KR20080048642A

KR20080048642A - 웨이퍼 로딩용 척

Info

Publication number: KR20080048642A
Application number: KR1020060118849A
Authority: KR
Inventors: 홍종화
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2006-11-29
Filing date: 2006-11-29
Publication date: 2008-06-03

Abstract

본 발명은 웨이퍼 로딩용 척에 관한 것으로서, 본 발명의 웨이퍼 로딩용 척은 센터로부터 일정한 반경에 복수의 리프트 핀(12)이 승강 가능하게 구비되는 척 플레이트(11)에는 웨이퍼(W)가 얹혀지도록 일정한 간격으로 상향 돌출되게 다수의 핌플(13)을 구비하고, 상기 핌플(13)들 사이에는 척 플레이트(11)에 복수의 진공홀을 형성하는 구성에서, 상기 핌플(13)들의 각 하단부는 척 플레이트(11)의 하부에 내장되는 리프팅 부재(20)에 각각 독립적으로 승강이 가능하게 구비되고, 상기 리프팅 부재(20)들은 컨트롤러(30)에 의해서 승강이 제어되며, 상기 컨트롤러(30)는 웨이퍼 레벨링 센서(40)에 의해 감지되는 웨이퍼(W)의 레벨링 정보에 의거하여 상기 리프팅 부재(20)를 구동시켜 척 플레이트(11)의 상부면에 안치되는 웨이퍼(W)를 안정되게 평탄하게 형성되도록 함으로써 개별적인 리프팅 부재(20)의 승강 제어에 의해 척 플레이트(11)에 척킹된 웨이퍼(W)의 상태에 따라 자동으로 정확하게 평탄화를 이루도록 하여 웨이퍼 평탄화에 따른 작업 효율과 제품 수율을 대폭적으로 향상시키게 되는 동시에 별도의 웨이퍼 스테이지를 이용한 정렬 작업을 생략할 수 있도록 하는 효과를 제공한다.

노광, 웨이퍼, 평탄도, 웨이퍼 로딩용 척

Description

웨이퍼 로딩용 척{Chuck for loading wafer}

도 1은 일반적인 웨이퍼 로딩용 척을 도시한 평면도,

도 2는 종래의 웨이퍼 로딩용 척을 도시한 요부 확대도,

도 3은 도 2에 따른 웨이퍼 로딩용 척에서의 이물질에 의한 작동 상태를 도시한 일부 확대도,

도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼 로딩용 척의 일실시예를 도시한 요부 확대도,

도 5와 도 6은 본 발명에 따른 척 플레이트에서의 리프팅 부재를 조립하는 구조를 도시한 요부 확대도,

도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼의 평탄화 과정을 도시한 제어 흐름도,

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

10 : 웨이퍼 로딩용 척

11 : 척 플레이트

12 : 리프트 핀

13 : 핌플

20 : 리프팅 부재

30 : 컨트롤러

40 : 웨이퍼 레벨 센서

본 발명은 웨이퍼 로딩용 척에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 척 플레이트에 로딩되어 척킹되는 웨이퍼의 레벨링 정보에 따라 국부적인 왜곡 부위를 평탄화시킬 수 있도록 하는 웨이퍼 로딩용 척에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 제조 설비 중 스캐너/스텝퍼 설비는 웨이퍼 또는 기판 상에 포토레지스트를 도포하는 공정을 비롯해서 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거 그리고 가열 공정 등이 연속적으로 이루어지는 구성이다.

다수의 공정들이 연속적으로 진행되면서 각 공정들간 미치는 영향은 대단히 크다.

이와 같은 설비에서 발생되는 문제점들 중 하나가 로컬 포커스 불량(local defocus)과 같은 평탄도(flatness) 제어이다.

로컬 포커스 불량은 예컨대 노광 공정에서 발생되는 것으로, 노광 공정 전에 행해진 공정에서 웨이퍼가 오염된 경우에 발생되거나, 웨이퍼가 로딩되는 척에 존재하는 파티클에 의해서 발생되는 경우 등이 있다.

노광 공정에서 로컬 포커스 불량을 방지하기 위하여 웨이퍼가 놓이는 척의 표면은 반복적으로 클리닝을 수행해야만 한다.

도 1은 일반적인 웨이퍼 로딩용 척을 도시한 평면도이다.

