JP2010091737A - 光共振器及び波長可変レーザ - Google Patents

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Abstract

【課題】波長の制御をより簡単にし、かつ、従来技術よりも、より小型な光共振器及び波長可変レーザを提供すること。
【解決手段】第1、第2及び第3光導波路12,14及び16が交差点Pで接続されたY分岐光導波路18を用いた光共振器10であって、第1光導波路の終端部12aに高反射膜24が設けられていて、第2及び第3光導波路の双方又はいずれか一方に、波長選択手段19,20及び21を備えており、第2光導波路及び第3光導波路の終端部14a及び16aの間を光結合可能に接続する光結合導波路22が設けられている。
【選択図】図1

Description

この発明は、選択波長を変更することができる光共振器及び波長可変レーザに関する。
光波長多重通信システムにおいては、種々の波長の光を発生させる波長可変レーザが多く使用されている。これは、1個の素子で複数の波長に対応することが可能だからである。
この波長可変レーザに関しては従来から種々の構造のものが提案されている(例えば、特許文献1〜9、及び非特許文献1参照。)。
これらの文献に記載された波長可変レーザに共通した特徴点は、半導体光増幅器と、波長可変フィルタとを光共振器の中に組み込んだことである。
近年、波長可変レーザには、(1)小型であること、(2)部品点数が少ないこと、(3)光軸合わせが容易であることなどの特徴が要求され始めている。
このような観点から、非特許文献1に開示されたような光導波路構造を用いた波長可変レーザが注目されている。
特開平10−261837号公報 特開2000−261086号公報 特開2000−223744号公報 特開2005−327881号公報 特開2002−6352号公報 特開2004−71809号公報 特開2006−196554号公報 特開2007−115900号公報 特開2007−234786号公報 M.Takahashi,et.al.,"Tunable Lasers Based on Silica Waveguide Ring Resonators",OFC2008論文予稿集OWJ1
非特許文献1に開示された波長可変半導体レーザは、FSR(Free Spectral Range)の異なる2個のリング共振器を使用することで、波長透過ピークのバーニア効果で波長を調整することを可能としている。さらに、基準波長を与えるためのリング共振器を組み込み、これとバーニア効果とを利用することで、僅かな屈折率変化で選択される光の波長帯域を約50nmという広い範囲で変更することが可能である。また、この波長可変レーザは、屈折率差の大きな材料で作成されており、その結果光導波路の曲率を小さくし、約5mm角のサイズに収めることを可能とした。
しかし、非特許文献1に開示された波長可変レーザは、2個のリング共振器の波長を精密に制御する必要があり、制御回路が複雑になるという問題点が存在した。さらに、非特許文献1に開示された波長可変レーザよりも、より小型な光共振器の実現が望まれていた。
この発明は上述したような問題に鑑みなされたものである。従って、この発明の目的は、屈折率という単独のパラメータを用いて、波長の制御をより簡単にし、かつ、従来技術よりも、より小型な光共振器及び波長可変レーザを提供することにある。
上述した目的の達成を図るために、この発明の発明者は、第1、第2及び第3光導波路が接続されたY分岐光導波路を利用して、この第1光導波路の終端部に高反射膜を設け、第2及び第3光導波路の双方又はいずれか一方に、波長選択手段を設け、これら第2及び第3光導波路の終端部間を光結合可能に接続する光結合導波路が設けられた光共振器により上述した目的を達成できることに想到した。
したがって、この発明の光共振器は、第1、第2及び第3光導波路が交差点で接続されたY分岐光導波路を用いた光共振器であって、第1光導波路の終端部に高反射膜が設けられていて、第2及び第3光導波路の双方又はいずれか一方に、波長選択手段を備えている。そして、第2光導波路及び第3光導波路の終端部間を光結合可能に接続する光結合導波路が設けられている。
この光共振器の好適な一実施態様として、光結合導波路が、第2光導波路の終端部と、第3光導波路の終端部とを接続する曲がり光導波路であり、曲がり光導波路と、第2及び第3光導波路とで第1周回型光導波路が形成されていることが好ましい。
また、この光共振器の好適な一実施態様として、光結合導波路が、第2周回型光導波路であり、第2及び第3光導波路の終端部のそれぞれが、第2周回型光導波路と光結合可能に配置されていることが好ましい。
また、この光共振器の好適な一実施態様として、第2周回型光導波路と第2及び第3光導波路の終端部との間の光の結合領域に、近接配置された第2周回型光導波路と第2及び第3光導波路とを備えた方向性結合器が設けられていることが好ましい。
また、この光共振器の好適な一実施態様として、波長選択手段がマッハツェンダ干渉器であることが好ましい。
また、この光共振器の好適な一実施態様として、第1〜第nマッハツェンダ干渉器(nは2以上の整数)が設けられており、第1マッハツェンダ干渉器を構成する2本の光路の間の光路長差をΔL1とし、第1マッハツェンダ干渉器に設けられた電極の電極長をLe1としたときに、第iマッハツェンダ干渉器(iは、1≦i≦nの整数)を構成する2本の光路の間の光路長差ΔLi、及び、第iマッハツェンダ干渉器に設けられた電極長Leiが、ΔLi=ΔL1×2i−1及びLei=Le1×2i−1で与えられることが好ましい。
また、この光共振器の好適な一実施態様として、第1〜第n−1マッハツェンダ干渉器が第2光導波路に設けられており、及び第nマッハツェンダ干渉器が前記第3光導波路に設けられていることが好ましい。
