以下添付図面に従って本発明の好ましい実施形態について説明する。図1は、本発明のロータリジョイントが適用された光断層画像化装置の構成を模式的に示している。
同図に示す本発明の光断層画像化装置10は、光干渉断層計測法による測定対象の光断層画像を取得するためのもので、光Laを射出する光源ユニット12と、光源ユニット12から射出された光Laを測定光L1と参照光L2に分岐し、かつ、被検体である測定対象からの戻り光L3と参照光L2を合波して干渉光L4を生成する分岐合波部14と、分岐合波部14で生成された干渉光L4を干渉信号として検出する干渉光検出部20と、この干渉光検出部20によって検出された干渉信号を処理して光断層画像(以下単に「断層画像」ともいう)を取得する処理部22と、処理部22で取得された光断層画像を表示する表示部24とを備える装置本体11と、装置本体11の分岐合波部14で分岐された測定光L1を測定対象まで導波するとともに測定対象からの戻り光L3を導波する回転側光ファイバFB1を備える光プローブ16と、測定光L1を回転側光ファイバFB1まで導波するとともに回転側光ファイバFB1によって導波された戻り光L3を導波する固定側光ファイバFB2と、回転側光ファイバFB1を固定側光ファイバFB2に対して回転自在に接続し、測定光L1および戻り光L3を伝送するロータリジョイント18と、を有する。
また、光断層画像化装置10は、装置本体11に、参照光L2の光路長を調整する光路長調整部26と、光源ユニット12から射出された光Laを分光する光ファイバカプラ28と、参照光L2を検出する検出部30aと戻り光L3を検出する検出部30bと、処理部22や表示部24等への各種条件の入力、設定の変更等を行う操作制御部32とを有する。なお、後述するが、図1に示す光断層画像化装置10においては、上述した射出光La、測定光L1、参照光L2および戻り光L3などを含む種々の光を各光デバイスなどの構成要素間で導波し、伝送するための光の経路として、回転側光ファイバFB1および固定側光ファイバFB2を含め種々の光ファイバFB(FB3、FB4、FB5、FB6など)が用いられている。ここで、分岐合波部14、干渉光検出部20、光路長調整部26、光ファイバカプラ28および検出部30a、30bは、干渉計を構成する。
図2は、ロータリジョイント18の一実施形態の概略断面図である。同図に示すロータリジョイント18は主として、固定側部材(筐体34や固定スリーブ38等)、回動側部材(回転スリーブ46等)、モータ36、シャッタ部材56で構成されている。
筐体34には、取付部材35を介して固定側光ファイバF2の端部が固定されている。この固定側光ファイバFB2は、分岐合波部14で分岐された測定光L1を回転側光ファイバFB1に伝送するとともに光ファイバFB1によって導波された戻り光L3を伝送するものである。固定側光ファイバF2の端部は、不図示の円筒状フェルールに保持された状態で連結されている。フェルールは、光ファイバFB2を保持するとともに保護する機能を持ち、通常、ジルコニアフェルールやニッケル合金などの金属を用いたメタルフェルールなどが用いられる。
固定側光ファイバF2の端部にはホルダ41を介して固定側コリメータレンズ42が保持されている。固定側コリメータレンズ42は、光ファイバFB2の先端から射出された測定光L1をコリメートして回転側コリメータレンズ50に入射させるとともに、回転側コリメータレンズ50からのコリメートされた戻り光L3を集光して光ファイバFB2に入射させるためのものである。光ファイバFB2の先端面とコリメータレンズ42との位置関係は、光ファイバFB2の端面の中心とコリメータレンズ42の中心との間の(光軸上の)距離がコリメータレンズ42の焦点距離に等しくなっている。
固定スリーブ38は筐体34内に設けられるとともに、筐体34に固定されている。この固定スリーブ38は、その中心軸が、固定側コリメータレンズ42の中心(すなわち光ファイバFB2の端面の中心)と同軸上に配置される。
