JP2010105067A - 吸着パッド洗浄方法および吸着パッド洗浄装置 - Google Patents

吸着パッド洗浄方法および吸着パッド洗浄装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010105067A
JP2010105067A JP2008277022A JP2008277022A JP2010105067A JP 2010105067 A JP2010105067 A JP 2010105067A JP 2008277022 A JP2008277022 A JP 2008277022A JP 2008277022 A JP2008277022 A JP 2008277022A JP 2010105067 A JP2010105067 A JP 2010105067A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction pad
suction
grinding wheel
grinding
sludge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008277022A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryo Kasokabe
良 香曾我部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP2008277022A priority Critical patent/JP2010105067A/ja
Publication of JP2010105067A publication Critical patent/JP2010105067A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】ウェーハの裏面研削時に吸着パッドに詰まったスラッジを確実に排出する。
【解決手段】被加工物を吸着する吸着パッド(51a)を洗浄する吸着パッド洗浄装置(30)が、吸着パッドの内部から吸着パッドの吸着面(52a)に向かって洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段(58)と、吸着パッドの吸着面を研削する研削砥石(31)と、前記吸着パッドの吸着面からスラッジを前記吸着パッドの外部に吸引する吸引手段(39)とを具備する。研削砥石の研削面には凹部が形成されており、吸引手段は該凹部を通じてスラッジを吸引するのが好ましい。あるいは、吸引手段は研削砥石の研削面に隣接して配置されており、吸引手段は研削砥石の外周部付近からスラッジを吸引するようにしてもよい。
【選択図】図2

Description

本発明は、ウェーハを吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄方法およびそのような方法を実施する吸着パッド洗浄装置に関する。
半導体製造分野においてはウェーハが年々大型化する傾向にあり、また、実装密度を高めるためにウェーハの薄膜化が進んでいる。ウェーハを薄膜化するために、半導体ウェーハの裏面を研削するいわゆる裏面研削(バックグラインド)が行われる。例えば特許文献1には、真空の吸引力を利用したチャックにウェーハを吸着保持させてウェーハの裏面を研削する技術が開示されている。
図5は特許文献1に開示されるような従来技術におけるウェーハ研削装置の略図である。ウェーハの裏面を研削するときには、ウェーハ20の表面21には表面保護フィルム11が貼付けられる。この表面保護フィルム11は、表面21に形成された回路パターン(図示しない)を保護する役目を果たす。また、従来技術におけるウェーハ研削装置の部分断面図である図6から分かるように、ウェーハ20の縁部には面取部25が形成されている。このため、表面保護フィルム11はウェーハ20の縁部において面取部25に沿って貼付けられる。
図6に示されるように、ウェーハ20はその裏面22が上方を向くように、吸着パッド510に吸着保持される。吸着パッド510は通常は多孔質材料から形成されており、図示しない真空手段により真空を吸着面520に適用することでウェーハ20が吸着パッド510に吸着保持される。そして、図5に実線矢印で示されるように、互いに回転する研削砥石280とウェーハ20との接点に研削水が供給され、研削砥石280によってウェーハ20の裏面22が研削される。
特開2000−21952号公報
しかしながら、表面保護フィルム11はウェーハ20の面取部25に沿って貼付けられているので、ウェーハ20の縁部においては隙間Gが表面保護フィルム11と吸着パッド510との間に形成される。研削の進行により生じた研削屑は、研削水と共にスラッジSとして隙間Gを通じて吸着パッド510内に流入し、スラッジSが吸着パッド510内部で詰まるようになる。さらに、研削が進行すると、吸着パッド510の外側領域においてスラッジが吸着面520に堆積する場合もある。