また、この発明の波長可変レーザは、上述した光共振器を用いていて、第1光導波路の終端部と、高反射膜との間に、光増幅器が介在されていることを特徴とする。
この発明は上述のように構成しているので、屈折率という単独のパラメータを用いて、波長の制御をより簡単にし、かつ、従来技術よりも、より小型な光共振器及び波長可変レーザを提供することができる。
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。なお、各図は、各構成要素の形状、大きさ及び配置関係について、この発明が理解できる程度に概略的に示したものにすぎない。また、以下、この発明の好適な構成例について説明するが、各構成要素の材質及び数値的条件などは、単なる好適例にすぎない。従って、この発明は、以下の実施の形態に何ら限定されない。また、各図において、共通する構成要素には同符号を付し、その説明を省略することもある。
(実施の形態1)
図1〜図5を参照して、実施の形態1の光共振器について説明する。図1は、光共振器の構成を概略的に示す斜視図である。
(構造)
まず、光共振器10の構造を概略的に説明する。
光共振器10は、第1、第2及び第3光導波路12,14及び16が交差点Pで接続されたY分岐光導波路18を構成要素として備えている。
また、光共振器10は、第2及び第3光導波路14及び16の双方又はいずれか一方に、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21を波長選択手段として備えている。そして、光共振器10には、第2光導波路14及び第3光導波路16の終端部14a及び16a間を光結合可能に接続する曲がり光導波路22が光結合導波路として設けられている。
また、光共振器10は、第1光導波路12と高反射膜24との間には、半導体光増幅器26を光増幅器として備えている。
光共振器10は、基板28上に集積されている。より詳細には、高反射膜24及び半導体光増幅器26は、基板28の第1主面28a上に形成されている。高反射膜24及び半導体光増幅器26以外の構成要素、すなわちY分岐光導波路18、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21、及び曲がり光導波路22は、基板28の第1主面28a上に積層されたSiO膜30の内部に作り込まれている。
なお、図1において、Y分岐光導波路18、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21、及び曲がり光導波路22は、SiO膜30中に埋め込まれて延在しているが、発明の理解を助けるために実線で示してある。
また、この実施の形態では、マッハツェンダ干渉器19,20及び21が3個の場合、つまりn=3の場合について説明するが、マッハツェンダ干渉器の個数nは2個以上であれば、特に限定されず、設計に応じて任意好適な個数を選択することができる。
続いて、光共振器10の構成要素の詳細を順に説明する。
基板28は、好ましくは、例えば矩形状の平行平板とする。基板28を構成する材料は、好ましくは例えば、Siとする。
高反射膜24は、従来公知の誘電体多層膜から形成されており、入射した光を90%以上の反射率で反射する機能を有している。高反射膜24としては、好ましくは、例えば、SiN/SiOの積層構造を多層にわたって積層した膜を用いる。高反射膜24は、半導体光増幅器26の、光を出射する一方の端面に配置されている。
半導体光増幅器26は、従来公知の半導体レーザ光源であり、図示しない、光が出射される活性層を導電型がp型のクラッド層と導電型がn型のクラッド層とで挟み込んだ構造を有している。なお、この実施の形態においては、活性層の材料は、好ましくは、例えば波長1.55μm付近の光を発生する、InGaAsPとする。
半導体光増幅器26は、基板28の第1主面28a上に配置されている。上述したように、半導体光増幅器26の、光を外部に向けて出射する一方の端面には高反射膜24が配置されている。半導体光増幅器26の、光をSiO膜30側に向けて出射する他方の端面は、Y分岐光導波路18の第1光導波路12の終端部12aと光結合可能に対向して配置されている。
SiO膜30は、基板28の第1主面28a上に積層されている。SiO膜30は、基板28よりも小サイズの矩形状の平行平板である。SiO膜30には、膜中にY分岐光導波路18、マッハツェンダ干渉器19,20及び21、並びに曲がり光導波路22が作り込まれている。SiO膜30は、これらの光を伝播する構成要素に対してクラッドとして機能する。
Y分岐光導波路18は、第1〜第3光導波路12,14及び16を備えている。これら第1〜第3光導波路12,14及び16の一方の端部は、交差点Pで光結合可能に接続されている。なお、この交差点Pで互いに接続されている第1〜第3光導波路12,14及び16の端部のことを、「始端部」と称する。また、始端部とは反対側の端部のことを「終端部12a,14a及び16a」と称する。
Y分岐光導波路18は、好ましくは例えば、Siを材料として形成されており、Y分岐光導波路18を構成する第1〜第3光導波路12,14及び16は、SiO膜30中に埋め込まれている。光伝播方向に直交する平面で切断したY分岐光導波路18の横断面形状は、好ましくは例えば、略正方形状とする。また、その寸法は、高さ(第1主面28aに垂直に測った長さ)が、好ましくは例えば約0.3μmとし、幅(光伝播方向に垂直であり、かつ、第1主面28aに平行な方向に測った長さ)が、好ましくは例えば約0.3μmとする。
次に、Y分岐光導波路18を構成する各光導波路12,14及び16について詳細に説明する。