웨이퍼 로딩용 척(10)은 원형의 평판인 척 플레이트(11)에 센터로부터 일정 반경에는 등간격으로 복수의 리프트 핀(12)이 승강 가능하게 구비되고, 척 플레이트(11)의 외주를 따라 일정 폭을 제외한 상부면에는 일정한 높이를 갖는 핌플(13)이 다수 일정한 간격으로 형성되도록 하고 있다.

또한 핌플(13)의 사이에는 복수의 위치에 진공홀(미도시)이 형성되도록 하고 있다.

웨이퍼 로딩용 척(10)은 로딩되어 오는 웨이퍼를 리프트 핀(12)에 안치시켜 승강시키면서 핌플(13)의 상부에 얹혀지도록 하거나 상부로부터 상승시켜 분리되도록 하는 것이다.

이와 같은 구성의 웨이퍼 로딩용 척(10)에서 웨이퍼의 로컬 포커스 불량을 최소화하기 위하여 척 플레이트(11)에 형성시킨 다수의 핌플(13, pimple)에 의해 웨이퍼와의 접촉면이 최소화되도록 하고 있다.

한편 웨이퍼와의 접촉면을 비록 최소화시키게 되더라도 핌플(13) 위에 파티클과 같은 이물질이라도 떨어지게 되면 로컬 포커스 불량을 막을 방법은 없다.

이러한 로컬 포커스 불량을 방지하기 위하여 이미 본 출원인에 의해서 특허출원공개 2006-108975호(로컬 포커스 불량을 방지하기 위한 웨이퍼 로딩 장치)가 제안된 바 있다.

도 2는 종래의 웨이퍼 로딩용 척을 도시한 요부 확대도이다.

선출원발명을 통해 척 플레이트(11)에 다수 형성되는 핌플(13)들을 각각 그 하부에서 조절부재(14)에 의해서 승강 이동되도록 한 바 있다.

이때의 조절부재(14)는 2개의 자성체로서 구비되도록 하면서 제1자성체(14a)는 핌플(13)의 하단부에 결합되고, 제2자성체(14b)는 핌플(13)이 승강하도록 안내하는 홈의 하부측 척 플레이트(11)에 형성한 장착홈에 삽입되도록 하여 이들 제1자성체(14a)와 제2자성체(14b)간 마주보는 면간 동일한 극성을 갖도록 하여 다수의 핌플(13)들을 개별적으로 위치 조절되도록 하여 웨이퍼의 로컬 포커스 불량이 개선되도록 하고 있다.

한편 선출원발명에서 조절부재(14)는 스프링을 사용하는 구성을 제안하기도 하였다.

도 3은 도 2에 따른 웨이퍼 로딩용 척에서의 이물질에 의한 작동 상태를 도시한 일부 확대도이다.

선출원발명을 이용하는 경우 웨이퍼(W)와 척 플레이트(11) 사이에 파티클과 같은 이물질(P)이 끼면서 웨이퍼(W)의 일부가 왜곡되면 웨이퍼(W)를 흡착하는 진공압에 의해 웨이퍼(W)가 각 핌플(13)에 밀착되면서 이물질(P)이 끼어있는 부위에서는 핌플이(13)이 이물질(P)의 두께만큼 개별적으로 하강하여 웨이퍼(W)를 평탄화시키도록 하고 있다.

하지만 선출원발명에서는 조절부재(4)에 의한 조절력이 동일하게 이루어지고 있어 이물질(P)의 크기에 따른 적절한 대응은 한계가 있는 문제가 있다.

또한 웨이퍼(W)의 부분적인 휨 특히 웨이퍼(W)의 에지 부위가 부분적으로 왜곡이 발생되면 이에 대해서는 전혀 대처할 수가 없으므로 균일한 노광을 수행할 수 가 없게 되므로 결국 품질 불량을 발생시키게 되는 문제가 있다.

따라서 본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점들을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 본 발명은 진공압에 의해 웨이퍼를 척킹 시 다수의 핌플들이 웨이퍼의 평탄도 레벨 상태에 따라 개별적으로 승강하면서 안정적으로 평탄화시킬 수 있도록 하는 평탄도의 자동 보정 기능을 갖는 웨이퍼 로딩용 척을 제공하는데 목적이 있다.