一つのウェーハ20の研削が終了すると、吸着パッド510の吸引作用を解除してウェーハ20を吸着パッド510から取外す。そして、従来技術における吸着パッドの部分断面図である図7に示されるように、吸着パッド510の中心における底面側から吸着面520に向かって洗浄液を供給する。これにより、洗浄液は吸着パッド510内部を半径方向に広がって吸着面520全体から流出する。そして、洗浄液を供給しつつ、洗浄装置の回転砥石(図5、図6および図7には示さない)により吸着パッド510の吸着面520を微量だけ研削することにより吸着パッド510が洗浄される。
しかしながら、図7における矢印の寸法から分かるように、洗浄液の流量は吸着パッド510の中心領域において大きいものの、吸着パッド510の外側領域においては小さくなる。また、前述したように吸着パッド510の外側領域にはスラッジSが詰まっているので、洗浄液が吸着パッド510の外側領域に到達し難い場合もある。また、洗浄液の供給のみによってスラッジSを吸着パッド510から完全に排出するためには、洗浄液の流量をかなり大きくする必要があり、経済的でない。
さらに、回転砥石は吸着パッド510の吸着面520に堆積したスラッジSを除去できるものの、吸着パッド510内部に詰まったスラッジSを除去することはできない。また、吸着パッド510の研削時には、回転砥石がスラッジSを吸着パッド510内部に押込む場合があり、このような場合には、スラッジにより吸着パッド510が却って詰まることになる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、吸着パッドに詰まったスラッジを確実に排出することのできる吸着パッド洗浄方法およびそのような方法を実施する吸着パッド洗浄装置を提供することを目的とする。
前述した目的を達成するために1番目の発明によれば、被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、前記吸着パッドの内部から該吸着パッドの吸着面に向かって洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、前記吸着パッドの前記吸着面を研削する研削砥石と、前記吸着パッドの前記吸着面からスラッジを前記吸着パッドの外部に吸引する吸引手段とを具備する吸着パッド洗浄装置が提供される。
すなわち1番目の発明においては、吸着パッド内部に予め詰まっていたスラッジは、洗浄流体により押上げられると共に吸着パッドの外部に向かって吸引される。従って、吸着パッドの内部に詰まったスラッジを確実に排出できる。なお、研削砥石が吸着パッドの吸着面を研削することにより生ずるスラッジも吸引により一緒に排出される。また、洗浄流体として液体、気体のいずれを採用してもよい。
2番目の発明によれば、1番目の発明において、前記研削砥石の研削面には凹部が形成されており、前記吸引手段は該凹部を通じて前記スラッジを吸引する。
すなわち2番目の発明においては、研削砥石の凹部内におけるスラッジを容易に吸引できると共に、吸着パッド洗浄装置が大型化するのを避けられる。
3番目の発明によれば、1番目または2番目の発明において、さらに、前記研削砥石を前記吸着パッドの吸着面上で往復運動させる移動手段を具備する。
すなわち3番目の発明においては、吸着パッドに対して比較的小さい研削砥石であっても、吸着パッドを効果的に研削できる。例えば研削砥石の寸法は、吸着パッドの寸法の約20%から約50%程度であるのが好ましい。
4番目の発明によれば、1番目の発明において、前記吸引手段は前記研削砥石の前記研削面に隣接して配置されており、前記吸引手段は前記研削砥石の外周部付近から前記スラッジを吸引する。
すなわち4番目の発明においては、吸引手段を既存の研削砥石に組付ければ足りるので、必要経費を抑えることができる。
5番目の発明によれば、被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄方法において、前記吸着パッドの内部から該吸着パッドの吸着面に向かって洗浄流体を供給し、研削砥石により前記吸着パッドの前記吸着面を研削し、前記吸着パッドの前記吸着面からスラッジを前記吸着パッドの外部に吸引する、吸着パッド洗浄方法が提供される。
すなわち5番目の発明においては、吸着パッド内部に予め詰まっていたスラッジは、洗浄流体により押上げられると共に吸着パッドの外部に向かって吸引される。従って、吸着パッドの内部に詰まったスラッジを確実に排出できる。なお、研削砥石が吸着パッドの吸着面を研削することにより生ずるスラッジも吸引により一緒に排出される。なお、洗浄流体として、液体、気体のいずれを採用してもよい。
6番目の発明によれば、5番目の発明において、前記研削砥石の研削面には凹部が形成されており、前記スラッジを前記凹部に通して吸引する。
すなわち6番目の発明においては、研削砥石の凹部内におけるスラッジを容易に吸引できる。
7番目の発明によれば、5番目または6番目の発明において、さらに、前記研削砥石による研削時に前記研削砥石を前記吸着パッドの前記吸着面上で往復運動させることを含む。
すなわち7番目の発明においては、吸着パッドに対して比較的小さい研削砥石であっても、吸着パッドを効果的に研削できる。例えば研削砥石の寸法は、吸着パッドの寸法の約20%から50%程度であるのが好ましい。