第1光導波路12は、交差点Pと、半導体光増幅器26との間を接続する光導波路である。この実施の形態では、第1光導波路12は、直線的に延在している。第1光導波路12の終端部12aは、半導体光増幅器26の活性層と、光界分布の位置が一致するように配置されている。つまり、第1光導波路12の終端部12aは、光結合可能な数μm程度の間隔を空けて、半導体光増幅器26の活性層に対向配置されている。
第2及び第3光導波路14及び16は、交差点Pにおいて、第1光導波路12から対称的に分岐して延在している。ここで、図2を参照して、交差点P付近における第2及び第3光導波路14及び16の配置について説明する。図2は、Y分岐光導波路18の要部拡大平面図である。
図2に示すように、第1〜第3光導波路12,14及び16の中心軸のなす角度をそれぞれα,β,γとする。このとき、好ましくは例えば、α=β≒0.5°であり、γ≒0.5°とする。第1〜第3光導波路12,14及び16をこのような角度配置にすることにより、第2光導波路14(第3光導波路16)を交差点Pに向かって伝播する光を、第3光導波路16(第2光導波路14)に回り込ませることなく、第1光導波路12へと伝播させることができる。
再び、図1に戻って、第2及び第3光導波路14及び16について説明する。
第2及び第3光導波路14及び16は、第1光導波路12の中心軸の延長線Cに対して、線対称に形成されている。従って、第2及び第3光導波路14及び16の光路長は、同一である。
より詳細には、第2及び第3光導波路14及び16は、交差点P付近の略S字形に屈曲した屈曲領域と、この屈曲領域に接続され互いに平行な2本の直線領域とを有している。この直線領域に、後述する第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21が設けられている。より詳細には、第2光導波路14の直線領域に第1及び第2マッハツェンダ干渉器19及び20が設けられている。そして、第3光導波路16の直線領域に第3マッハツェンダ干渉器21が設けられている。
また、第2及び第3光導波路14及び16の終端部14a及び16a間は、曲がり導波路22で光結合可能に接続されている。その結果、第2及び第3光導波路14及び16と曲がり光導波路22とで第1周回型光導波路32が形成されている。
曲がり光導波路22は、上述したように、第2及び第3光導波路14及び16の終端部14a及び16a間を接続する湾曲した光導波路である。曲がり光導波路22は、第2及び第3光導波路14及び16と一体的に形成されている。
従って、曲がり光導波路22を構成する材料は、第2及び第3光導波路14及び16と同様にSiである。また、曲がり光導波路22の光伝播方向に垂直な面で切断した横断面の形状及び寸法も第2及び第3光導波路14及び16と同様である。
曲がり光導波路22は、基板28の外側に向かって凸に湾曲している。曲がり光導波路22の平面形状は、この実施の形態では、好ましくは例えば半円状とする。曲がり光導波路22の曲率半径は、伝播する光のロスが実用上許容できるレベルに抑えられる大きさとする。この実施の形態のようにクラッドとしてSiOを用い、曲がり光導波路22としてSiを用いた場合には、曲率半径は、好ましくは例えば、約0.3mmとする。
続いて、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21について説明する。
まず始めに、図3を参照して、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21に共通した構造について、第1マッハツェンダ干渉器19を代表として説明する。図3は、第1マッハツェンダ干渉器19の拡大平面図である。
なお、以下の説明を第2及び第3マッハツェンダ干渉器20及び21に当てはめる場合には、「19」との符合を「20」(第2マッハツェンダ干渉器)又は「21」(第3マッハツェンダ干渉器)と置き換えればよい。
第1マッハツェンダ干渉器19は、2個のY分岐光導波路19a及び19bと、これらのY分岐光導波路19a及び19bの間を接続する2本の光路19c及び19dと、光路19cに設けられた電極19eとを備えている。
2本の光路19c及び19dは、それぞれの光路長が異なっている。ここで、光路19c及び19dの光路長をそれぞれL19c及びL19dとする。この例では、光路長に関していえば、L19d>L19cという大小関係が成り立っている。さらに、光路19cと19dとの間の光路長差をΔL19(=L19d−L19c)とする。
電極19eは、光路19cの上面に設けられている。ここで、電極19eの光伝播方向に沿った長さ(電極長)をLe19とする。電極19eに、電圧を印加することにより、熱光学効果や電気光学効果に基づいて、光路19cの屈折率を変化させる。これにより、光路19cの光路長L19cを制御する。詳細は(波長チューニングについて)の項で説明するが、電極19eは、光共振器10の選択波長を変化させる場合に使用する。
従来周知の通り第1マッハツェンダ干渉器19は、光路長L19c及びL19dが異なる2本の光路19c及び19dにY分岐光導波路19aを介して光を等分配して伝播させる。これにより、光路19c及び19dをそれぞれ伝播する光には、光路長差ΔL19に対応する位相差が生じる。
これらの光をY分岐光導波路19bにおいて合波すると、生じた位相差に応じて、光同士が打ち消し合う場合と、強め合う場合とが生じる。第1マッハツェンダ干渉器19は、この現象を利用して、Y分岐光導波路19aから入力された光の波長選択を行う波長選択手段として機能する。
続いて、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21の相互の関係、特に、光路長及び電極の長さの関係について説明する。