이와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 센터로부터 일정한 반경에 복수의 리프트 핀이 승강 가능하게 구비되는 척 플레이트에는 웨이퍼가 얹혀지도록 일정한 간격으로 상향 돌출되게 다수의 핌플을 구비하고, 상기 핌플들의 사이에는 상기 척 플레이트에 복수의 진공홀을 형성하는 웨이퍼 로딩용 척에 있어서, 상기 핌플들의 각 하단부는 상기 척 플레이트의 하부에 내장되는 리프팅 부재에 각각 독립적으로 승강이 가능하게 구비되고, 상기 리프팅 부재들은 컨트롤러에 의해서 승강이 제어되며, 상기 컨트롤러는 웨이퍼 레벨링 센서에 의해 감지되는 웨이퍼의 레벨링 정보에 의거하여 상기 리프팅 부재를 구동시켜 상기 척 플레이트의 상부면에 안치되는 웨이퍼를 평탄화시키도록 하는 것이다.

이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 더욱 상세히 설명 하면 다음과 같다.

본 발명의 구성 요소 중 종래의 구성 요소와 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 적용하도록 한다.

본 발명에 따른 웨이퍼 로딩용 척(10)은 원형의 평판으로 이루어지는 구성인 척 플레이트(11)와, 이 척 플레이트(11)의 센터로부터 일정한 반경에는 복수개의 리프트 핀(12)이 균일한 간격으로 구비되도록 하고 있다.

리프트 핀(12)은 척 플레이트(11)를 수직으로 관통하여 별도의 승강 수단(미도시)에 의해서 일정한 높이를 승강하도록 구비되고 있다.

또한 리프트 핀(12)은 통상 3 ~ 4개가 척 플레이트(11)를 수직으로 관통하면서 등간격으로 구비되도록 하고 있다.

평판의 척 플레이트(11)에는 상부면으로 일정한 높이로 돌출시킨 다수의 핌플(13)을 형성하고 있다.

핌플(13)은 웨이퍼(W)와의 긴밀한 밀착을 위하여 상단면이 평면을 이루도록 한다.

특히 웨이퍼 로딩용 척(10)의 척 플레이트(11)에서 가장자리를 따라 일정 폭을 제외한 전 영역에 핌플(13)이 형성되도록 하고 있다.

한편 척 플레이트(11)에는 핌플(13)들 사이로 진공홀이 복수개로서 형성되도록 하고 있다.

상기한 웨이퍼 로딩용 척(10)은 종전의 구성과 대동소이하다.

이에 본 발명은 척 플레이트(11)에 구비한 다수의 핌플(13)들이 독립적으로 승강 가능하게 구비되도록 하며, 이들 핌플(13)들의 승강은 웨이퍼(W)의 레벨링 체크 정보에 의해서 독립적으로 제어되도록 하는데 가장 두드러진 특징이 있다.

도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼 로딩용 척의 일실시예를 도시한 요부 확대도이다.

도면에서 보는 바와 같이 척 플레이트(11)에 형성되는 핌플(13)들은 각 하단부가 척 플레이트(11)의 내부에 삽입된 리프팅 부재(20)에 의해서 전기적인 신호에 의해 승강이 가능하게 구비되도록 한다.

리프팅 부재(20)는 내부에 핌플(13)의 하단부가 삽입되도록 하여 이 핌플(13)의 승강 작동과 승강 높이 조절을 자유자재로 할 수 있도록 하는 구성이다.

리프팅 부재(20)에 의한 승강 작동을 위하여 핌플(13)의 하단부에는 마그네트(13a)가 일체로 결합되도록 하고, 리프팅 부재(20)의 내부에는 이 마그네트(13a)를 자성에 의해 움직일 수 있도록 하는 전자석(21)이 내장되도록 하는 것이 가장 바람직하다.

따라서 리프팅 부재(20)는 전자석(21)에 인가되는 전류의 크기를 조절하여 핌플(13)의 승강 높이가 조절되도록 한다.

한편 상기 리프팅 부재(20)에서 핌플(13)은 상부로 이탈이 방지되도록 구비되게 하는 것이 바람직하다.

리프팅 부재(20)는 척 플레이트(11)에 조립이 용이하도록 구비되게 하는 것이 가장 바람직하다.

도 5와 도 6은 본 발명에 따른 척 플레이트에서의 리프팅 부재를 조립하는 구조를 도시한 요부 확대도이다.

리프팅 부재(20)의 조립을 위해 척 플레이트(11)는 상부 플레이트(111)와 하부 플레이트(112)의 적층 구조로 형성되게 할 수도 있고, 상부 플레이트(111)와 하부 플레이트의 사이에 연결 플레이트(113)가 삽입되게 하는 구성으로도 형성이 가능하다.