8番目の発明によれば、5番目の発明において、前記研削砥石の外周部付近から前記スラッジを吸引する。
すなわち8番目の発明においては、スラッジを吸引する吸引手段を既存の研削砥石に組付ければ足りるので、必要経費を抑えることができる。
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の図面において同様の部材には同様の参照符号が付けられている。理解を容易にするために、これら図面は縮尺を適宜変更している。
図1は本発明の第一の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置を含むウェーハ処理装置の頂面図である。ウェーハ処理装置10には、複数の回路パターン(図示しない)が形成された表面21が保護フィルム11により保護されている複数のウェーハ20がカセット11aにより供給されるものとする。
図1に示されるウェーハ処理装置10は、四つのチャック部12a〜12dを備えていて矢印A方向にインデックス回転するターンテーブル13と、チャック部12a〜12dのそれぞれの吸着パッド51a〜51dを洗浄する吸着パッド洗浄装置30と、ウェーハ20を搬送する搬送ロボット15とを主に含んでいる。
さらに、図1に示されるように、ウェーハ処理装置10においては、粗研削ユニット41、仕上研削ユニット42および研磨ユニット43がターンテーブル13の回転方向Aに沿って順番に配置されている。なお、粗研削ユニット41は粗研削砥石(図示しない)によりウェーハ20の裏面22を粗研削し、仕上研削ユニット42は仕上研削砥石(図示しない)により裏面22を仕上研削し、研磨ユニット43は研磨布を備えた研磨ヘッド(図示しない)により裏面22を研磨する。
図2(a)および図2(b)はそれぞれ図1に示される吸着パッド洗浄装置の頂面図および側断面図である。これら図面には、チャック部12aが代表して示されているが、他のチャック部12b〜12dも同様の構成である。図2(b)に示されるように、チャック部12aは、凹部を備えた枠体53aと、枠体53aの凹部に嵌込まれた吸着パッド51aとを主に含んでいる。
図2(b)に示されるように、吸着パッド51aの吸着面52aは枠体53aの上面と同一平面になっており、吸着パッド51aの下面と枠体53aとの間には隙間55aが形成されている。なお、吸着パッド51aは多孔質材料、例えば多孔性のアルミナから形成されている。枠体53aは中実材料、例えば緻密なアルミナから形成されている。
また、図2(b)に示されるように、中心通路56aが枠体53aの中心から隙間55aまで延びている。中心通路56aは第一真空手段59に接続されており、第一真空手段59が起動すると、吸着パッド51aの吸着面52aに真空が適用されるようになる。なお、吸着パッド51aが多孔質材料から形成される必要はなく、中心通路56aに連通する複数の溝を備えた吸着パッド(図示しない)を採用してもよい。
図2(b)に示されるように、中心通路56aは、洗浄液を供給する洗浄液供給手段58にも接続されている。後述するように、中心通路56aは洗浄液供給手段58から洗浄液を吸着面52aに供給するときにも使用される。なお、図2(a)に示されるようにチャック部12aは図示しないモータに接続されており、反時計回りに回転可能である。
図2(a)および図2(b)に示されるように、吸着パッド洗浄装置30は円形の研削砥石31を備えている。図2(a)から分かるように、研削砥石31の直径は吸着パッド51aの直径よりも小さい。好ましい実施形態においては、研削砥石31の直径は吸着パッド51aの直径の約20%から約50%である。また、研削砥石31は移動手段38、例えばモータに接続されている。このため、研削砥石31は、回転しながら吸着パッド51aの半径方向に往復運動することができる。
また、図2(b)から分かるように、研削砥石31の研削面(下面)には円形の凹部32が形成されている。さらに、吸引通路33が凹部32の中心から研削砥石31の外部まで延びている。図示されるように、吸引通路33は第二真空手段39に接続されており、第二真空手段39が起動すると、凹部32内部に真空が適用されるようになる。
以下、図1、図2(a)および図2(b)を参照しつつ、本発明のウェーハ処理装置10の動作について説明する。はじめに、搬送ロボット15によって、カセット11aから一つのウェーハ20が取出されて、チャック部12aまで搬送される。
次いで、第一真空手段59を起動させて、チャック部12aの吸着パッド51aに真空が適用される。そして、ウェーハ20はその裏面22が上方を向いた状態でチャック部12aに吸引保持される。次いで、ターンテーブル13がインデックス回転し、チャック部12aは粗研削ユニット41まで移動される。このとき、別のチャック部12dには別のウェーハ20が搬送ロボット15により搬送され、同様な処理が順次行われる。しかしながら、このことは公知であるので説明を省略する。
