JP2010135449A - 基板支持装置 - Google Patents

基板支持装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010135449A
JP2010135449A JP2008308090A JP2008308090A JP2010135449A JP 2010135449 A JP2010135449 A JP 2010135449A JP 2008308090 A JP2008308090 A JP 2008308090A JP 2008308090 A JP2008308090 A JP 2008308090A JP 2010135449 A JP2010135449 A JP 2010135449A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
lower electrode
substrate support
substrate
support apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008308090A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4964861B2 (ja
Inventor
Suk-Min Son
錫民 孫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Advanced Display Process Engineering Co Ltd
Original Assignee
Advanced Display Process Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Advanced Display Process Engineering Co Ltd filed Critical Advanced Display Process Engineering Co Ltd
Priority to JP2008308090A priority Critical patent/JP4964861B2/ja
Publication of JP2010135449A publication Critical patent/JP2010135449A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4964861B2 publication Critical patent/JP4964861B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

【課題】基板支持装置の提供をする。
【解決手段】下部電極(20)を間に置いてその両側に備えられる1対のフレーム(31a,31b)と、フレーム(31a,31b)の上面から突出した複数のシャフト(32a,32b)と、下部電極(20)の両側に備えられたシャフト(32a,32b)に両端部が連結されるワイヤー(33)と、フレーム(31a,31b)を昇降させる昇降手段と、を含む。また、第1及び第2シャフトを昇降させる昇降手段をさらに含む。
【選択図】図2