まず始めに、最も一般的な場合、つまり、第2及び第3光導波路14及び16に、n個のマッハツェンダ干渉器、すなわち第1〜第nマッハツェンダ干渉器が設けられている場合について説明する。なお、一般的な説明における「第1マッハツェンダ干渉器」は、「第1マッハツェンダ干渉器19」とは異なる概念であることに留意いただきたい。
今、光路長が最も短い第1マッハツェンダ干渉器を構成する2本の光路の間の光路長差をΔL1とし、この第1マッハツェンダ干渉器に設けられた電極の電極長をLe1とする。
このとき、第iマッハツェンダ干渉器(iは、1≦i≦nの整数)を構成する2本の光路の間の光路長差ΔLiは、ΔLi=ΔL1×2i−1で与えられ、及び、第iマッハツェンダ干渉器に設けられた電極長Leiは、Lei=Le1×2i−1で与えられるように、第1〜第nマッハツェンダ干渉器はそれぞれ設計されている。
上述した一般的な説明を、この実施の形態に当てはめて、より詳細に説明する。
ここで、第2マッハツェンダ干渉器20の2本の光路20c及び20dの間の光路長差をΔL20とし、及び光路20cに設けられる電極20eの電極長をLe20とする。同様に、第3マッハツェンダ干渉器21の2本の光路21c及び21dの間の光路長差をΔL21とし、及び光路21cに設けられる電極21eの電極長をLe21とする。
このとき、上述した式(ΔLi=ΔL1×2i−1)を用いると、ΔL20は、ΔL19から、ΔL20=ΔL19×22−1=2ΔL19で与えられる。同様に、ΔL21は、ΔL21=ΔL19×23−1=4ΔL19で与えられる。
つまり第2マッハツェンダ干渉器20の光路長差ΔL20は、第1マッハツェンダ干渉器19の光路長差ΔL19の2倍(2倍)の大きさであり、及び第3マッハツェンダ干渉器21の光路長差ΔL21は、第1マッハツェンダ干渉器19の光路長差ΔL19の4倍(2倍)の大きさである。
光路長差と同様にして電極長についても、上述した式(Lei=Le1×2i−1)を用いて計算すると、第2マッハツェンダ干渉器20の電極長Le20は、第1マッハツェンダ干渉器19の電極長Le19の2倍の長さとなる。また、第3マッハツェンダ干渉器21の電極長Le21は、第1マッハツェンダ干渉器19の電極長Le19の4倍の長さでとなる。
なお、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21の作用については、(波長選択のメカニズム)の項でさらに詳しく説明する。
(動作)
次に、図1を参照して光共振器10の動作について説明する。
半導体光増幅器26から放射された光は、第1光導波路12を伝播して、Y分岐光導波路18の分岐点Pに至る。分岐点Pにおいて、光は、第2光導波路14と第3光導波路16とに等分配される。
まず、分岐点Pから第2光導波路14に分配された光は、第1マッハツェンダ干渉器19及び第2マッハツェンダ干渉器20を伝播することで波長選択される。ここで、波長選択されなかった光は、クラッドであるSiO膜30中に放射される。
第1及び第2マッハツェンダ干渉器19及び20を伝播した光は、曲がり光導波路22を伝播し、180°進行方向を変えられ、第3光導波路16に至る。そして、第3光導波路16に設けられた第3マッハツェンダ干渉器21でさらに波長選択をされて、分岐点Pに戻ってくる。なお、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21の波長選択のメカニズムについては後述する。
一方、分岐点Pから第3光導波路16に分配された光は、第3光導波路に設けられた第3マッハツェンダ干渉器21により波長選択される。そして、波長選択された光は曲がり光導波路22を経て180°進行方向を変えられて第2光導波路14へと至る。そして、第2光導波路14に設けられた第2及び第1マッハツェンダ干渉器20及び19でさらに波長選択を受けた後に、交差点Pに戻る。
その結果、交差点Pには、第2光導波路14→曲がり光導波路22→第3光導波路16と反時計回りに各光導波路を周回した光(「反時計回り光」と称する。)と、第3光導波路16→曲がり光導波路22→第2光導波路14と時計回りに各光導波路を周回した光(「時計回り光」と称する。)とが戻ってくる。ここで、反時計回り光と時計回り光は、伝播方向が異なるだけで、共通の経路を伝播する。従って、交差点Pに戻って来た段階で、反時計回り光と時計回り光とは同一の位相を持つ。その結果、交差点Pで合流した反時計回り光と時計回り光とは、打ち消し合うことなく、足し合わされて合波される。
このようにして分岐点Pで合波された光は、第1光導波路12、及び半導体光増幅器26を経て、高反射膜24で反射され、再び上述の経路を伝播する。
つまり、高反射膜24と、第1周回型光導波路32との間で光を往復させながら増幅する光共振器10が形成される。増幅された光が所定の強度を超えると、高反射膜24を透過して、外部に出射される。
(波長選択のメカニズム)
ここで、主に図4(A)〜(C)を参照して、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21の波長選択のメカニズムについて説明する。
図4(A)は、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21のそれぞれの波長選択特性を示す模式図である。図4(B)は、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21の合成波長選択特性を示す模式図である。図4(C)は、図4(B)に、さらに、光共振器10のファブリペロ共振波長を描き加えて示す模式図である。図4(A)〜(C)のいずれも縦軸は光強度(任意単位)を示し、横軸は波長(任意単位)を示す。
