JP2010098243A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】メアンダ構造をしているトランジスタQ1において、ゲート入力側に最も近い部分トランジスタのゲート幅を大きくする。具体的には、図5に示すように、櫛歯状電極CL(1)をその他の櫛歯状電極CL(2)〜CL(n)よりも長くするように構成している。言い換えれば、フィンガー長Lw1をその他のフィンガー長Lwjよりも長くしている。特に、櫛歯状電極CL(1)を櫛歯状電極CL(1)〜CL(n)の中で最も長くする。
【選択図】図5
Description
<携帯電話機の構成および動作>
図1は、携帯電話機の送受信部の構成を示すブロック図である。図1に示すように、携帯電話機1は、アプリケーションプロセッサ2、メモリ3、ベースバンド部4、RFIC5、電力増幅器6、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタ7、アンテナスイッチ8およびアンテナ9を有している。
上述したように、デジタル携帯電話機から信号を送信する際、電力増幅器6によって信号は増幅された後、アンテナスイッチ8を介してアンテナ9から出力される。この電力増幅器6とアンテナスイッチ8とは例えば、1つのRFモジュールHPAとして製品化されている。以下では、このRFモジュールHPAの回路ブロック構成について説明する。図2は、本実施の形態1におけるRFモジュールHPAの回路ブロック構成を示す図である。図2において、本実施の形態1におけるRFモジュールHPAは、電力増幅器6、出力整合回路12a、12b、検波回路13a、13b、ローパスフィルタLPF1、LPF2、アンテナスイッチ8およびダイプレクサDiを有している。
本実施の形態1におけるRFモジュールHPAは上記のように構成されており、以下に、その動作について説明する。図2に示すように、本実施の形態1では、GSM低周波帯域の信号およびGSM高周波帯域の信号を増幅することができるように構成されているが、動作は同様なので、GSM低周波帯域の信号を増幅する動作について説明する。なお、通信方式は、GSM方式について説明しているが、その他の通信方式であってもよい。
本実施の形態1は、RFモジュールHPAに搭載されるアンテナスイッチに着目している。以下では、このアンテナスイッチの回路構成について説明する。図3は、アンテナスイッチを構成する回路の一例を示す図である。図3に示すように、アンテナスイッチには、送信端子TX1、アンテナ端子ANT1および受信端子RX1を有している。送信端子TX1は電力増幅器の出力に接続されており、アンテナ端子ANT1はアンテナに接続されている。そして、受信端子RX1は受信回路の入力に接続されている。
アンテナスイッチを構成するトランジスタQ1やトランジスタQ2は、例えば、電界効果トランジスタの一種であるHEMT(High Electron Mobility Transistor)から構成される。このHEMTのデバイス構造について説明する。
続いて、本実施の形態1の特徴点を含むトランジスタQ1のレイアウト構成について説明する。図5は、本実施の形態1におけるトランジスタQ1のレイアウト構成を示す図である。図5において、y軸方向に延在するようにオーミック電極OE1とオーミック電極OE2が形成されている。すなわち、オーミック電極OE1とオーミック電極OE2とは、一定距離だけ離間し、かつ、それぞれがy軸方向に延在するように配置されている。そして、オーミック電極OE1のオーミック電極OE2と対向する面に複数の櫛歯状電極CL(1)、CL(3)・・・CL(2j+1)が形成されている。この複数の櫛歯状電極CL(1)、CL(3)・・・CL(2j+1)は、x軸方向に突き出るように配置されている。同様に、オーミック電極OE2のオーミック電極OE1と対向する面にも複数の櫛歯状電極CL(2)、CL(4)・・・CL(n)が形成されている。この複数の櫛歯状電極CL(2)、CL(4)・・・CL(n)もx軸方向に突き出るように配置されている。この櫛歯状電極CL(1)、CL(3)・・・CL(2j+1)および櫛歯状電極CL(2)、CL(4)・・・CL(n)は、メサ領域MRに形成されている。