Description

本発明は、基板支持装置に係り、より詳細には、ワイヤーを用いて基板をリフトする基板支持装置に関する。
一般に、半導体または平板表示素子は、基板に写真、エッチング、拡散、蒸着などの様々な工程を行うことによって製造される。
このような工程を行うための真空処理装置は、図1Aに示すように、チャンバー100内に上部電極110と下部電極120とが備えられる。
このチャンバー100の内部にロボットによりゲートバルブGを通して基板が搬入され、下部電極120上に載置される。このように基板が下部電極120に載置されたり、逆に、下部電極に載置された基板をロボットにより搬出する上で基板支持装置が要求される。
従来の基板支持装置130は、下部電極を貫通する複数のリフトピン131と、これらリフトピン131が取り付けられるピンプレート132と、ピンプレート132を昇降させる昇降手段133と、で構成される。
基板が下部電極に載置される過程について説明すると、下記の通りである。
図1Aの状態でゲートバルブGが開くと、ロボットアーム(図示せず)が基板を把持してゲートバルブを通してチャンバー内に入る。
ロボットアームがチャンバー内に入ると直ちにピンプレート132が上昇し、これによりリフトピン131が下部電極120を貫通して突出すると、ロボットアームが把持している基板はリフトピン上に移される(図1B参照)。
この状態で、ピンプレート132を下降させると、リフトピン131は再び下部電極120を通って引き込まれ、基板は下部電極上に載置されることとなる(図1c参照)。
特開2004−311934
しかしながら、かかる従来の基板支持装置によれば、繰り返される作業によりリフトピンの上端には異物がくっつくことができ、このような異物が存在する状態で基板をリフトすると、基板の接触部位にむらが生じるという問題点があった。
特に、上記リフトピンはその位置が変更されないように固定されているが、これは、リフトピンが下部電極の貫通穴を通らなければならないためである。
しかし、基板は様々なパターンを有しており、場合によっては基板のパターンがリフトピンによって損傷する虞があった。
なお、リフトピンが破損してもその破損を感知できず、何らの措置も取らないまま工程を続け、基板の損傷につながる不具合もあった。
本発明は、上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、ワイヤーを用いて基板をリフトすることによって基板の接触部位にむらが生じるのを防止できる基板支持装置を提供することにある。
上記の目的を達成するための本発明に係る基板支持装置は、下部電極を間に置いてその両側に備えられる1対のフレームと、前記フレームの上面から突出した複数のシャフトと、前記下部電極の両側に備えられたシャフトに両端部が連結されるワイヤーと、前記フレームを昇降させる昇降手段と、を含む。
また、前記フレームの下降時に前記ワイヤーが収容されるように、前記下部電極の上面には溝が形成されることが好ましい。
また、前記シャフトは、前記フレームに一体として形成されて固定されても良いが、前記フレームと別に形成され、前記フレーム上に位置可変自在に結合されても良い。
また、前記ワイヤーは、伝導体からなっても良いし、不導体からなり、アルミニウムなどの伝導体でコーティングされるものとしても良い。
また、上記基板支持装置は、前記ワイヤーの短絡を感知するセンサーをさらに備え、ワイヤーが短絡した場合には工程を中断させる。
また、前記1対のフレームの相対向する両端部を連結し、四角形のものにしても良い。
本発明によると、ワイヤーを用いて基板をリフトするため、基板の接触部位に生じるむらを防止することが可能になる。
また、基板のパターンが損傷しない位置へとワイヤーの位置を変更することができる。
なお、ワイヤーが短絡した場合、これを迅速に感知し、工程を中断させることができる。
以下、本発明に係る基板支持装置の好適な実施例について、添付の図2〜図6Cを参照しつつより詳細に説明する。本発明の実施例は様々な形態に変形可能であり、よって、本発明の範囲が下記の実施例に限定されることはない。下記の実施例は、本発明の属する技術分野における通常の知識を持つ者に、本発明をより詳細に説明するために提供されるものである。このため、図面に示す各要素の形状はより明らかな説明のために強調または誇張されることができる。
図2及び図3に示すように、基板支持装置30は、下部電極20を間に置いてその両側に並んで配置される第1及び第2支持台31a,31bを備える。第1及び第2支持台31a,31b上には、複数の第1及び第2結合穴31ah,31bhが形成され、第1結合穴31ahのうち、選択された3個の結合穴31ahに第1シャフト32aが結合(例えば、ねじ結合)され、第2結合穴31bhのうち、選択された3個の結合穴31bhに第2シャフト32bが結合(例えば、ねじ結合)される。相対向する位置のシャフト32a,32bには、ワイヤー33が連結される。ここで、シャフト32a,32bが結合される結合穴31ah,31bhの位置によってワイヤー33の個数及びワイヤー33間の間隔が決定される。
このような構成は、基板に形成されたパターンに応じて有機的にワイヤーの位置を調節できるようにした工夫である。このようにワイヤーの位置を可変にすることによって、基板のパターンにワイヤーが接触するのを避けることができ、結果としてワイヤーによる基板のパターンの損傷を防止可能になる。また、第1及び第2支持台31a,31bを上下方向に昇降させる昇降手段33a,33bが、第1及び第2支持台31a,31bの下端にそれぞれ連結される。
また、ワイヤー33の短絡を感知するセンサー34がさらに備えられるが、このセンサーは、ワイヤーに電源を印加し、それを検出することによって短絡の有無を感知するものとする。または、その他公知のセンサーを適用しても良い。
図4を参照すると、下部電極20の上面には、フレーム31a,31bの下降時にワイヤー33を収容する溝21が形成されている。もちろん、溝21は形成しなくても良い。
図5は、フレームの他の実施例を示す図である。本実施例は、図3に示す支持台31a,31bにおいて相対向する両端部を互いに連結したものである。すなわち、図3に示す支持台31a,31bは、下部電極の両側に位置する1対のバー状のもので、図5に示す実施例のフレーム41は、支持台31a,31bを備えながら下部電極20を取り囲む四角リング状のものである。その他、シャフト42やワイヤー43の構成及び作用は、図3の実施例と略同一である。
次に、図6A〜図6Cに基づき、本発明による基板支持装置の作動について説明する。
まず、図6Aの状態でゲートバルブGが開き、これを通してロボットアームが基板を把持して入ると、図6Bに示すように、昇降手段により支持台31a,31bが上昇し、基板Sはロボットアームからワイヤー33上に移動する。
続いて、ロボットアームは再びゲートバルブを通って搬出され、支持台31a,31bが下降すると、ワイヤー33は下部電極20に形成された溝に収容され、基板Sは下部電極20上に載置される(図6C参照)。
従来技術による基板支持装置を概略的に示す図である。 従来技術による基板支持装置を概略的に示す図である。 従来技術による基板支持装置を概略的に示す図である。 本発明の一実施例による基板支持装置を示す図である。 本発明の一実施例による基板支持装置を示す図である。 本発明の一実施例による基板支持装置を示す図である。 本発明の他の実施例による基板支持装置を示す図である。 本発明による基板支持装置の動作を示す図である。 本発明による基板支持装置の動作を示す図である。 本発明による基板支持装置の動作を示す図である。
符号の説明
20 下部電極
22 溝
30 基板リフト装置
31a,31b フレーム
32a,32b シャフト
33 ワイヤー


Claims (9)