특히 리프팅 부재(20)가 안치되는 하부 플레이트(112)의 상부면으로는 각 리프팅 부재(20)가 맞춤 끼워질 수 있도록 하는 안치홈이 형성되도록 하여 측방으로 움직이지 않도록 하는 것이 보다 바람직하다.

이와 더불어 리프팅 부재(20)는 상부로의 움직임도 방지되도록 하기 위해 상단부가 상부 플레이트(111) 또는 연결 플레이트(113)에 걸려지게 하는 것이 보다 바람직하다.

한편 리프팅 부재(20)는 반경 방향으로의 회전이 방지되도록 하기 위하여 외부 바디를 각이 진 다각형의 형상으로 형성되게 할 수도 있다.

이와 같은 다수의 리프팅 부재(20)는 별도의 컨트롤러(30)에 의해서 개별적으로 제어된다.

컨트롤러(30)는 설비 챔버에 구비되는 다수의 웨이퍼 레벨 센서(40)로부터 신호를 감지하여 웨이퍼의 평탄도 정보를 체크하게 되는 구성이다.

즉 다수의 웨이퍼 레벨 센서(40)들로부터 감지되는 신호를 종합하면 웨이퍼 전면에 걸친 레벨링을 체크할 수가 있다.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 작용에 대해서 살펴보면 다음과 같다.

도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼의 평탄화 과정을 도시한 제어 흐름도이다.

본 발명은 노광 등의 공정 수행을 위해서 설비 챔버의 내부로 웨이퍼(W)가 로딩되게 함에 의해서 수행된다.(S1)

웨이퍼(W)는 웨이퍼 스테이지(미도시)에 구비되는 웨이퍼 로딩용 척(10)에 안치되고, 이렇게 웨이퍼 로딩용 척(10)에 안치되는 웨이퍼(W)는 척 플레이트(11)에서 진공압에 의해 긴밀하게 흡착되도록 한다.(S2)

척 플레이트(11)에 흡착된 웨이퍼(W)는 다수의 웨이퍼 레벨 센서(40)에 의해서 웨이퍼 표면의 레벨링을 검사한다.(S3)

웨이퍼 레벨 센서(40)는 종전에도 다수개가 다양한 방향에서 체크하도록 하여 웨이퍼(W)를 각 부분별로 레벨링 검출이 이루어지도록 하고 있다.

다수의 웨이퍼 레벨 센서(40)들을 이용하여 웨이퍼 표면의 레벨링을 검출하게 되면 컨트롤러(30)는 이들 웨이퍼 레벨 센서(40)들로부터 검출된 웨이퍼 레벨링 정보를 종합하여 웨이퍼 전면에 걸친 평탄도를 체크하게 된다.(S4)

즉 다수의 웨이퍼 레벨 센서(40)들을 통해 검출되는 웨이퍼(W) 표면의 레벨링은 부분적으로 이루어지게 되므로 일부에서는 중복되기도 하나 이들 정보를 종합해보면 정확한 웨이퍼의 평탄도를 체크할 수가 있게 되는 것이다.

척 플레이트(11)에 안치된 웨이퍼(W)를 통해 웨이퍼(W)의 평탄도를 컨트롤러(30)에 의해서 체크한 다음 이때의 정보를 이용하여 웨이퍼(W)에서의 왜곡 부위에 대한 왜곡 정도를 검출한다.(S5)

왜곡 정도가 검출되면 그에 해당하는 리프팅 부재에 인가할 전류값을 산정한 다.(S6)

이렇게 산정된 전류값을 웨이퍼(W)의 왜곡이 발생된 부위의 하부에 위치한 리프팅 부재(20)에 인가한다.(S7)

컨트롤러(30)로부터 리프팅 부재(20)에 전달하는 전기적 신호는 웨이퍼(W)의 왜곡 정도에 따른 적정량의 전류를 인가하게 된다.

만일 웨이퍼(W)와 척 플레이트(11) 특히 척 플레이트(11)로부터 일정 높이 상부로 돌출되게 한 핌플(13)의 사이에 이물질(P)이 존재하게 되면 웨이퍼(W)는 이물질(P)이 낀 부위가 다른 부위에 비해서 융기된 상태를 보여주게 된다.

