JP7306894B2 - 真空装置、吸着装置、吸着方法 - Google Patents
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Description
本発明は、測定された前記主電流が小さい順に、各前記主電極部への前記吸着電圧の印加を開始させる真空装置である。
本発明は、最小の前記主電流が測定された前記主電極部に前記吸着電圧を印加した後、前記主電流が測定されることが繰り返される真空装置である。
本発明は、前記吸着装置には、前記非接触部に配置された第一測定電極と第二測定電極とから成る一個以上の副電極部が設けられ、前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に交流の副信号電圧を印加する副電源装置と、前記副電源装置に設けられ、前記副信号電圧が印加された前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に流れる交流電流である副電流を前記副電極部毎に測定する副電流計と、を有する真空装置である。
本発明は、副電流の基準である副基準値が予め設定されており、前記副電極部毎に前記副信号電圧が印加されて前記副電流が測定され、前記副基準値以上の前記副電流が測定されたときには前記吸着電圧の印加を開始させない真空装置である。
本発明は、真空槽と、少なくとも片面が前記真空槽内に位置し、前記片面の側に可撓性を有する処理対象物が配置される吸着装置と、前記吸着装置に配置された前記処理対象物を真空処理する真空処理装置と、前記吸着装置の前記処理対象物が配置される面とは反対側の面の側に配置された熱交換装置と、を有し、前記吸着装置に配置された前記処理対象物を真空処理する真空装置であって、前記吸着装置は、環状形状で表面が前記処理対象物と接触する接触部と、前記接触部で囲まれて前記接触部の内側に位置し、表面が前記接触部の表面よりも低い位置に配置された非接触部と、前記接触部に配置された吸着正電極と吸着負電極とから成る複数個の主電極部と、前記非接触部に配置された第一測定電極と第二測定電極とから成る一個以上の副電極部と、前記処理対象物と前記非接触部との間に熱媒体ガスを供給する供給口と、を有し、前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に少なくとも直流の吸着電圧を印加する主電源装置と、前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に交流の副信号電圧を印加する副電源装置と、前記副電源装置に設けられ前記副信号電圧が印加された前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に流れる交流電流である副電流を測定する副電流計と、が設けられ、前記副電極部毎に前記副電流が測定される真空装置である。
本発明は、副電流の基準である副基準値が予め設定されており、前記副基準値以上の前記副電流が測定されたときには前記吸着電圧の印加を開始させない真空装置である。
本発明は、環状形状で表面が前記処理対象物と接触する接触部と、前記接触部で囲まれて前記接触部の内側に位置し、表面が前記接触部の表面よりも低い位置に配置された非接触部と、前記接触部に配置された吸着正電極と吸着負電極とから成る複数の主電極部と、前記非接触部に配置された第一測定電極と第二測定電極とから成る一個以上の副電極部と、前記処理対象物と前記非接触部との間に熱媒体ガスを供給する供給口と、を有し、前記吸着正電極と前記吸着負電極との間に直流の吸着電圧が印加されて可撓性を有する処理対象物を吸着する吸着装置であって、前記第一測定電極と前記第二測定電極との間には交流の副信号電圧が印加されて前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に流れる副電流が測定される吸着装置である。
本発明は、環状形状で表面が前記処理対象物と接触する接触部と、前記接触部で囲まれて前記接触部の内側に位置し、表面が前記接触部の表面よりも低い位置に配置された非接触部と、前記接触部に配置された吸着正電極と吸着負電極とから成る複数の主電極部と、前記非接触部に配置された第一測定電極と第二測定電極とから成る一個以上の副電極部と、前記処理対象物と前記非接触部との間に熱媒体ガスを供給する供給口と、を有し、前記吸着正電極と前記吸着負電極との間に直流の吸着電圧が印加されて可撓性を有する処理対象物を吸着する吸着装置を用いた吸着方法であって、前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に交流の副信号電圧を印加して、流れる副電流を前記副電極部毎に測定し、副基準値以上の前記副電流が測定されたときには前記吸着電圧の印加を開始させない吸着方法である。
本発明は、前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に交流の主信号電圧を印加して流れる交流電流である主電流を前記主電極部毎に測定し、測定された前記主電流が小さい順に、各前記主電極部への前記吸着電圧の印加を開始させる吸着方法である。