固定スリーブ38の内部には、回転スリーブ46が固定スリーブ38と同軸上に配置されている。この回転スリーブ46は、ベアリング44を介して固定スリーブ38に回転自在に支持される。
回転スリーブ46の内部には、カバーレンズ37が取り付けられており、前述の固定側コリメータレンズ42が外部に曝されないようになっている。
回転スリーブ46の外周面には歯車52が取り付けられており、歯車52は、モータ36の出力軸36aに連結された歯車54に歯合されている。したがって、モータ36を駆動することによって歯車54、歯車52を介して回転スリーブ46が回転される。なお、図2にはモータ36を筐体34の外側に固定した例を記載したが、モータ36は筐体34の内部に配置してもよい。
回転スリーブ46は、回転側光ファイバFB1が着脱される着脱部46Aが設けられている。着脱部46Aは、固定側光ファイバFB2が固定された側と反対側の端部に形成されている。
回転側光ファイバFB1は、固定側光ファイバFB2から伝送された測定光L1を測定対象まで導波するとともに測定対象からの戻り光L3を導波して固定側光ファイバFB2に伝送するためのものである。
回転側光ファイバFB1の端部は、円筒状フェルール(不図示)に保持されており、さらにその外側に連結部材53が取り付けられている。フェルールは、光ファイバFB1を保持するとともに保護する機能を持ち、通常、ジルコニアフェルールやニッケル合金などの金属を用いたメタルフェルールなどを用いることができる。連結部材53は、回転スリーブ46の着脱部46Aに着脱自在に連結できるように構成されている。たとえば、回転スリーブ46の内周面に雌ねじ46Bを形成するとともに、この雌ねじ46Bに螺合するように連結部材53の外周面に雄ねじ53Bを形成する。これにより、連結部材53を回転スリーブ46に回転させることによって、連結部材53を回転スリーブ46に取り付けることができる。なお、連結部材53(回転側光ファイバFB1)と回転スリーブ46との接続機構はこれに限定するものではなく、様々な態様が可能である。
回転側光ファイバFB2の端部には、回転側コリメータレンズ50がホルダ51を介して取り付けられている。回転側コリメータレンズ50は、コリメータレンズ42からのコリメートされた測定光L1を集光して光ファイバFB1に入射させるとともに、光ファイバFB1の先端から射出された戻り光L3をコリメートして固定側コリメータレンズ42に入射させるためのものである。光ファイバFB1の先端面とコリメータレンズ50との位置関係は、光ファイバFB1の端面の中心とコリメータレンズ50の中心との間の(光軸上の)距離がコリメータレンズ50の焦点距離に等しくなっている。
連結部材53の内部には、カバーガラス39が設けられており、コリメータレンズ50が外部に曝されないようになっている。
ところで、本発明のロータリジョイント18には、シャッタ部材56が設けられている。図3(a)、図3(b)は、シャッタ部材56の構成を示す正面図であり、図3(a)はシャッタ57を閉じた状態を示し、図3(b)はシャッタ57を開いた状態を示している。
これらの図に示すシャッタ部材56は、虹彩絞り機構を用いたものであり、複数枚のシャッタ57を備えている。シャッタ57は、ドク58の回動操作に連動するようになっており、ドク58の位置に応じて開口したり、あるいはその開口を小さくして完全に閉塞したりするようになっている。たとえば、ドク58が図3(a)の位置に配置された場合は、シャッタ57が閉じて完全に閉塞するように構成される。また、ドク58が図3(b)の位置に配置された場合は、シャッタ47が開いて光路が確保されるようになっている。なお、ドク58は、連結部材53のシャフト59に係合する係合部として作用するようになっている。
