部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート10部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10部を60℃に加温し、混合して本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は2685mPa・sであった。又、この樹脂組成物を高圧水銀灯(80w/cm、オゾンレス)にて600mJ/cm2の照射を行って硬化した膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率(25℃)は1.535であり、ガラス転移温度(Tg)は21℃だった。
Example 2
Nn-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonium) imide 1 part as component (A), New Frontier BPE-10 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: ethylene oxide modified bisphenol) as component (B) 25 parts of A diacrylate), 20 parts of o-phenylphenol monoethoxyacrylate as component (C), 3 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as component (D), 35 parts of the compound obtained in Synthesis Example 1 as component (E) , 10 parts of 1,6-hexanediol diacrylate and 10 parts of dipentaerythritol hexaacrylate were heated to 60 ° C. and mixed to obtain a resin composition of the present invention. The viscosity of this resin composition was 2585 mPa · s. Moreover, the refractive index (25 degreeC) of the 200-micrometer-thick UV curable resin layer which hardened this resin composition by irradiating 600 mJ / cm < 2 > with a high pressure mercury lamp (80 w / cm, ozone-less) is 1.535. Yes, the glass transition temperature (Tg) was 21 ° C.
評価結果
表面抵抗値は6×1011Ω/□であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistance value was 6 × 10 11 Ω / □.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
実施例3
成分(A)としてN−n−ブチル−3−メチルピリジニウム・ビス(トリフルオロメタンスルホニウム)イミド5部、成分(B)としてニューフロンティアBPE−10(第一工業製薬(株)製:エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート)47部、成分(C)としてKAYARAD OPP−1.5(日本化薬製:o−フェニルフェノール(ジ)エトキシアクリレート)40部、成分(D)として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン3部、成分(E)としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート13部を60℃に加温し、混合して本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は384mPa・sであった。又、この樹脂組成物を高圧水銀灯(80w/cm、オゾンレス)にて600mJ/cm2の照射を行って硬化した膜厚200μmの紫外線硬化型樹脂層の屈折率(25℃)は1.558であり、ガラス転移温度(Tg)は21℃だった。
Example 3
Nn-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonium) imide 5 parts as component (A), New Frontier BPE-10 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: ethylene oxide modified bisphenol) as component (B) 47 parts of A diacrylate), 40 parts of KAYARAD OPP-1.5 (manufactured by Nippon Kayaku: o-phenylphenol (di) ethoxyacrylate) as component (C), and 3 parts of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as component (D) As a component (E), 13 parts of dipentaerythritol hexaacrylate was heated to 60 ° C. and mixed to obtain a resin composition of the present invention. The viscosity of this resin composition was 384 mPa · s. Moreover, the refractive index (25 degreeC) of the 200-micrometer-thick UV-curable resin layer which hardened this resin composition by irradiating 600 mJ / cm < 2 > with a high pressure mercury lamp (80 w / cm, ozoneless) is 1.558. Yes, the glass transition temperature (Tg) was 21 ° C.
評価結果
表面抵抗率値は2×1011Ω/□であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistivity value was 2 × 10 11 Ω / □.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
実施例4
実施例3における成分(A)として、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム・ビス(トリフルオロメタンスルホニウム)イミドを5部使用すること以外は実施例3と同様に本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は363mPa・sであった。又、実施例3と同様にして得た樹脂層の屈折率(25℃)は1.557であり、ガラス転移温度(Tg)は20℃であり、プリズムレンズシートの評価結果を以下に示す。
Example 4
The resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 3 except that 5 parts of 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonium) imide was used as the component (A) in Example 3. . The viscosity of this resin composition was 363 mPa · s. The refractive index (25 ° C.) of the resin layer obtained in the same manner as in Example 3 is 1.557, the glass transition temperature (Tg) is 20 ° C., and the evaluation results of the prism lens sheet are shown below.