本発明は、前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に交流の主信号電圧を印加して流れる交流電流である主電流を前記主電極部毎に測定し、最小の前記主電流が測定された前記主電極部に前記吸着電圧を印加した後、少なくとも前記吸着電圧が印加されなかった前記主電極部の前記主電流を測定することを繰り返す吸着方法である。
11……真空槽
12~16……吸着装置
24……熱交換装置
31……接触部
32……非接触部
46……主電流計
51~54……主電極部
51a~54a……吸着正電極
51b~54b……吸着負電極
55……主電源装置
56……供給口
60、62、63、69……処理対象物
61、64~67、81~88……副電極部
61a、64a~67a、81a~88a……第一測定電極
61b、64b~67b、81b~88b……第二測定電極
68……副電流計
75……副電源装置
Claims (10)
- 真空槽と、
少なくとも片面が前記真空槽内に位置し、前記片面の側に可撓性を有する処理対象物が配置される吸着装置と、
前記吸着装置に配置された前記処理対象物を真空処理する真空処理装置と、
前記吸着装置の前記処理対象物が配置される面とは反対側の面の側に配置された熱交換装置と、
が設けられ、
前記吸着装置に配置された前記処理対象物を真空処理する真空装置であって、
前記吸着装置は、
環状形状で表面が前記処理対象物と接触する接触部と、
前記接触部で囲まれて前記接触部の内側に位置し、表面が前記接触部の表面よりも低い位置に配置された非接触部と、
前記接触部に配置された吸着正電極と吸着負電極とから成る複数個の主電極部と、
前記処理対象物と前記非接触部との間に熱媒体ガスを供給する供給口と、
を有し、
前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に直流の吸着電圧と交流の主信号電圧のいずれか一方又は両方を印加する主電源装置と、
前記主電源装置には、前記主信号電圧が印加された前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に流れる交流電流である主電流を測定する主電流計と、が設けられ、
前記主電流は、前記主電極部毎に測定され、
測定された前記主電流が小さい順に、各前記主電極部への前記吸着電圧の印加を開始させる真空装置。 - 真空槽と、
少なくとも片面が前記真空槽内に位置し、前記片面の側に可撓性を有する処理対象物が配置される吸着装置と、
前記吸着装置に配置された前記処理対象物を真空処理する真空処理装置と、
前記吸着装置の前記処理対象物が配置される面とは反対側の面の側に配置された熱交換装置と、
が設けられ、
前記吸着装置に配置された前記処理対象物を真空処理する真空装置であって、
前記吸着装置は、
環状形状で表面が前記処理対象物と接触する接触部と、
前記接触部で囲まれて前記接触部の内側に位置し、表面が前記接触部の表面よりも低い位置に配置された非接触部と、
前記接触部に配置された吸着正電極と吸着負電極とから成る複数個の主電極部と、
前記処理対象物と前記非接触部との間に熱媒体ガスを供給する供給口と、
を有し、
前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に直流の吸着電圧と交流の主信号電圧のいずれか一方又は両方を印加する主電源装置と、
前記主電源装置には、前記主信号電圧が印加された前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に流れる交流電流である主電流を測定する主電流計と、が設けられ、
前記主電流は、前記主電極部毎に測定され、
最小の前記主電流が測定された前記主電極部に前記吸着電圧を印加した後、前記主電流が測定されることが繰り返される真空装置。 - 前記吸着装置には、前記非接触部に配置された第一測定電極と第二測定電極とから成る一個以上の副電極部が設けられ、
前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に交流の副信号電圧を印加する副電源装置と、
前記副電源装置に設けられ、前記副信号電圧が印加された前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に流れる交流電流である副電流を前記副電極部毎に測定する副電流計と、を有する請求項1又は請求項2記載の真空装置。 - 副電流の基準である副基準値が予め設定されており、
前記副電極部毎に前記副信号電圧が印加されて前記副電流が測定され、
前記副基準値以上の前記副電流が測定されたときには前記吸着電圧の印加を開始させない請求項3記載の真空装置。 - 真空槽と、
少なくとも片面が前記真空槽内に位置し、前記片面の側に可撓性を有する処理対象物が配置される吸着装置と、
前記吸着装置に配置された前記処理対象物を真空処理する真空処理装置と、
前記吸着装置の前記処理対象物が配置される面とは反対側の面の側に配置された熱交換装置と、
を有し、
前記吸着装置に配置された前記処理対象物を真空処理する真空装置であって、
前記吸着装置は、
環状形状で表面が前記処理対象物と接触する接触部と、