図4(A)には、3本の曲線が描かれている。曲線I,II及びIIIのそれぞれは、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21のY分岐光導波路19a,20a及び21aに全ての波長を含む白色光を入射させたときの、Y分岐光導波路19b,20b及び21bから出力される光の波長と強度との関係、つまり、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21の波長選択特性を示している。
曲線I〜IIIのいずれも、一定の波長間隔でピークが繰り返されている。ただし、ピークが繰り返される波長間隔は、曲線I〜IIIで異なっており、曲線I→曲線II→曲線IIIの順番でピークの波長間隔が短くなっている。
このピークの波長間隔のことを一般に、既に説明した従来公知のFSRと称する。ここで、曲線Iで示した第1マッハツェンダ干渉器19のFSRをFSR19と称する。曲線IIで示した第2マッハツェンダ干渉器20のFSRをFSR20と称する。曲線IIIで示した第3マッハツェンダ干渉器21のFSRをFSR21と称する。
ところで、マッハツェンダ干渉器のFSRは、従来周知の下記式(1)で与えられることが知られている。
FSR=λ/(2nsΔL)・・・(1)
ここで、λは、マッハツェンダ干渉器から出力される光の波長を表わす。また、nsはマッハツェンダ干渉器を構成する材料の屈折率を表わす。さらにΔLは、マッハツェンダ干渉器の2本の光路の光路長差を表わす。
式(1)から明らかなように、他の条件が一定の場合、マッハツェンダ干渉器の光路長差ΔLが2倍となると、FSRが半分(1/2)になることが分かる。
この関係を、光路長差ΔL19,ΔL20及びΔL21を有する第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21に当てはめると、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21は、光路長差ΔL19,ΔL20及びΔL21が、この順序で2倍ずつ増加していく。
従って、図4(A)に示すように、FSR19,FSR20及びFSR21は、この順序で1/2ずつ減少していく。つまり、FSR19/4=FSR20/2=FSR21との関係が成り立つ。
この実施の形態の光共振器10では、3個のマッハツェンダ干渉器19,20及び21に順に光を伝播させるので、図4(A)に示した3本の曲線I〜IIIを合成した波長が選択されることになる。
第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21は、光路長差ΔL19,ΔL20及びΔL21と、光路長L19c,L20c及びL21cとが上述したように、この順序で2倍ずつ増加している。その結果、図4(A)に示すように、曲線I〜IIIの3個のピークは、ある波長λSで一致することとなる。
その結果、図4(B)に示すように、この3個のピークが一致した波長λSが波長選択される。つまり、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21に光を伝播させることで、光共振器10では、波長λSの光が選択されることになる。
次に、図4(C)を参照して、さらに詳細に、光共振器10における選択波長について説明する。
上述したように、光共振器10では、高反射膜24と第1周回型光導波路32との間で光共振器、すなわちファブリペロ光共振器が形成されている。従って、光共振器10から実際に出力される光は、このファブリペロ光共振器で許される縦モード波長を有する光に限定される。
図4(C)には、図4(B)に重ねて、ファブリペロ光共振器の縦モード波長を示した。図4(C)に示すように、光共振器10からは、図4(B)の第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21による選択波長λSに最も近く、それゆえ、光共振器10における損失が最も少ない波長λSSの光が出力されることとなる。
次に、図5を参照して、この光共振器10におけるサイドモード抑制比Rについて説明する。図5は、光共振器10のサイドモード抑制比Rの説明に供する図である。
サイドモード抑制比Rとは、図4(C)に示すように、光共振器10の選択波長λSSの光強度に対する、この選択波長λSSに隣接する縦モード波長λ’の光強度の比率を表わす量である。サイドモード抑制比Rは、光共振器10の波長選択の急峻さを表わしている。
図5の縦軸は、サイドモード抑制比R(dB)を示し、横軸は、半導体光増幅器26の発光の閾値電流密度Jthで規格化した、半導体光増幅器26に対する電流密度(J/Jth)(無次元)を示している。
図5には、光共振器10に設けるマッハツェンダ干渉器の段数n、及び半導体光増幅器26の自然放出結合係数Csを変えた4本の曲線I〜IVが描かれている。ここで、自然放出結合係数Csとは、半導体光増幅器26の構造及び組成により定まる係数である。なお、図5の計算を行うに当たり、半導体光増幅器26の光伝播方向に沿った長さは0.3mmと仮定している。
図5を参照すると、同じ自然放出係数Cs同士で比較した場合、すなわち、曲線Iと曲線III、及び曲線IIと曲線IVとを比較したとき、マッハツェンダ干渉器の段数nが増加すると、サイドモード抑制比Rが向上していることが分かる。
通常、マッハツェンダ干渉器の段数nが増加すると、光共振器10の光路長が増加することになるので、縦モードの波長間隔が狭まり、サイドモード抑制比Rは悪化することが知られている。しかし、図5から明らかなように、この実施の形態の光共振器10の場合には、これとは逆に、サイドモード抑制比が向上する傾向を示している。
これは、マッハツェンダ干渉器の段数が増加したことにより生じる縦モード間隔が狭まる効果よりも、マッハツェンダ干渉器の段数が増加したことにより生じる選択波長帯域が狭まる効果が上回っていることを示している。
