JP2010123810A - 基板保持装置及び基板温度制御方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板の反り状態に応じて適切な吸着電力で基板を吸着して、加熱冷却時に基板温度をその面内で均一にできる基板保持装置を提供する。
【解決手段】 基板保持装置ECは、正負の電極3a、3bとを有するチャック本体1と、基板Sの外周縁部が面接するリブ部2a及びリブ部で囲繞された内部空間2bに所定の間隔を存して立設された支持部2cを有するチャックプレート2と、内部空間に所定のガスを導入するガス供給手段とを備え、両電極間への直流電圧の印加で基板を吸着した後、加熱冷却により所定温度に基板を制御する。チャックプレートの静電容量を通る交流電流を流し、その電流値を測定する第1の測定手段Mと、ガス流量を測定する第2の測定手段9と、両測定手段で測定した電流値及びガス流量のうち少なくとも一方が所定の範囲内となるよう直流電圧を制御する制御手段Cとを備える。
【選択図】 図1
Description
1 チャック本体
2 チャックプレート
2a リブ部
2b 内部空間
2c 支持部
3a、3b 電極
5、6、7 ガス導入手段
8 ヒータ(加熱手段)
9 マスフロメータ
C 制御手段
E1 直流電源
E2 交流電源
M 電流計
Claims (3)
- 正負の電極とを有するチャック本体と、基板の外周縁部が面接触可能なリブ部及び前記リブ部で囲繞された内部空間に所定の間隔を存して立設された複数個の支持部を有する誘電体たるチャックプレートと、前記内部空間に所定のガスを導入するガス供給手段とを備え、両電極間に直流電圧を印加してチャックプレートで処理すべき基板を吸着した後、基板の加熱冷却により所定温度に基板を制御する基板保持装置において、
チャックプレートの静電容量を通る交流電流を流す交流電源と、そのときの電流値を測定する第1の測定手段と、ガス導入手段を介して前記ガスを流したときの当該ガス流量を測定する第2の測定手段と、第1及び第2の両測定手段で測定した電流値及びガス流量のうち少なくとも一方が所定の範囲内となるように両電極間に印加する直流電圧を制御する制御手段とを更に備えたことを特徴とする基板保持装置。 - 前記測定した電流値及びガス流量のうち少なくとも一方が所定の範囲を超えている場合、両電極間への直流電圧の印加及び内部空間へのガス導入を停止状態とするように構成したことを特徴とする請求項1記載の基板保持装置。
- 正負の電極とを有するチャック本体と、基板板の外周縁部が面接触可能なリブ部及び前記リブ部で囲繞された内部空間に所定の間隔を存して立設された複数個の支持部を有する誘電体たるチャックプレートとを備えた基板保持装置にて両電極間に直流電圧を印加して処理すべき基板を吸着し、
前記内部空間に所定のガスを導入した後、加熱冷却により基板を所定温度に制御する基板温度制御方法であって、
交流電源を介してチャックプレートの静電容量を通る交流電流を印加したときの電流値及びガス導入手段を介して前記ガスを流したときの当該ガス流量との少なくとも一方が所定範囲となるように前記直流電圧を制御することを特徴する基板温度制御方法。
Priority Applications (1)
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JP2010123810A true JP2010123810A (ja) | 2010-06-03 |
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ID=42324874
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JP2008297295A Pending JP2010123810A (ja) | 2008-11-20 | 2008-11-20 | 基板保持装置及び基板温度制御方法 |
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JP (1) | JP2010123810A (ja) |
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