前記接触部で囲まれて前記接触部の内側に位置し、表面が前記接触部の表面よりも低い位置に配置された非接触部と、
前記接触部に配置された吸着正電極と吸着負電極とから成る複数個の主電極部と、
前記非接触部に配置され第一測定電極と第二測定電極とから成る一個以上の副電極部と、
前記処理対象物と前記非接触部との間に熱媒体ガスを供給する供給口と、
を有し、
前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に少なくとも直流の吸着電圧を印加する主電源装置と、
前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に交流の副信号電圧を印加する副電源装置と、
前記副電源装置に設けられ前記副信号電圧が印加された前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に流れる交流電流である副電流を測定する副電流計と、
が設けられ、
前記副電極部毎に前記副電流が測定される真空装置。 - 副電流の基準である副基準値が予め設定されており、
前記副基準値以上の前記副電流が測定されたときには前記吸着電圧の印加を開始させない請求項5項記載の真空装置。 - 環状形状で表面が処理対象物と接触する接触部と、
前記接触部で囲まれて前記接触部の内側に位置し、表面が前記接触部の表面よりも低い位置に配置された非接触部と、
前記接触部に配置された吸着正電極と吸着負電極とから成る複数の主電極部と、
前記非接触部に配置された第一測定電極と第二測定電極とから成る一個以上の副電極部と、
前記処理対象物と前記非接触部との間に熱媒体ガスを供給する供給口と、
を有し、
前記吸着正電極と前記吸着負電極との間に直流の吸着電圧が印加されて可撓性を有する処理対象物を吸着する吸着装置であって、
前記第一測定電極と前記第二測定電極との間には交流の副信号電圧が印加されて前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に流れる副電流が測定される吸着装置。 - 環状形状で表面が処理対象物と接触する接触部と、
前記接触部で囲まれて前記接触部の内側に位置し、表面が前記接触部の表面よりも低い位置に配置された非接触部と、
前記接触部に配置された吸着正電極と吸着負電極とから成る複数の主電極部と、
前記非接触部に配置された第一測定電極と第二測定電極とから成る一個以上の副電極部と、
前記処理対象物と前記非接触部との間に熱媒体ガスを供給する供給口と、
を有し、
前記吸着正電極と前記吸着負電極との間に直流の吸着電圧が印加されて可撓性を有する処理対象物を吸着する吸着装置を用いた吸着方法であって、
前記第一測定電極と前記第二測定電極との間に交流の副信号電圧を印加して、流れる副電流を前記副電極部毎に測定し、
副基準値以上の前記副電流が測定されたときには前記吸着電圧の印加を開始させない吸着方法。 - 前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に交流の主信号電圧を印加して流れる交流電流である主電流を前記主電極部毎に測定し、
測定された前記主電流が小さい順に、各前記主電極部への前記吸着電圧の印加を開始させる請求項8記載の吸着方法。 - 前記吸着正電極と前記吸着負電極の間に交流の主信号電圧を印加して流れる交流電流である主電流を前記主電極部毎に測定し、
最小の前記主電流が測定された前記主電極部に前記吸着電圧を印加した後、少なくとも前記吸着電圧が印加されなかった前記主電極部の前記主電流を測定することを繰り返す請求項8記載の吸着方法。
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JP2019120510A JP7306894B2 (ja) | 2019-06-27 | 2019-06-27 | 真空装置、吸着装置、吸着方法 |
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JP2010123810A (ja) | 2008-11-20 | 2010-06-03 | Ulvac Japan Ltd | 基板保持装置及び基板温度制御方法 |
JP2013534049A (ja) | 2010-06-08 | 2013-08-29 | アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド | 加熱環状チャック |
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---|---|---|---|---|
JPH06204325A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Hitachi Ltd | 静電吸着装置およびその吸着方法 |
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- 2019-06-27 JP JP2019120510A patent/JP7306894B2/ja active Active
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