通常、サイドモード抑制比Rは、30dB以上が好ましいことが知られている。図5から明らかなように、曲線IV、すなわち自然放出計数Cs=10−5かつマッハツェンダ干渉器の段数が5段の場合に、計算を行ったほぼ全ての(J/Jth)の範囲でサイドモード抑制比Rが30dB以上の良好な結果を示している。
(波長チューニングについて)
続いて、光共振器10の波長チューニング、すなわち選択波長を変化させることについて説明する。
一般に、マッハツェンダ干渉器を用いた波長チューニングを行う場合、波長チューニング量Δλは、下記式(2)で与えられることが知られている。
Δλ=λΔnsLe/(−nsΔL)・・・(2)
ここで、Leは、マッハツェンダ干渉器に設けられる電極の光伝播方向に沿った長さを示す。
式(2)から、この実施の形態に示すような多段のマッハツェンダ干渉器19,20及び21を備えた光共振器10では、各電極19e,20e及び21eを用いて光路19c,20c及び21cに共通した等しい屈折率変化Δnsを生じることができれば、各マッハツェンダ干渉器19,20及び21で、等しい波長変化Δλを得ることができる。すなわち、波長チューニングを行うことができることが分かる。
また、式(1)及び式(2)から、この実施の形態の光共振器10の寸法を概算することができる。
例えば、波長チューニング量Δλを50nmとする場合には、この範囲に他の選択波長ピークが存在すると実質的な波長チューニング量が減少してしまうために、FSRを50nm以上と設定する必要がある。
この条件に加えて、Y分岐光導波路18、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21、並びに曲がり光導波路22がSiで形成されており、ns≒3と仮定すると、式(1)より、ΔL≒8λが得られる。
さらに、Δnsを、Siでの一般的な値であるΔns≒0.01と仮定すると、式(2)より、Le≒50λが得られる。ここで、λを、光通信分野で一般的な1.55μmとした場合、第1周回型光導波路32の寸法は約1.5mm程度に収まる。
(効果)
(1)この実施の形態の光共振器10は、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21に設けられた電極19e,20e及び21eに印加する電圧を変化させることで、光路19c,20c及び21cの屈折率を変化させ、これにより、選択波長のチューニングを行う。つまり、光路19c,20c及び21cの屈折率という単独のパラメータを変化させることで波長の制御を簡単に行うことができる。
(2)また、この実施の形態の光共振器10は、非特許文献1に開示された技術に比べて、より小型に形成することができる。
(3)また、この実施の形態では、第2光導波路14に、第1及び第2マッハツェンダ干渉器19及び20を設け、第3光導波路16に、光伝播方向に沿った長さが最も長い第3マッハツェンダ干渉器21を設けている。このような配置でマッハツェンダ干渉器19,20及び21を配置することにより、第2又は第3光導波路14又は16の一方のみに全てのマッハツェンダ干渉器19,20及び21を設ける場合に比較して、光共振器10の全長を大幅に短くすることができる。
なお、マッハツェンダ干渉器がn個の場合についても同様である。第1〜第nマッハツェンダ干渉器は、この順序で全長が2倍ずつ大きくなっている。従って、第1〜第n−1マッハツェンダ干渉器の全長の総和は、第nマッハツェンダ干渉器の全長とほぼ等しくなる。従って、第1〜第n−1マッハツェンダ干渉器を第2光導波路14に設け、及び第nマッハツェンダ干渉器を第3光導波路16に設けることにより、第1〜第nマッハツェンダ干渉器を、第2又は第3光導波路のいずれか一方のみに設ける場合に比較して、光共振器の全長を約半分に抑えることができる。
(変形例等)
この実施の形態においては、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21にY分岐光導波路19a,19b,20a,20b,21a及び21bを用いた場合を説明した。
しかし、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21において、各光路に光を分岐させる手段はY分岐光導波路には限定されない。
例えば、図6に示すように、Y分岐光導波路の代わりに、2×2カプラ34a,34b,36a,36b,38a及び38bを用いてもよい。この場合2×2カプラ34a,34b,36a,36b,38a及び38bとしては、多モード干渉光カプラ又は方向性結合器を用いることができる。
この場合、2×2カプラ34b,36b及び38aに接続された2本の出力導波路のうち、片方は、基板28の外部に不要な光を捨てるための排出用光導波路34c,36c及び38cとなる。
このような構成にした場合、排出用光導波路34c,36c及び38cから排出される光の波長をモニターすることにより、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21で選択されている波長を知ることが可能となる。
(実施の形態2)
続いて、図7〜図9を参照して、実施の形態2の光共振器40について説明する。
なお、図7において、図1と同様の構成要素には同符号を付し、その説明を省略することもある。
図7を参照すると、光共振器40は、曲がり光導波路22(図1)が、第2周回型光導波路42に変更されている以外は、実施の形態1の光共振器10と同様の構成を有している。従って、以下の説明では、主にこの相違点について説明する。
光共振器40は、第2光導波路14及び第3光導波路16の終端部14a及び16aの間を光結合可能に接続する光結合導波路として第2周回型光導波路42を用いている。そして、第2周回型光導波路42と、第2及び第3光導波路14及び16の終端部14a及び16aとの間の光の結合領域に、近接配置された第2周回型光導波路42と、第2及び第3光導波路14及び16とを備えた方向性結合器44及び46が設けられている。