粗研削ユニット41においてはウェーハ20の裏面22が粗研削砥石(図示しない)により公知の手法で粗研削される。次いで、ターンテーブル13がインデックス回転して、チャック部12aは粗研削ユニット41から仕上研削ユニット42まで移動される。仕上研削ユニット42においては、ウェーハ20の裏面22は仕上研削砥石(図示しない)により公知の手法で仕上研削される。
次いで、研磨ユニット43においては、研磨布からスラリーを吐出しつつ、ウェーハ20の裏面22に対してウェットポリッシュが行われる。ウェットポリッシュの終了後には、第一真空手段59は停止され、それにより、チャック部12aの保持作用が解除される。そして、搬送ロボット15によってウェーハ20がチャック部12aからカセット11bまで搬送される。
前述した一連の工程が終了すると、ターンテーブル13がさらにインデックス回転して、チャック部12aは図1に示される位置まで帰還する。図1に示されるこの位置においては、前述した研削作用および研磨作用により生じたスラッジが隙間Gを通じて吸着パッド51a内に進入し、吸着パッド51aの外側領域に部分的に詰まっている(図6を参照されたい)。
本発明においては、新たなウェーハ20が載置される前に、チャック部12aの吸着パッド51aは、第一の実施形態における吸着パッド洗浄装置30によって洗浄される。吸着パッド洗浄装置30による洗浄作用は他の吸着パッド51b〜51dでも同様であるが、以下においては、吸着パッド洗浄装置30による吸着パッド51aの洗浄作用を代表して説明する。
吸着パッド51aを洗浄するときには、洗浄液供給手段58から洗浄液を中心通路56aに供給する。これにより、洗浄液は吸着パッド51aの隙間55aを通って吸着パッド51aの半径方向に広がり、次いで吸着パッド51aの吸着面52a全体から流出する。
次いで、第二真空手段39を起動して、研削砥石31の凹部32内側に吸引作用を生じさせる。このような状態において、図2(a)に示されるように、移動手段38によって吸着パッド洗浄装置30の研削砥石31を矢印B方向に回転させつつ、吸着パッド51aの半径上を矢印C方向に往復運動させる。なお、吸着パッド51aの洗浄時には、チャック部12aは矢印D方向に自転しているものとする。
図2(a)から分かるように、第一の実施形態においては、研削砥石31は吸着パッド51aの中心から外周部まで往復運動するのが好ましい。チャック部12aは矢印D方向に回転しているので、研削砥石31を前述したように往復運動させることにより、吸着パッド51aの全域を研削することが可能である。従って、本発明においては、吸着パッド51aと同程度の直径を有する研削砥石31を準備する必要はなく、比較的小型の研削砥石31であっても、吸着パッド51aを効果的に研削することが可能である。
このような動作により、研削砥石31は吸着パッド51aの吸着面52aに固着していたスラッジを研削する。また、研削砥石31は吸着パッド51aの吸着面52a自体もわずかながら研削する。
さらに、洗浄液供給手段58からの洗浄液は吸着パッド51a内部に詰まっていたスラッジ、特に吸着パッド51aの外側領域におけるスラッジを吸着面52a上に押出す。そして、そのようなスラッジは研削砥石31より研削されたスラッジと共に研削砥石31の凹部32および吸引通路33を通って第二真空手段39に吸引される。つまり、本発明においては、吸着パッド51a内部に詰まっていたスラッジは、洗浄液による押上作用と第二真空手段39による吸引作用とを受けて、吸着面52a上に押上げられて吸引される。従って、本発明においては、吸着パッド51a内部に詰まっていたスラッジを確実に排出することが可能である。なお、吸着パッド51aの吸着面52aに固着していたスラッジが研削砥石31により吸着パッド51a内部に押込まれる場合もある。しかしながら、そのような場合であっても、洗浄液による押上作用と第二真空手段39による吸引作用とによって、スラッジを排出できることが分かるであろう。
このようにして吸着パッド洗浄装置30による吸着パッド51aの洗浄が終了すると、搬送ロボット15によって新たなウェーハ20がカセット11aから吸着パッド51aに供給される。その後、新たなウェーハ20が前述したように処理される。
図3は本発明の第二の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置を含むウェーハ処理装置の頂面図である。また、図4(a)は図3に示される吸着パッド洗浄装置の頂面図であり、図4(b)は図3に示される吸着パッド洗浄装置の側断面図である。
これら図面に示されるように、第二の実施形態における吸着パッド洗浄装置60は円形の研削砥石61と、研削砥石61の外周部付近に隣接して連結された吸引ブロック69とを主に含んでいる。図4(a)から分かるように、研削砥石61は前述した研削砥石31よりも大きく、第二の実施形態における研削砥石61の直径は吸着パッド51aの直径の約50%程度である。なお、研削砥石61には、研削砥石31の凹部32のような凹部は形成されていない。