図6は、本実施の形態1におけるメアンダ構造を示す平面図である。図6に示すように、アンテナスイッチを構成するトランジスタQ1はメアンダ構造をしている。この図6に示すメアンダ構造によって1つのトランジスタQ1が構成されているが、1つのトランジスタQ1は、複数の部分トランジスタCF1、CF2・・・CFjから構成されているとみなすことができる。具体的には、図6から、メアンダ構造をした1つのトランジスタQ1は、部分トランジスタCF1、CF2・・・CFjを並列に接続した構造をしているということができる。例えば、部分トランジスタCF1は、櫛歯状電極CL(1)と櫛歯状電極CL(2)を一対のオーミック電極とし、その間に配置されているゲート電極G1からなるトランジスタとみなすことができる。詳細には、部分トランジスタCF1は、フィンガー長Lw1に対応したトランジスタである。同様に、部分トランジスタCF2は、櫛歯状電極CL(2)と櫛歯状電極CL(3)を一対のオーミック電極とし、その間に配置されているゲート電極G1からなるトランジスタとみなすことができる。詳細には、部分トランジスタCF2は、フィンガー長Lw2(図示せず)に対応したトランジスタである。
次に、本実施の形態1によれば、高次高調波を低減できることを定量的に説明する。本実施の形態1では、図7に示す等価回路図を用いてシミュレーションを行い、送信時にオンしているトランジスタQ1から発生する高次高調波を算出した。シミュレーションの条件としては、入力信号の電力Pinを35dBm、入力信号の周波数を880MHzとしている。このとき、メアンダ構造をしているトランジスタQ1のゲート幅Wgを2050μmとし、フィンガー本数を20本に固定して評価している。
前記実施の形態1では、シングルゲート構造のトランジスタに本発明を適用する例を説明したが、本実施の形態2では、デュアルゲート構造のトランジスタに本発明を適用する例について説明する。
本実施の形態3では、メアンダ構造を有するトランジスタにおいて、櫛歯状電極の長さ(フィンガー長)がゲート電極に制御信号を入力する入力側から遠くなるにつれて短くなる例について説明する。
前記実施の形態1では、アンテナスイッチを構成するトランジスタとして高電子移動度トランジスタ(HEMT)を使用する例について説明したが、本実施の形態4では、アンテナスイッチを構成するトランジスタとしてMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)を使用する例について説明する。
2 アプリケーションプロセッサ
3 メモリ
4 ベースバンド部
5 RFIC
6 電力増幅器
7 SAWフィルタ
8 アンテナスイッチ
9 アンテナ
10a 整合回路
10b 整合回路
11 制御回路
12a 出力整合回路
12b 出力整合回路
13a 検波回路
13b 検波回路
14 デコーダ
20 半絶縁性基板
21 エピタキシャル層
22 バッファ層
23 AlGaAs層
24 n型GaAs層
30 半導体基板
31 埋め込み絶縁層
32 シリコン層
ANT アンテナ
ANT1 アンテナ端子
C1a 容量
C1b 容量
C2a 容量
C2b 容量
CF1 部分トランジスタ
CF2 部分トランジスタ
CL(1) 櫛歯状電極
CL(2) 櫛歯状電極
CL(3) 櫛歯状電極
CL(4) 櫛歯状電極
CL(2j+1) 櫛歯状電極
CL(n−1) 櫛歯状電極
CL(n)櫛歯状電極
D1 ドレイン領域
D1a ショットキーバリアダイオード
D1b ショットキーバリアダイオード
D2a ショットキーバリアダイオード
D2b ショットキーバリアダイオード
Di ダイプレクサ
EX エクステンション領域
G ゲート電極
G1 ゲート電極
G1a ゲート電極
G1b ゲート電極
G2a ゲート電極
G2b ゲート電極
GOX ゲート絶縁膜
HB 増幅回路
HPA RFモジュール
IL 層間絶縁膜
L1 配線
LB 増幅回路
LPF1 ローパスフィルタ
LPF2 ローパスフィルタ
LW1 フィンガー長
LWn フィンガー長
MR メサ領域
OE1 オーミック電極
OE2 オーミック電極
OE3 オーミック電極
OE4 オーミック電極
PLG プラグ
Q1 トランジスタ
Q2 トランジスタ
Qc トランジスタ
Qr1 トランジスタ
Qr2 トランジスタ
Rd1 抵抗
Rd2 抵抗
Rd3 抵抗
Rd4 抵抗
Rgg1 ゲート抵抗
Rgg2 ゲート抵抗
Rgg3 ゲート抵抗
Rgg4 ゲート抵抗
Rgg12 ゲート抵抗
Ron1 オン抵抗
Ron2 オン抵抗
RX1 受信端子
RX1c ゲート端子
RX2 受信端子
RX2c ゲート端子
RX3 受信端子
RX4 受信端子
RXc ゲート端子
S1 ソース領域
STI 素子分離領域
SW サイドウォール
TX1 送信端子
TX1c ゲート端子
TX(HB)in 入力端子
TX(LB)in 入力端子
Vct 直流電源
Vin 高周波電圧
Vrf1 RF電圧
Vrf2 RF電圧
Vrfg1 RF電圧
Claims (18)
- 半導体基板上に形成された電界効果トランジスタを備え、
前記電界効果トランジスタは、
(a)前記半導体基板の第1方向に延在し、互いに対向するように配置された第1オーミック電極および第2オーミック電極と、
(b)前記第1オーミック電極の前記第2オーミック電極と対向する対向面から前記第1方向と交差する第2方向に突き出た複数の第1櫛歯状電極と、
(c)前記第2オーミック電極の前記第1オーミック電極と対向する対向面から前記第1方向と交差する前記第2方向に突き出た複数の第2櫛歯状電極と、
(d)前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極とを交互に櫛歯状に配置することにより、前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極の間に形成される隙間に沿って延在するゲート電極とを有する半導体装置であって、
前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極を含む櫛歯状電極のうち、前記ゲート電極に制御信号を入力する入力側に最も近い櫛歯状電極の長さを、その他の櫛歯状電極の長さよりも長くすることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置であって、
前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極の間に形成される隙間に沿って、互いに並行する複数のゲート電極が延在していることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置であって、
前記ゲート電極に制御信号を入力する入力側に最も近い櫛歯状電極の長さが、櫛歯状電極の中で最も長さが長いことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置であって、
前記複数の第1櫛歯状電極の長さがそれぞれ異なり、かつ、前記複数の第2櫛歯状電極の長さもそれぞれ異なることを特徴とする半導体装置。 - 請求項4記載の半導体装置であって、
前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極を含む櫛歯状電極の長さが、前記ゲート電極に制御信号を入力する入力側から遠くなるにつれて、短くなることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置であって、
前記電界効果トランジスタは、高電子移動度トランジスタであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項6記載の半導体装置であって、
前記ゲート電極と前記半導体基板の間には半導体層が形成されており、
前記ゲート電極と前記半導体層の境界にはショットキー接合が形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項7記載の半導体装置であって、
前記半導体基板は化合物半導体から形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置であって、
前記ゲート電極と前記半導体基板の間にゲート絶縁膜が形成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項9記載の半導体装置であって、
前記半導体基板はSOI基板、もしくは、SOS基板であることを特徴とする半導体装置。 - 送信信号の送信と受信信号の受信を切り替えるアンテナスイッチを半導体基板上に備え、
前記アンテナスイッチは、
(a)前記送信信号を入力する第1端子と、
(b)アンテナに接続された第2端子と、
(c)前記受信信号を出力する第3端子と、
(d)前記第1端子と前記第2端子との間に接続された第1スイッチング素子と、
(e)前記第2端子と前記第3端子との間に接続された第2スイッチング素子とを有し、
前記送信信号の送信時に、前記第1スイッチング素子は導通状態となり、かつ、前記第2スイッチング素子は非導通状態となる一方、前記受信信号の受信時に、前記第1スイッチング素子は非導通となり、かつ、前記第2スイッチング素子は導通状態となる半導体装置であって、
前記第1スイッチング素子は電界効果トランジスタから構成され、
前記電界効果トランジスタは、
(f1)前記半導体基板の第1方向に延在し、互いに対向するように配置された第1オーミック電極および第2オーミック電極と、
(f2)前記第1オーミック電極の前記第2オーミック電極と対向する対向面から前記第1方向と交差する第2方向に突き出た複数の第1櫛歯状電極と、