第2周回型光導波路42は、無終端で略円形のリング共振器である。第2周回型光導波路42は、第2及び第3光導波路14及び16の終端部14a及び16aの間のSiO膜30中に埋め込まれて延在している。第2周回型光導波路42は、好ましくは例えば、Siを材料として形成されている。第2周回型光導波路42の光伝播方向に垂直な横断面の形状は、第1〜第3光導波路12,14及び16と同様とする。また、第2周回型光導波路42の曲率半径は、光共振器40の選択波長により任意好適な大きさに設定できるが、この例では、好ましくは例えば約0.3mmとする。
方向性結合器44は、終端部14a付近において、光結合可能に近接配置された第2光導波路14及び第2周回型光導波路42から構成されている。方向性結合器44は、(1)第2光導波路14を伝播する光を第2周回型光導波路42に結合する機能と、(2)第2周回型光導波路42を伝播する光を第2光導波路14に結合する機能とを有している。
方向性結合器46は、終端部16a付近において、光結合可能に近接配置された第3光導波路16及び第2周回型光導波路42から構成されている。方向性結合器46は、(1)第2光導波路16を伝播する光を第2周回型光導波路42に結合する機能と、(2)第2周回型光導波路42を伝播する光を第2光導波路16に結合する機能とを有している。
(動作)
半導体光増幅器26から放射された光は、第1光導波路12を伝播して、分岐点Pに至る。分岐点Pにおいて、光は、第2光導波路14と第3光導波路16とに等分配される。
まず、第2光導波路14に分配された光は、第1マッハツェンダ干渉器19及び第2マッハツェンダ干渉器20を伝播することで波長選択される。ここで、波長選択されなかった光は、クラッドであるSiO膜30中に放射される。
第1及び第2マッハツェンダ干渉器19及び20を伝播した光は、方向性結合器44により、第2周回型光導波路42に結合される。第2周回型光導波路42に結合された光の中で、リングを1周したときに位相が揃う波長の光のみが第2周回型光導波路42の共振条件を満たし、強度が増加していく。それ以外の光は、クラッドとしてのSiO膜30に捨てられる。
第2周回型光導波路42の共振条件を満たした光は、方向性結合器46において、第3光導波路16に結合される。そして、第3光導波路16に設けられた第3マッハツェンダ干渉器21でさらに波長選択をされて、分岐点Pに戻ってくる。
一方、第3光導波路16に分配された光は、第3光導波路に設けられた第3マッハツェンダ干渉器21により波長選択される。そして、方向性結合器46により、第2周回型光導波路42に結合される。第2周回型光導波路42に結合された光の中で、リングを1周したときに位相が揃う波長の光のみが第2周回型光導波路42の共振条件を満たし、強度が増加していく。それ以外の光は、クラッドとしてのSiO膜30に捨てられる。
第2周回型光導波路42の共振条件を満たした光は、方向性結合器44において、第2光導波路14に結合される。そして、第2光導波路14に設けられた第2及び第1マッハツェンダ干渉器20及び19でさらに波長選択を受けた後に、交差点Pに戻る。
交差点Pには、第2光導波路14→第2周回型光導波路42→第3光導波路16と反時計回りに各光導波路を周回した光(「反時計回り光」と称する。)と、第3光導波路16→第2周回型光導波路42→第2光導波路14と時計回りに各光導波路を周回した光(「時計回り光」と称する。)とが戻ってくる。ここで、反時計回り光と時計回り光は、共通の経路を伝播する。従って、交差点Pに戻って来た段階で、反時計回り光と時計回り光とは同一の位相を持つ。その結果、交差点Pで合流した反時計回り光と時計回り光とは、打ち消し合うことなく、足し合わされて合波される。
このようにして分岐点Pで合波された光は、第1光導波路12、及び半導体光増幅器26を経て、高反射膜24で反射され、再び上述の経路を伝播する。
つまり、高反射膜24→第2光導波路14(第3光導波路16)→第2周回型光導波路42→第3光導波路16(第2光導波路14)→高反射膜24との経路で光を往復させながら増幅する光共振器40が形成される。増幅された光が所定の強度を超えると、高反射膜24を透過して、外部に出射される。
(波長選択のメカニズム)
光共振器40は、第2周回型光導波路42をリング共振器として備えている。その結果、波長選択手段として、第1〜第3マッハツェンダ共振器19,20及び21のみを備えていた光共振器10に比較して、より波長選択性が向上する。
以下この点について、図8(A)〜(C)を参照して説明する。
図8(A)は、図4(B)と同様の図であり、光共振器10の波長選択特性、すなわち第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21の合成波長選択特性を示す模式図である。図8(B)は、第2周回型光導波路42の波長選択特性を示す模式図である。図8(C)は、第1〜第3マッハツェンダ干渉器19,20及び21と第2周回型光導波路42の合成波長選択特性を示す模式図である。図8(A)〜(C)のいずれも縦軸は光強度(任意単位)を示し、横軸は波長(任意単位)を示す。
図8(B)を参照すると、第2周回型光導波路42の波長選択特性は、従来周知のリング共振器の波長選択特性と同様であり、等波長間隔で鋭いピークを有している。
光共振器40全体としての波長選択特性は、図8(A)と図8(B)とを合成した図8(C)で与えられる。これを、実施の形態1の光共振器10の波長選択特性(図8(A))と比較すると、明らかに光共振器40の波長選択特性が向上していることが分かる。
光共振器40において、波長選択特性が向上していることについて、図9を参照してさらに説明する。