評価結果
表面抵抗率値は2×1011Ω/□であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistivity value was 2 × 10 11 Ω / □.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
実施例5
実施例3における成分(A)として、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム・ビス(フルオロスルホニウム)イミドを5部使用すること以外は実施例3と同様に本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は383mPa・sであった。又、実施例3と同様にして得た樹脂層の屈折率(25℃)は1.558であり、ガラス転移温度(Tg)は21℃であり、プリズムレンズシートの評価結果を以下に示す。
Example 5
A resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 3 except that 5 parts of 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (fluorosulfonium) imide was used as the component (A) in Example 3. The viscosity of this resin composition was 383 mPa · s. The resin layer obtained in the same manner as in Example 3 has a refractive index (25 ° C.) of 1.558 and a glass transition temperature (Tg) of 21 ° C. The evaluation results of the prism lens sheet are shown below.
評価結果
表面抵抗率値は5×1013Ω/□であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistivity value was 5 × 10 13 Ω / □.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
実施例6
実施例3における成分(A)として、リチウム・ビス(トリフルオロメチルスルホニウム)イミドを5部使用すること以外は実施例3と同様に本発明の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は403mPa・sであった。又、実施例3と同様にして得た樹脂層の屈折率(25℃)は1.556であり、ガラス転移温度(Tg)は21℃であり、プリズムレンズシートの評価結果を以下に示す。
Example 6
The resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 3 except that 5 parts of lithium bis (trifluoromethylsulfonium) imide was used as the component (A) in Example 3. The viscosity of this resin composition was 403 mPa · s. The refractive index (25 ° C.) of the resin layer obtained in the same manner as in Example 3 is 1.556, the glass transition temperature (Tg) is 21 ° C., and the evaluation results of the prism lens sheet are shown below.
表面抵抗率値は2×1013Ω/□であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
The surface resistivity value was 2 × 10 13 Ω / □.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
比較例1
特許文献3(特許第3209554号)の実施例1に従い、該文献の合成例1のウレタンアクリレート(ネオペンチルグリコールとアジピン酸のポリエステルジオール、エチレングリコール、トリレンジイソシアネート及び2−ヒドロキシエチルアクリレートの反応物)及び該文献合成例3の化合物(o−フェニルフェノールジエトキシアクリレート)を合成し、上記のウレタンアクリレート30部、上記のo−フェニルフェノールジエトキシアクリレート15部、KAYARAD R−551(ビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート)45部、トリブロモフェニルアクリレート10部、イルガキュア−184(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)3部を60℃に加温、混合し、比較用の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は4420mPa・sであった。又、本明細書の実施例1と同様にして得た樹脂層の屈折率(25℃)は1.574であった。
プリズムレンズシートの評価結果を以下に示す。
Comparative Example 1
According to Example 1 of Patent Document 3 (Japanese Patent No. 3209554), urethane acrylate of Synthesis Example 1 of this document (neopentyl glycol and polyester diol of adipic acid, ethylene glycol, tolylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate reaction product) ) And the compound of Reference Synthesis Example 3 (o-phenylphenol diethoxyacrylate), 30 parts of the above urethane acrylate, 15 parts of the above o-phenylphenol diethoxyacrylate, KAYARAD R-551 (bisphenol A tetraethoxy) Diacrylate) 45 parts, tribromophenyl acrylate 10 parts, and Irgacure-184 (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 3 parts were heated to 60 ° C. and mixed to obtain a comparative resin composition. The viscosity of this resin composition was 4420 mPa · s. Moreover, the refractive index (25 degreeC) of the resin layer obtained by carrying out similarly to Example 1 of this specification was 1.574.
The evaluation results of the prism lens sheet are shown below.
評価結果
表面抵抗率値は1013Ω/□をオーバーし、測定不能であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistivity value exceeded 10 13 Ω / □, and measurement was impossible.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
この結果から比較例1の組成物は本発明の組成物に比べて粘度が高く、その硬化物は帯電しやすく、微細な加工やロール状のシートやフィルムの連続加工に不向きである。 From this result, the composition of Comparative Example 1 has a higher viscosity than the composition of the present invention, the cured product is easily charged, and is unsuitable for fine processing and continuous processing of roll-shaped sheets and films.