図4(a)および図4(b)に示されるように、連結バー65が吸引ブロック69から研削砥石61の上面まで延びている。連結バー65の先端にはリング部材66が設けられており、このリング部材66が研削砥石61の回転シャフト67回りに自由回転可能に配置されている。このような構成により、吸引ブロック69は研削砥石61に連結されている。図4(a)から分かるように、吸引ブロック69は吸着パッド51aの外周部付近において、研削砥石61に隣接して連結されている。また、図4(b)から分かるように、吸引ブロック69の下面と研削砥石61の研削面とは概ね同一平面に在る。
図4(a)および図4(b)に示されるように、吸引ブロック69の下面には凹部62が形成されている。また、吸引通路63が凹部62の端部から吸引ブロック69の上面まで延びている。図示されるように、この吸引通路63は第二真空手段39に接続されている。従って、第二真空手段39が起動すると、吸引ブロック69の凹部62内に真空が適用されるようになる。
第二の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置60は、第一の実施形態における吸着パッド洗浄装置30と同じタイミングで動作する。吸着パッド洗浄装置60の動作時には、前述したように洗浄液供給手段58からの洗浄液を吸着パッド51aの吸着面52a全体から流出させる。次いで、第二真空手段39を起動して、吸引ブロック69の凹部62内側に吸引作用を生じさせる。このような状態において、図4(a)に示されるように、移動手段38によって研削砥石61を矢印B方向に回転させる。吸着パッド51aの洗浄時には、チャック部12aは矢印D方向に自転する。
第一の実施形態の場合と同様に、洗浄液供給手段58からの洗浄液が吸着パッド51a内部に詰まっていたスラッジを吸着面52a上に押出す。そして、研削砥石61の外周部付近に配置された吸引ブロック69が、そのようなスラッジを研削砥石61の研削により生じたスラッジと共に吸引ブロック69の凹部62および吸引通路63に通して吸引する。これにより、第二の実施形態においても、前述したのと同様な効果が得られることが分かるであろう。
さらに、第二の実施形態においては、単に連結バー65を用いることによって吸引ブロック69を既存の研削砥石61に取付ければ十分である。つまり、第二の実施形態においいては、凹部32を備えた研削砥石31を準備する必要が無い。従って、第一の実施形態の吸着パッド洗浄装置30と比較して、必要経費を抑えることができるのが分かるであろう。
本発明の第一の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置を含むウェーハ処理装置の頂面図である。 (a)図1に示される吸着パッド洗浄装置の頂面図である。(b)図1に示される吸着パッド洗浄装置の側断面図である。 本発明の第二の実施形態に基づく吸着パッド洗浄装置を含むウェーハ処理装置の頂面図である。 (a)図3に示される吸着パッド洗浄装置の頂面図である。(b)図3に示される吸着パッド洗浄装置の側断面図である。 従来技術におけるウェーハ研削装置の略図である。 従来技術におけるウェーハ研削装置の部分断面図である。 従来技術における吸着パッドの部分断面図である。
符号の説明
10 ウェーハ処理装置
11 表面保護フィルム
11a、11b カセット
12a〜12d チャック部
13 ターンテーブル
15 搬送ロボット
20 ウェーハ
21 表面
22 裏面
25 面取部
30、60 吸着パッド洗浄装置
31、61 研削砥石
32、62 凹部
33、63 吸引通路
38 移動手段
39 第二真空手段
41 粗研削ユニット
42 仕上研削ユニット
43 研磨ユニット
51a〜51d 吸着パッド
52a 吸着面
53a 枠体
55a 隙間
56a 中心通路
58 洗浄液供給手段
59 第一真空手段
65 連結バー
66 リング部材
67 回転シャフト
69 吸引ブロック

Claims (8)

  1. 被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄装置において、
    前記吸着パッドの内部から該吸着パッドの吸着面に向かって洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段と、
    前記吸着パッドの前記吸着面を研削する研削砥石と、
    前記吸着パッドの前記吸着面からスラッジを前記吸着パッドの外部に吸引する吸引手段とを具備する吸着パッド洗浄装置。
  2. 前記研削砥石の研削面には凹部が形成されており、前記吸引手段は該凹部を通じて前記スラッジを吸引する請求項1に記載の吸着パッド洗浄装置。
  3. さらに、前記研削砥石を前記吸着パッドの吸着面上で往復運動させる移動手段を具備する請求項1または2に記載の吸着パッド洗浄装置。
  4. 前記吸引手段は前記研削砥石の前記研削面に隣接して配置されており、前記吸引手段は前記研削砥石の外周部付近から前記スラッジを吸引する請求項1に記載の吸着パッド洗浄装置。
  5. 被加工物を吸着する吸着パッドを洗浄する吸着パッド洗浄方法において、
    前記吸着パッドの内部から該吸着パッドの吸着面に向かって洗浄流体を供給し、
    研削砥石により前記吸着パッドの前記吸着面を研削し、