  1. 基板の幅に対応する離間距離を有する第1及び第2シャフトと、
    前記第1及び第2シャフトに一端及び他端がそれぞれ連結され、前記基板を支持するワイヤーと、
    を含むことを特徴とする基板支持装置。
  2. 前記第1及び第2シャフトを昇降させる昇降手段をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
  3. 前記ワイヤーの下部に配置される下部電極と、
    前記下部電極の一側及び他側において互いに略並んでそれぞれ配置され、前記第1及び第2シャフトがそれぞれ固設される第1及び第2支持台と、
    をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
  4. 前記ワイヤーの下部に配置される下部電極と、
    前記下部電極の外周囲に配置される四角リング状のフレームと、
    をさらに含み、
    前記フレームの一辺及び前記一辺と並んで位置する前記フレームの他辺に、前記第1及び第2シャフトがそれぞれ固設されることを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
  5. 前記ワイヤーの下部に配置される下部電極と、
    前記下部電極の一側及び他側に互いに略並んでそれぞれ配置され、複数の第1及び第2結合溝をそれぞれ有する第1及び第2支持台と、
    をさらに含み、
    前記第1シャフトは、前記第1結合溝のいずれか一つに嵌合され、前記第2シャフトは前記第2結合溝のいずれか一つに嵌合されることを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
  6. 前記ワイヤーの下部に配置され、前記第1及び第2シャフトの下降時に前記ワイヤーを収容する溝を有する下部電極をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
  7. 前記ワイヤーの外周面が伝導体を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
  8. 前記ワイヤーの短絡を感知する感知センサーをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板支持装置。
  9. 前記感知センサーが、前記ワイヤーに流れる電流を測定するセンサーであることを特徴とする請求項8に記載の基板支持装置。
JP2008308090A 2008-12-03 2008-12-03 基板支持装置 Expired - Fee Related JP4964861B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008308090A JP4964861B2 (ja) 2008-12-03 2008-12-03 基板支持装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008308090A JP4964861B2 (ja) 2008-12-03 2008-12-03 基板支持装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010135449A true JP2010135449A (ja) 2010-06-17
JP4964861B2 JP4964861B2 (ja) 2012-07-04

Family

ID=42346465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008308090A Expired - Fee Related JP4964861B2 (ja) 2008-12-03 2008-12-03 基板支持装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4964861B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010286342A (ja) * 2009-06-11 2010-12-24 Lasertec Corp 基板保持装置、欠陥検査装置及び欠陥修正装置
JP2013251486A (ja) * 2012-06-04 2013-12-12 Micronics Japan Co Ltd 吸着テーブル
JP2014049703A (ja) * 2012-09-04 2014-03-17 Micronics Japan Co Ltd 吸着テーブル

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000150333A (ja) * 1998-11-18 2000-05-30 Tokyo Electron Ltd 基板熱処理装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000150333A (ja) * 1998-11-18 2000-05-30 Tokyo Electron Ltd 基板熱処理装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010286342A (ja) * 2009-06-11 2010-12-24 Lasertec Corp 基板保持装置、欠陥検査装置及び欠陥修正装置
JP2013251486A (ja) * 2012-06-04 2013-12-12 Micronics Japan Co Ltd 吸着テーブル
JP2014049703A (ja) * 2012-09-04 2014-03-17 Micronics Japan Co Ltd 吸着テーブル

Also Published As

Publication number Publication date
JP4964861B2 (ja) 2012-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100898979B1 (ko) 기판 리프트 장치
KR101146149B1 (ko) 리프트 핀 모듈
TWI615603B (zh) 基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及方法
US10374161B2 (en) Glass substrate separation method and glass substrate separation device
JP4964861B2 (ja) 基板支持装置
KR20080048674A (ko) 리프트 핀을 이용한 기판 유무 판별장치 및 이를 이용한기판 반입방법과 검사방법
KR20110075585A (ko) 기판처리장치
JP2010016342A (ja) 平板表示素子製造装置のリフトピンモジュール
JP5406475B2 (ja) 熱処理装置
KR100914527B1 (ko) 기판 이송 로봇의 기판 처짐 방지 장치 및 방법
KR100943433B1 (ko) 기판 리프팅 모듈 및 리프팅 방법
KR101574202B1 (ko) 기판 감지 장치 및 이를 이용한 기판 처리 장치
KR20180065524A (ko) 기판 처리 장치 및 방법 및 그를 이용한 표시 장치 제조 방법
KR20040096152A (ko) 웨이퍼 리프트 장치
KR20080048642A (ko) 웨이퍼 로딩용 척
KR20040069409A (ko) 반도체소자 제조설비의 웨이퍼 리프팅장치
KR100553102B1 (ko) 리프트 핀 모듈 및 그것을 구비하는 평판표시소자 제조장치
KR20070113615A (ko) 평판 디스플레이 제조용 장비
KR20070119379A (ko) 평판 디스플레이 장치 제조용 리프트 장치
KR20230161753A (ko) 와피지 제어 가능한 진공 흡착핀을 구비하는 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
KR20070040627A (ko) 웨이퍼 식별번호를 확인할 수 있는 웨이퍼 정렬장치
KR101560132B1 (ko) 화학기상증착장치
KR20060085993A (ko) 반도체 제조 설비의 웨이퍼 이송 장치
KR20010103426A (ko) 센서를 포함하는 운반장치
KR20230094365A (ko) 기판 지지 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110624

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110704

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110922

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120312

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120328

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150406

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees