JP2010097728A - 透明導電膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基材上に形成され焼結によって透明導電膜を形成する透明導電膜前駆体の表面に、レーザー光に対して吸収のある吸収剤を含む吸収剤含有液を塗布し乾燥させることにより吸収剤層を形成し、該吸収剤層に吸収のある波長を有するレーザー光を該吸収剤層に照射することにより、前記透明導電膜前駆体を焼結させて透明導電膜を形成する。
【選択図】 図1
Description
ITO酸化膜の作成
ITO膜を基板上に真空蒸着法にて石英板に成膜して、この成膜品に炉加熱の代りにレーザー照射を行った。ITO膜は、膜厚の異ならしめることにより、抵抗値の異なる3種類の試料(低抵抗試料、中抵抗試料、及び高抵抗試料)を作成した。
ZnO膜の作成
代表的な酢酸亜鉛を原料としたゾルゲル成膜法について実施した。
酢酸亜鉛 43g 43g
アルミニユム−トリエトキシド − 4g
2−アミノエタノール 12g 12g
2−メトキシエタノール 57g 57g
上記配合表のごとくゾル液を作成し、30mmφ、1mm厚の石英基板上にスピンコートと100℃、20分の乾燥を10回繰り返し、所定膜厚のZnO膜前逐体を成膜した。さらにZnO膜前駆体上にカーボンブラック分散体(CB)をスピンコートし、常温乾燥させて吸収剤層を形成した。
SnO膜(ネサ膜)
酢酸金属物からの成膜法に代わり、金属塩化物から透明導電膜を成膜した。原料として、4塩化スズでも成膜は可能であるが、抵抗特性が劣るため、2塩化スズを使用した。No3の下記配合試料を作成した。
塩化スズ(II)5水和物 18g
水 20g
2メトキシエタノール 40g
上記配合比により、完全溶解したゾルを得た。その後30mmφ、2mm厚の石英基板に、ゾルをスピンコートして100℃、20分乾燥する作業を10回繰り返し、SnO膜前逐体を得た。この物の抵抗値は無限であった。レーザー光にはCO2レーザーを使用した。CO2レーザーは、出力10W,5mmφのビームを直接コート面に照射した。走査速度は2mm/秒、走査時の重ねピッチ幅2mmで30×20mmの面を走査照射した。走査照射後の抵抗値、及び透過率を測定した。測定結果を表4に示す。
1a レーザー光
2 基板
3 透明導電膜前駆体
4 吸収剤層
Claims (3)
- 基材上に形成され焼結によって透明導電膜を形成する透明導電膜前駆体の表面に、レーザー光に対して吸収のある吸収剤を含む吸収剤含有液を塗布し乾燥させることにより吸収剤層を形成し、該吸収剤層に吸収のある波長を有するレーザー光を該吸収剤層に照射することにより、前記透明導電膜前駆体を焼結させて透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の形成方法。
- 前記透明導電膜前駆体をゾル−ゲル法によって前記基材上に形成するステップを更に有することを特徴とする請求項1に記載の透明導電膜の形成方法。
- 前記透明導電膜前駆体を真空蒸着法によって前記基材上に形成するステップを更に有することを特徴とする請求項1に記載の透明導電膜の形成方法。
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