図9は、光共振器40のサイドモード抑制比Rを示す模式図である。縦軸は、サイドモード抑制比R(dB)を示し、横軸は、半導体光増幅器26の発光の閾値電流密度Jthで規格化した、半導体光増幅器26に対する電流密度(J/Jth)(無次元)を示している。
図9には、図5と同じ条件で描かれた4本の曲線A〜Dが描かれている。すなわち、曲線Aは図5の曲線Iと同じn及びCsであり、曲線Bは図5の曲線IIと同じn及びCsであり、曲線Cは図5の曲線IIIと同じn及びCsであり、並びに曲線Dは図5の曲線IVと同じn及びCsである。
図9及び図5を比較すると、図8ではサイドモード抑制比Rが、図5に比較して全体に10〜15dB向上していることがわかる。つまり、第2周回型光導波路42を設けることで、光共振器10に比較して光共振器40の波長選択特性が向上していることが確認できる。
(効果)
この実施の形態の光共振器40は、実施の形態1の光共振器10と同様の効果を奏するとともに、第2周回型光導波路42を備えているので、実施の形態1の光共振器10よりも、さらに優れた波長選択特性を示す。
(変形例)
この実施の形態の光共振器40は、実施の形態1の光共振器10と同様の変形が可能である。
実施の形態1の光共振器の構成を概略的に示す斜視図である。 実施の形態1のY分岐光導波路の要部拡大平面図である。 実施の形態1の第1マッハツェンダ干渉器の拡大平面図である。 (A)は、第1〜第3マッハツェンダ干渉器のそれぞれの波長選択特性を示す模式図である。(B)は、第1〜第3マッハツェンダ干渉器の合成波長選択特性を示す模式図である。(C)は、(B)に、さらに、光共振器のファブリペロ共振波長を描き加えて示す模式図である。 実施の形態1の光共振器のサイドモード抑制比Rの説明に供する図である。 実施の形態1の光共振器の変形例を示す斜視図である。 実施の形態2の光共振器の構成を概略的に示す斜視図である。 (A)は、実施の形態1の光共振器の波長選択特性を示す模式図である。(B)は、第2周回型光導波路の波長選択特性を示す模式図である。(C)は、第1〜第3マッハツェンダ干渉器と第2周回型光導波路の合成波長選択特性を示す模式図である。 実施の形態2の光共振器のサイドモード抑制比Rを示す模式図である。
符号の説明
10,40 光共振器
12 第1光導波路
12a,14a,16a 終端部
14 第2光導波路
16 第3光導波路
18,19a,19b,20a,20b,21a,21b Y分岐光導波路
19 第1マッハツェンダ干渉器
19c,19d,20c,20d,21c,21d 光路
19e,20e,21e 電極
20 第2マッハツェンダ干渉器
21 第3マッハツェンダ干渉器
22 曲がり光導波路
24 高反射膜
26 半導体光増幅器
28 基板
28a 第1主面
30 SiO
32 第1周回型光導波路
34a,34b,36a,36b,38a,38b 2×2カプラ
34c,36c,38c 排出用光導波路
42 第2周回型光導波路
44,46 方向性結合器

Claims (8)

  1. 第1、第2及び第3光導波路が交差点で接続されたY分岐光導波路を用いた光共振器であって、
    前記第1光導波路の終端部に高反射膜が設けられていて、前記第2及び第3光導波路の双方又はいずれか一方に、波長選択手段を備えており、
    前記第2光導波路及び前記第3光導波路の終端部間を光結合可能に接続する光結合導波路が設けられていることを特徴とする光共振器。
  2. 前記光結合導波路が、前記第2光導波路の終端部と、前記第3光導波路の終端部とを接続する曲がり光導波路であり、
    該曲がり光導波路と、前記第2及び第3光導波路とで第1周回型光導波路が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光共振器。
  3. 前記光結合導波路が、第2周回型光導波路であり、前記第2及び第3光導波路の終端部のそれぞれが、当該第2周回型光導波路と光結合可能に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光共振器。
  4. 前記第2周回型光導波路と前記第2及び第3光導波路の終端部との間の光の結合領域に、近接配置された前記第2周回型光導波路と前記第2及び第3光導波路とを備えた方向性結合器が設けられていることを特徴とする請求項3に記載の光共振器。
  5. 前記波長選択手段がマッハツェンダ干渉器であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光共振器。
  6. 第1〜第nマッハツェンダ干渉器(nは2以上の整数)が設けられており、
    第1マッハツェンダ干渉器を構成する2本の光路の間の光路長差をΔL1とし、該第1マッハツェンダ干渉器に設けられた電極の電極長をLe1としたときに、
    第iマッハツェンダ干渉器(iは、1≦i≦nの整数)を構成する2本の光路の間の光路長差ΔLi、及び、該第iマッハツェンダ干渉器に設けられた電極長Leiが、下記式で与えられることを特徴とする請求項5に記載の光共振器。
    ΔLi=ΔL1×2i−1
    Lei=Le1×2i−1
  7. 前記第1〜第n−1マッハツェンダ干渉器が前記第2光導波路に設けられており、及び前記第nマッハツェンダ干渉器が前記第3光導波路に設けられていることを特徴とする請求項6に記載の光共振器。
  8. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の光共振器を用いた波長可変レーザであって、
    前記第1光導波路の終端部と、前記高反射膜との間に、光増幅器が介在されていることを特徴とする波長可変レーザ。

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