    前記吸着パッドの前記吸着面からスラッジを前記吸着パッドの外部に吸引する吸着パッド洗浄方法。
  6. 前記研削砥石の研削面には凹部が形成されており、前記スラッジを前記凹部に通して吸引する請求項5に記載の吸着パッド洗浄方法。
  7. さらに、前記研削砥石による研削時に前記研削砥石を前記吸着パッドの前記吸着面上で往復運動させることを含む、請求項5または請求項6に記載の吸着パッド洗浄方法。
  8. 前記研削砥石の外周部付近から前記スラッジを吸引する請求項5に記載の吸着パッド洗浄方法。
JP2008277022A 2008-10-28 2008-10-28 吸着パッド洗浄方法および吸着パッド洗浄装置 Pending JP2010105067A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008277022A JP2010105067A (ja) 2008-10-28 2008-10-28 吸着パッド洗浄方法および吸着パッド洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008277022A JP2010105067A (ja) 2008-10-28 2008-10-28 吸着パッド洗浄方法および吸着パッド洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010105067A true JP2010105067A (ja) 2010-05-13

Family

ID=42295016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008277022A Pending JP2010105067A (ja) 2008-10-28 2008-10-28 吸着パッド洗浄方法および吸着パッド洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010105067A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011187928A (ja) * 2010-02-12 2011-09-22 Tokyo Electron Ltd 基板処理方法
JP2012004204A (ja) * 2010-06-15 2012-01-05 Disco Abrasive Syst Ltd パッド洗浄装置およびパッド洗浄方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011187928A (ja) * 2010-02-12 2011-09-22 Tokyo Electron Ltd 基板処理方法
JP2012004204A (ja) * 2010-06-15 2012-01-05 Disco Abrasive Syst Ltd パッド洗浄装置およびパッド洗浄方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102182910B1 (ko) 웨이퍼의 엣지 연마 장치 및 방법
JP5275016B2 (ja) 研削装置
JP2009158768A (ja) 研削装置
JP2005271151A (ja) 研磨装置及び研磨方法
KR102255728B1 (ko) 웨이퍼의 가공 방법
KR101530269B1 (ko) 웨이퍼 그라인딩 장치
JP2011062759A (ja) 両面研磨装置の研磨布の研削方法及び研削装置
JP2018056488A (ja) 加工装置
JP2017092135A (ja) デバイスの製造方法
JP5498857B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP4913484B2 (ja) 半導体ウエーハの研磨加工方法
JP2011082470A (ja) ウェーハ処理方法およびウェーハ処理装置
WO2016143273A1 (ja) ウェーハの面取り加工装置及びウェーハの面取り加工方法
JP2010137349A (ja) ウェーハ用チャックテーブルおよびウェーハ処理装置
JP2010105067A (ja) 吸着パッド洗浄方法および吸着パッド洗浄装置
JP2003181756A (ja) ウェーハ加工装置用コンディショナー装置
JP6548928B2 (ja) 被加工物の研削方法及び研削装置
TWI376289B (en) Wafer grinding machine and wafer grinding method
JP6120597B2 (ja) 加工方法
JP5907797B2 (ja) ウエーハの加工方法
JP2009269128A (ja) 研削装置及び研削方法
JP2010114394A (ja) 吸着パッド洗浄装置および吸着パッドを備えたチャックテーブル
JP6166122B2 (ja) チャックテーブル
JP6439608B2 (ja) 面取り加工方法及び面取り加工装置
JP2012038840A (ja) 半導体製造装置および半導体装置の製造方法