즉 로딩되는 웨이퍼(W)의 저면에 이물질(P)이 부착되어 있거나 핌플(13)의 상부에 이물질이 떨어져 있게 되면 웨이퍼(W)를 핌플(13)의 상부에 밀착시키게 될 때 이물질(P)이 있는 부위는 다른 부위에 비해서 상부로 웨이퍼 일부가 돌출되는 상태가 되는 것이다.

상부로 일부가 돌출된 상태로서 웨이퍼(W)가 척 플레이트(11)에 얹혀지게 되면 이러한 웨이퍼(W)의 일부가 상부로 융기한 정보를 다수의 웨이퍼 레벨 센서(40)를 통해 컨트롤러(30)에 입력되도록 하면서 그 위치를 체크하고 있고 있던 컨트롤러(30)는 웨이퍼(W)의 융기한 부위에 위치한 리프팅 부재(20)를 작동시켜 융기된 높이만큼 핌플(13)을 아래로 하강시키게 된다.(S8)

진공압에 의해 웨이퍼(W)를 압착되도록 한 상태에서 이물질(P)에 의해 융기된 부위의 핌플(13)을 일정 높이 하강시키게 되면 웨이퍼(W)의 왜곡 부위가 해당 핌플(13)의 하강력과 이때의 진공압에 의해 평탄화되는 상태가 된다.

상기와 같은 이물질(P)이 형성된 경우와는 달리 웨이퍼(W)의 판면 일부가 부분적으로 휘어진 상태로 로딩되는 경우에는 일단 웨이퍼(W)는 진공압에 의해 흡착되어 대부분이 이때의 흡착력에 의해서 척 플레이트(11)의 핌플(13) 상단면에 긴밀하게 밀착되는 상태가 된다.

하지만 이와 같은 흡착력에 의해서도 판면이 왜곡된 상태를 유지하는 부분이 있을 수가 있으므로 이를 웨이퍼 레벨 센서(40)를 통해 웨이퍼(W)의 전체적인 표면 레벨링을 체크하도록 한다.

척 플레이트(11)에 웨이퍼(W)를 안치시킨 상태에서 레벨링을 체크하게 될 때 일단 진공압에 의해 각 핌플(13)의 상단면에서는 웨이퍼(W)의 저면 대부분이 긴밀하게 밀착되어 있게 된다.

따라서 웨이퍼 레벨 센서(40)에 의해 웨이퍼(W)의 레벨링을 체크하는 시점은 웨이퍼(W)가 척 플레이트(11)에 진공압에 의해서 흡착되게 한 상태에서 수행되도록 하는 것이 가장 바람직하다.

진공압에 의해 웨이퍼(W)가 척 플레이트(11) 특히 다수의 핌플(13)들 상부면에 밀착되도록 하면 웨이퍼(W)의 왜곡된 부분만이 핌플(13)로부터 일정 높이 이격되는 상태가 된다.

이 상태에서 웨이퍼 레벨 센서(40)를 통해 웨이퍼(W)의 레벨링 정보를 수집하면 수집된 정보를 갖고 컨트롤러(30)는 웨이퍼(W)의 왜곡된 부위에 위치하는 리프팅 부재(20)를 구동시켜 이 리프팅 부재(20)에 연결된 핌플(13)이 적정한 높이로 순간적인 하강 작용을 하도록 한다.

다시 말해 웨이퍼(W)의 왜곡된 부위에 위치한 핌플(13)을 진공압이 작용하는 상태에서 순간적으로 하강시키게 되면 순간적으로 웨이퍼(W)의 왜곡된 부위가 함께 하강하게 된다.

이렇게 척 플레이트(11)에 진공압에 의해 흡착되어 있는 웨이퍼(W)에 부분적으로 왜곡된 부위의 핌플(13)을 리프팅 부재(20)에 의해서 자동으로 일정한 높이로 순간적으로 하강시켜 왜곡된 부위가 펴지도록 하는 것이다.

상기와 같은 작용에 따라 웨이퍼를 평탄화시키게 되면 정확한 레벨링을 위해 종전에 수행하던 웨이퍼 스테이지의 무빙을 생략할 수도 있다.