比較例2
実施例1における成分(A)を除いて実施例1と同様に樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は905mPa・sであった。又、実施例1と同様にして得た樹脂層の屈折率(25℃)は1.522であり、ガラス転移温度(Tg)は42℃であった。プリズムレンズシートの評価結果を以下に示す。
Comparative Example 2
A resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except for the component (A) in Example 1. The viscosity of this resin composition was 905 mPa · s. The resin layer obtained in the same manner as in Example 1 had a refractive index (25 ° C.) of 1.522 and a glass transition temperature (Tg) of 42 ° C. The evaluation results of the prism lens sheet are shown below.
評価結果
表面抵抗率値は1013Ω/□をオーバーし、測定不能であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistivity value exceeded 10 13 Ω / □, and measurement was impossible.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
この結果から比較例2の組成物の硬化物は本発明の組成物の硬化物に比べて帯電しやすく、微細な加工やロール状のシートやフィルムの連続加工に不向きである。 From this result, the cured product of the composition of Comparative Example 2 is more easily charged than the cured product of the composition of the present invention, and is unsuitable for fine processing and continuous processing of roll-shaped sheets and films.
比較例3
実施例2における成分(A)を除いて実施例2と同様に樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は2694mPa・sであった。又、実施例2と同様にして得た樹脂層の屈折率(25℃)は1.535であり、ガラス転移温度(Tg)は20℃であった。プリズムレンズシートの評価結果を以下に示す。
Comparative Example 3
A resin composition was obtained in the same manner as in Example 2 except for the component (A) in Example 2. The viscosity of this resin composition was 2694 mPa · s. The resin layer obtained in the same manner as in Example 2 had a refractive index (25 ° C.) of 1.535 and a glass transition temperature (Tg) of 20 ° C. The evaluation results of the prism lens sheet are shown below.
評価結果
表面抵抗率値は1013Ω/□をオーバーし、測定不能であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistivity value exceeded 10 13 Ω / □, and measurement was impossible.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
この結果から比較例3の組成物の硬化物は本発明の組成物の硬化物に比べて帯電しやすく、微細な加工やロール状のシートやフィルムの連続加工に不向きである。 From this result, the cured product of the composition of Comparative Example 3 is more easily charged than the cured product of the composition of the present invention, and is unsuitable for fine processing and continuous processing of roll-shaped sheets and films.
比較例4
実施例3における成分(A)を除いて実施例3と同様に樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の粘度は403mPa・sであった。又、実施例3と同様にして得た樹脂層の屈折率(25℃)は1.554であり、ガラス転移温度(Tg)は21℃であった。プリズムレンズシートの評価結果を以下に示す。
Comparative Example 4
A resin composition was obtained in the same manner as in Example 3 except for the component (A) in Example 3. The viscosity of this resin composition was 403 mPa · s. The resin layer obtained in the same manner as in Example 3 had a refractive index (25 ° C.) of 1.554 and a glass transition temperature (Tg) of 21 ° C. The evaluation results of the prism lens sheet are shown below.
評価結果
表面抵抗率値は1013Ω/□をオーバーし、測定不能であった。
離型性:○、型再現性:○、密着性:○、ヘイズ目視検査結果:曇りがなく透明であった。
Evaluation results The surface resistivity value exceeded 10 13 Ω / □, and measurement was impossible.
Mold releasability: ◯, mold reproducibility: ◯, adhesion: ◯, haze visual inspection result: transparent without clouding.
この結果から比較例4の組成物の硬化物は本発明の組成物の硬化物に比べて帯電しやすく、微細な加工やロール状のシートやフィルムの連続加工に不向きである。 From this result, the cured product of the composition of Comparative Example 4 is more easily charged than the cured product of the composition of the present invention, and is not suitable for fine processing and continuous processing of roll-shaped sheets and films.
本発明の光学レンズシートは、帯電防止性を付与することにより剥離帯電や摩擦帯電を低減させることができた。それによって歩留まりを著しく向上させるとともに高い屈折率、高いTg点、離型性、密着性、低粘度、耐光性を兼ね備えた、すべてを満足できるものが得られるようになった。 The optical lens sheet of the present invention can reduce peeling charge and frictional charge by imparting antistatic properties. As a result, the yield is remarkably improved, and a combination of high refractive index, high Tg point, releasability, adhesion, low viscosity, and light resistance can be obtained.
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Cited By (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012077104A (en) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Sanyo Chem Ind Ltd | Ultraviolet curable antistatic resin composition |
JP2012219205A (en) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Kyoeisha Chem Co Ltd | Resin composition for optical material, and molded body thereof |
CN102786640A (en) * | 2011-05-17 | 2012-11-21 | 日本化药株式会社 | Energy ray curable resin composition for optical lens sheet, cured object thereof and optical lens sheet |
JP2013023525A (en) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Active energy ray curable antistatic composition, and optical film |
JP2015189222A (en) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 大日本印刷株式会社 | decorative sheet and decorative material |
JP2018088017A (en) * | 2013-05-23 | 2018-06-07 | 三菱ケミカル株式会社 | Optical film, method for forming optical film, and surface-emitting body |
WO2018135498A1 (en) | 2017-01-18 | 2018-07-26 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, and method for forming pattern |
WO2018155495A1 (en) | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, pattern forming method and purification method |
KR20180099681A (en) | 2015-12-25 | 2018-09-05 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, |
KR20190032379A (en) | 2016-07-21 | 2019-03-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITIONS, RESINS, COMPOSITIONS |
KR20190033537A (en) | 2016-07-21 | 2019-03-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, |
KR20190033536A (en) | 2016-07-21 | 2019-03-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, |
KR20190034149A (en) | 2016-07-21 | 2019-04-01 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITIONS, RESINS AND COMPOSITIONS, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD |
KR20190034213A (en) | 2016-07-21 | 2019-04-01 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITIONS, RESINS, COMPOSITIONS |
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KR20190057060A (en) | 2016-09-20 | 2019-05-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD |
KR20190057062A (en) | 2016-09-20 | 2019-05-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD |
KR20190085002A (en) | 2016-11-30 | 2019-07-17 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, |
KR20190086014A (en) | 2016-11-30 | 2019-07-19 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, |
WO2019142897A1 (en) | 2018-01-22 | 2019-07-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, and pattern forming method |
JP2019129280A (en) * | 2018-01-26 | 2019-08-01 | 協立化学産業株式会社 | Photocuring resin composition for imprint molding |
WO2019151400A1 (en) | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, method for forming resist pattern, method for forming circuit pattern, and method for purifying resin |
WO2019208763A1 (en) | 2018-04-27 | 2019-10-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Optical component forming composition, and cured article thereof |
WO2019230639A1 (en) | 2018-05-28 | 2019-12-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, resist pattern forming method, circuit pattern forming method, and resin purification method |
US10550068B2 (en) | 2015-07-23 | 2020-02-04 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound and method for producing same |
WO2020027206A1 (en) | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Optical component-forming composition, optical component, compound, and resin |
US10723690B2 (en) | 2015-07-23 | 2020-07-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | (Meth)acryloyl compound and method for producing same |
KR20210113990A (en) | 2019-01-11 | 2021-09-17 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Film formation composition, resist composition, radiation-sensitive composition, amorphous film production method, resist pattern formation method, lithography underlayer film formation composition, lithography underlayer film production method and circuit pattern formation method |
KR20210121061A (en) | 2019-01-31 | 2021-10-07 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Compound, resin, composition, resist pattern formation method, circuit pattern formation method and resin purification method |
KR20230035520A (en) | 2020-07-08 | 2023-03-14 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Composition for film formation, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, method for forming resist pattern, composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography and method for forming circuit pattern, composition for forming optical member, film Resin for forming, resist resin, radiation sensitive resin, resin for forming lower layer film for lithography |
KR20230038645A (en) | 2020-07-15 | 2023-03-21 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Polymer, composition, method for producing a polymer, composition, composition for film formation, resist composition, radiation-sensitive composition, composition for forming an underlayer film for lithography, method for forming a resist pattern, method for producing an underlayer film for lithography, method for forming a circuit pattern, and Composition for Forming Optical Members |