(f3)前記第2オーミック電極の前記第1オーミック電極と対向する対向面から前記第1方向と交差する前記第2方向に突き出た複数の第2櫛歯状電極と、
(f4)前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極とを交互に櫛歯状に配置することにより、前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極の間に形成される隙間に沿って延在するゲート電極とを有し、
前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極を含む櫛歯状電極のうち、前記ゲート電極に制御信号を入力する入力側に最も近い櫛歯状電極の長さを、その他の櫛歯状電極の長さよりも長くすることを特徴とする半導体装置。 - 請求項11記載の半導体装置であって、
前記第2スイッチング素子も前記第1スイッチング素子と同様の構成をしている前記電界効果トランジスタから構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項11記載の半導体装置であって、
前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極の間に形成される隙間に沿って、互いに並行する複数のゲート電極が延在していることを特徴とする半導体装置。 - 請求項11記載の半導体装置であって、
前記ゲート電極に制御信号を入力する入力側に最も近い櫛歯状電極の長さが、櫛歯状電極の中で最も長さが長いことを特徴とする半導体装置。 - 請求項11記載の半導体装置であって、
前記複数の第1櫛歯状電極の長さがそれぞれ異なり、かつ、前記複数の第2櫛歯状電極の長さもそれぞれ異なることを特徴とする半導体装置。 - 請求項15記載の半導体装置であって、
前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極を含む櫛歯状電極の長さが、前記ゲート電極に制御信号を入力する入力側から遠くなるにつれて、短くなることを特徴とする半導体装置。 - (a)送信信号を増幅する第1増幅器と、
(b)前記送信信号の送信時に、前記第1増幅器で増幅された前記送信信号をアンテナから送信されるようにスイッチング動作し、受信信号の受信時に、前記アンテナで受信した受信信号を受信回路へ出力するようにスイッチング動作するアンテナスイッチを備え、
前記アンテナスイッチは、
(b1)前記送信信号を入力する第1端子と、
(b2)アンテナに接続された第2端子と、
(b3)前記受信信号を出力する第3端子と、
(b4)前記第1端子と前記第2端子との間に接続された第1スイッチング素子と、
(b5)前記第2端子と前記第3端子との間に接続された第2スイッチング素子とを有し、
前記送信信号の送信時に、前記第1スイッチング素子は導通状態となり、かつ、前記第2スイッチング素子は非導通状態となる一方、前記受信信号の受信時に、前記第1スイッチング素子は非導通となり、かつ、前記第2スイッチング素子は導通状態となる半導体装置であって、
前記第1スイッチング素子は電界効果トランジスタから構成され、
前記電界効果トランジスタは、
(c1)半導体基板の第1方向に延在し、互いに対向するように配置された第1オーミック電極および第2オーミック電極と、
(c2)前記第1オーミック電極の前記第2オーミック電極と対向する対向面から前記第1方向と交差する第2方向に突き出た複数の第1櫛歯状電極と、
(c3)前記第2オーミック電極の前記第1オーミック電極と対向する対向面から前記第1方向と交差する前記第2方向に突き出た複数の第2櫛歯状電極と、
(c4)前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極とを交互に櫛歯状に配置することにより、前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極の間に形成される隙間に沿って延在するゲート電極とを有し、
前記複数の第1櫛歯状電極と前記複数の第2櫛歯状電極を含む櫛歯状電極のうち、前記ゲート電極に制御信号を入力する入力側に最も近い櫛歯状電極の長さを、その他の櫛歯状電極の長さよりも長くすることを特徴とする半導体装置。 - 請求項17記載の半導体装置であって、
前記半導体装置は、携帯電話機のRFモジュールを構成していることを特徴とする半導体装置。
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