다시 말해 웨이퍼 레벨 센서를 이용하여 웨이퍼의 전체적인 레벨링을 위해 종전에는 웨이퍼 스테이지를 무빙시키는 정렬 작업을 반드시 수행하였으나 본 발명에 따른 평탄화 공정에 의해서는 이미 부분적인 웨이퍼 변형에 대해서 조차도 대처할 수가 있으므로 별도의 웨이퍼 스테이지에 의한 정렬 작업을 생략시킬 수가 있게 된다.

따라서 본 발명에서의 웨이퍼 레벨링은 척 플레이트(11)에 웨이퍼를 척킹한 상태에서 수행하게 되고, 이 레벨링 체크값에 의해 웨이퍼(W)의 평탄화를 시킬 수가 있도록 함으로써 한층 용이한 작업을 제공하게 되는 것이다.

또한 비교적 작은 범위의 웨이퍼 왜곡에 대해서도 보다 정밀하게 왜곡 정도를 체크하여 평탄화시키도록 함으로써 챔버에서의 정확한 공정 수행과 양질의 공정 품질을 얻을 수 있도록 한다.

한편 상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발 명의 범위를 한정하는 것이라기보다는 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 할 것이다.

따라서 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 척 플레이트에서 웨이퍼가 안치되도록 하는 다수의 핌플을 개별적으로 리프팅 부재에 의해 일정한 높이로 승강 제어되게 하므로써 척 플레이트에 척킹된 웨이퍼의 상태에 따라 자동으로 정확하게 평탄화를 이루도록 함으로써 웨이퍼 평탄화에 따른 작업 효율과 제품 수율을 대폭적으로 향상시키게 되는 동시에 별도의 웨이퍼 스테이지를 이용한 정렬 작업을 생략할 수가 있게 되는 매우 유용한 효과가 기대된다.

Claims

센터로부터 일정한 반경에 복수의 리프트 핀이 승강 가능하게 구비되는 척 플레이트에는 웨이퍼가 얹혀지도록 일정한 간격으로 상향 돌출되게 다수의 핌플을 구비하고, 상기 핌플들의 사이에는 상기 척 플레이트에 복수의 진공홀을 형성하는 웨이퍼 로딩용 척에 있어서,

상기 핌플들의 각 하단부는 상기 척 플레이트의 하부에 내장되는 리프팅 부재에 각각 독립적으로 승강이 가능하게 구비되고, 상기 리프팅 부재들은 컨트롤러에 의해서 승강이 제어되며, 상기 컨트롤러는 웨이퍼 레벨링 센서에 의해 감지되는 웨이퍼의 레벨링 정보에 의거하여 상기 리프팅 부재를 구동시켜 상기 척 플레이트의 상부면에 안치되는 웨이퍼를 평탄화시키도록 하는 웨이퍼 로딩용 척.
제 1 항에 있어서, 상기 핌플들은 상기 리프팅 부재들에 일부가 내장되어 승강 작동하는 웨이퍼 로딩용 척.
제 2 항에 있어서, 상기 핌플들의 상기 리프팅 부재들에 내장되는 하단부에는 마그네트가 일체로 구비되고, 상기 리프팅 부재는 전자석으로 이루어지는 웨이퍼 로딩용 척.
제 3 항에 있어서, 상기 핌플들은 상기 컨트롤러에 의해서 상기 리프팅 부재에 인가되는 전류량에 따라 승강량이 조정되는 웨이퍼 로딩용 척.
제 1 항에 있어서, 상기 척 플레이트는 상부 플레이트와 하부 플레이트를 적층시킨 구성인 웨이퍼 로딩용 척.
제 1 항에 있어서, 상기 척 플레이트는 상부 플레이트와 연결 플레이트 및 하부 플레이트를 적층시킨 구성인 웨이퍼 로딩용 척.
제 5 항 또는 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리프팅 부재는 상기 하부 플레이트의 상부면에 형성한 안치홈에 맞춤 끼워지도록 하여 측방으로 움직이지 않도록 하는 웨이퍼 로딩용 척.
제 5 항 또는 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리프팅 부재는 상기 상 부 플레이트에 상향 이탈이 방지되게 걸려지도록 하는 웨이퍼 로딩용 척.
제 6 항에 있어서, 상기 리프팅 부재는 상기 연결 플레이트에 상향 이탈이 방지되게 걸려지도록 하는 웨이퍼 로딩용 척.
제 1 항에 있어서, 상기 리프팅 부재는 반경 방향으로의 회전이 방지되도록 외부 바디를 다각형으로 각이 진 형상으로 형성하는 웨이퍼 로딩용 척.