KR20230038652A (en) | 2020-07-15 | 2023-03-21 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Polycyclic polyphenol resin, composition, method for producing polycyclic polyphenol resin, composition for film formation, resist composition, method for forming resist pattern, radiation-sensitive composition, composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, circuit pattern Forming method, and composition for forming an optical member |
KR20230129974A (en) | 2021-01-19 | 2023-09-11 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Polymer, composition, polymer manufacturing method, film forming composition, resist composition, resist pattern forming method, radiation-sensitive composition, composition for forming an underlayer film for lithography, manufacturing method of an underlayer film for lithography, circuit pattern forming method, optical member forming dragon composition |
US11852970B2 (en) | 2015-08-24 | 2023-12-26 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for lithography, production method therefor, composition for lithography, pattern formation method, compound, resin, and method for purifying the compound or the resin |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10324726A (en) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Nippon Kayaku Co Ltd | Resin composition for optical material and its hardened material |
JP2005031282A (en) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Dainippon Printing Co Ltd | Resin composition for optical element, resin cured product for optical element, and optical element |
-
2009
- 2009-11-13 JP JP2009259648A patent/JP2010138393A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10324726A (en) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Nippon Kayaku Co Ltd | Resin composition for optical material and its hardened material |
JP2005031282A (en) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Dainippon Printing Co Ltd | Resin composition for optical element, resin cured product for optical element, and optical element |
Cited By (46)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012077104A (en) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Sanyo Chem Ind Ltd | Ultraviolet curable antistatic resin composition |
JP2012219205A (en) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Kyoeisha Chem Co Ltd | Resin composition for optical material, and molded body thereof |
CN102786640A (en) * | 2011-05-17 | 2012-11-21 | 日本化药株式会社 | Energy ray curable resin composition for optical lens sheet, cured object thereof and optical lens sheet |
JP2012242464A (en) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Nippon Kayaku Co Ltd | Energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and hardened material of the same |
JP2013023525A (en) * | 2011-07-19 | 2013-02-04 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Active energy ray curable antistatic composition, and optical film |
JP2018088017A (en) * | 2013-05-23 | 2018-06-07 | 三菱ケミカル株式会社 | Optical film, method for forming optical film, and surface-emitting body |
JP2015189222A (en) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 大日本印刷株式会社 | decorative sheet and decorative material |
US10723690B2 (en) | 2015-07-23 | 2020-07-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | (Meth)acryloyl compound and method for producing same |
US10550068B2 (en) | 2015-07-23 | 2020-02-04 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound and method for producing same |
US11852970B2 (en) | 2015-08-24 | 2023-12-26 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Material for lithography, production method therefor, composition for lithography, pattern formation method, compound, resin, and method for purifying the compound or the resin |
US11130724B2 (en) | 2015-12-25 | 2021-09-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, composition, resist pattern formation method, and circuit pattern formation method |
KR20180099681A (en) | 2015-12-25 | 2018-09-05 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, |
KR20190032379A (en) | 2016-07-21 | 2019-03-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITIONS, RESINS, COMPOSITIONS |
KR20190034149A (en) | 2016-07-21 | 2019-04-01 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITIONS, RESINS AND COMPOSITIONS, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD |
KR20190034213A (en) | 2016-07-21 | 2019-04-01 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITIONS, RESINS, COMPOSITIONS |
KR20190033536A (en) | 2016-07-21 | 2019-03-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, |
KR20190033537A (en) | 2016-07-21 | 2019-03-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, |
KR20190046861A (en) | 2016-09-13 | 2019-05-07 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Optical member forming composition |
KR20190049731A (en) | 2016-09-13 | 2019-05-09 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD |
KR20190053187A (en) | 2016-09-13 | 2019-05-17 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITIONS, RESINS, COMPOSITIONS |
KR20190057060A (en) | 2016-09-20 | 2019-05-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD |
KR20190057062A (en) | 2016-09-20 | 2019-05-27 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD |
KR20190086014A (en) | 2016-11-30 | 2019-07-19 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, |
KR20190085002A (en) | 2016-11-30 | 2019-07-17 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | COMPOSITION, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, |
KR20190104348A (en) | 2017-01-18 | 2019-09-09 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Compounds, Resins, Compositions and Pattern Forming Methods |
WO2018135498A1 (en) | 2017-01-18 | 2018-07-26 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, and method for forming pattern |
WO2018155495A1 (en) | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, pattern forming method and purification method |
KR20190123732A (en) | 2017-02-23 | 2019-11-01 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Compound, Resin, Composition, Pattern Forming Method and Purification Method |
WO2019142897A1 (en) | 2018-01-22 | 2019-07-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, and pattern forming method |
KR20200111698A (en) | 2018-01-22 | 2020-09-29 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Compound, resin, composition and pattern formation method |
JP2019129280A (en) * | 2018-01-26 | 2019-08-01 | 協立化学産業株式会社 | Photocuring resin composition for imprint molding |
KR20200116460A (en) | 2018-01-31 | 2020-10-12 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Compound, resin, composition, resist pattern forming method, circuit pattern forming method, and resin purification method |
WO2019151400A1 (en) | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, method for forming resist pattern, method for forming circuit pattern, and method for purifying resin |
WO2019208763A1 (en) | 2018-04-27 | 2019-10-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Optical component forming composition, and cured article thereof |
KR20210004975A (en) | 2018-04-27 | 2021-01-13 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Optical component forming composition, and cured product thereof |
US11747728B2 (en) | 2018-05-28 | 2023-09-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Compound, resin, composition, resist pattern formation method, circuit pattern formation method and method for purifying resin |
KR20210014101A (en) | 2018-05-28 | 2021-02-08 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Compound, resin, composition, resist pattern forming method, circuit pattern forming method, and resin purification method |
WO2019230639A1 (en) | 2018-05-28 | 2019-12-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Compound, resin, composition, resist pattern forming method, circuit pattern forming method, and resin purification method |
WO2020027206A1 (en) | 2018-07-31 | 2020-02-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Optical component-forming composition, optical component, compound, and resin |
KR20210036866A (en) | 2018-07-31 | 2021-04-05 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Composition for forming optical parts, optical parts, and compounds and resins |
KR20210113990A (en) | 2019-01-11 | 2021-09-17 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Film formation composition, resist composition, radiation-sensitive composition, amorphous film production method, resist pattern formation method, lithography underlayer film formation composition, lithography underlayer film production method and circuit pattern formation method |
KR20210121061A (en) | 2019-01-31 | 2021-10-07 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Compound, resin, composition, resist pattern formation method, circuit pattern formation method and resin purification method |
KR20230035520A (en) | 2020-07-08 | 2023-03-14 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Composition for film formation, resist composition, radiation-sensitive composition, method for producing amorphous film, method for forming resist pattern, composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography and method for forming circuit pattern, composition for forming optical member, film Resin for forming, resist resin, radiation sensitive resin, resin for forming lower layer film for lithography |
KR20230038645A (en) | 2020-07-15 | 2023-03-21 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Polymer, composition, method for producing a polymer, composition, composition for film formation, resist composition, radiation-sensitive composition, composition for forming an underlayer film for lithography, method for forming a resist pattern, method for producing an underlayer film for lithography, method for forming a circuit pattern, and Composition for Forming Optical Members |
KR20230038652A (en) | 2020-07-15 | 2023-03-21 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Polycyclic polyphenol resin, composition, method for producing polycyclic polyphenol resin, composition for film formation, resist composition, method for forming resist pattern, radiation-sensitive composition, composition for forming lower layer film for lithography, method for producing lower layer film for lithography, circuit pattern Forming method, and composition for forming an optical member |
KR20230129974A (en) | 2021-01-19 | 2023-09-11 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | Polymer, composition, polymer manufacturing method, film forming composition, resist composition, resist pattern forming method, radiation-sensitive composition, composition for forming an underlayer film for lithography, manufacturing method of an underlayer film for lithography, circuit pattern forming method, optical member forming dragon composition |
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