図4は、連結部材53の端面を示す正面図である。同図に示すように、連結部材53には、二本のシャフト59が突設されている。シャフト59、59の間隔は、ドク58の直径よりも大きくなっており、シャフト59、59の間にドク58を配置できるようになっている。したがって、図3(a)または図3(b)に二点鎖線でシャフト59を示すように、ドク58の両側にシャフト59を配置することができる。これにより、ドク58がシャフト59に係合するので、回転側光ファイバFB1の端部(すなわち連結部材53)を回転スリーブ46に対して回転させた際に、ドク58が回転操作され、シャッタ57を開閉することができる。
シャッタ部材56は、連結部材53を回転スリーブ46に取り付けた際にシャッタ57を開き、連結部材53を回転スリーブ46から取り外した際にシャッタ57を閉じるようになっている。
なお、本実施の形態では、虹彩絞り機構を利用したシャッタ部材56を用いたが、光路上の開口を開閉する構成であればよい。
次に、本発明のロータリジョイント18が適用される図1の光断層画像化装置10を構成する各構成要素について説明する。
図1に示すように、光源ユニット12は、半導体光増幅器60と、光分岐器62と、コリメータレンズ64と、回折格子素子66と、光学系67と、回転多面鏡68とを有し、周波数を一定の周期で掃引させたレーザ光Laを射出する。
半導体光増幅器(半導体利得媒質)60は、駆動電流が印加されることで、微弱な放出光を射出し、また、入射された光を増幅する。この半導体光増幅器60には、光ファイバFB10が接続されている。具体的には、光ファイバFB10の一端は、半導体光増幅器60から光が射出される部分に接続され、光ファイバFB10の他端は、半導体光増幅器60に光を入射する部分に接続される。したがって、半導体光増幅器60から射出された光は、光ファイバFB10に射出され、再び半導体光増幅器60に入射する。
このように、半導体光増幅器60および光ファイバFB10で光路のループを形成することで、半導体光増幅器60および光ファイバFB10が光共振器となり、半導体光増幅器60に駆動電流が印加されることで、パルス状のレーザ光が生成される。
光ファイバFB10の光路上には光分岐器62が設けられる。光分岐器62には光ファイバFB11が接続されており、光ファイバFB10内を導波する光の一部が光ファイバFB11に分岐される。
コリメータレンズ64は、光ファイバFB11の他端、つまり光ファイバFB10と接続していない端部に配置され、光ファイバFB11から射出された光を平行光にする。
回折格子素子66は、コリメータレンズ64で生成された平行光の光路上に所定角度傾斜して配置されている。コリメータレンズ64から射出される平行光は、回折格子素子66によって分光される。分光された光の光路上には光学系67が配置される。光学系67は、複数のレンズで構成されており、回折格子素子66で分光された光を屈折させ、屈折させた光を平行光にする。
この平行光の光路上には回転多面鏡68が配設され、この回転多面鏡68によって平行光が反射される。回転多面鏡68は、図1中Rl方向に等速で回転する正八角形の回転体であり、その中心が回転軸になっている。したがって、回転多面鏡68が回転することによって、各反射面の角度を光学系67の光軸に対して変化させることができる。回転多面鏡68で反射された光は、光学系67、回折格子素子66、コリメータレンズ64を通り、光ファイバFB11に入射する。
ここで、上述したように、回転多面鏡68の反射両の角度が光学系67の光軸に対して変化するため、回転多面鏡68が光を反射する角度は時間により変化する。このため、回折格子素子66により分光された光のうち、特定の周波数域の光だけが再び光ファイバFB11に入射する。ここで、光ファイバFB11に入射する特定の周波数域の光は、光学系67の光軸と回転多面鏡68の反射面との角度により決まるため、光ファイバFB11に入射する光の周波数域は、光学系67の光軸と回転多面鏡68の反射面との角度により変化する。
光ファイバFB11に入射した特定の周波数域の光は、光分岐器62から光ファイバFB10に入射され、光ファイバFB10の光と合波される。これにより、光ファイバFB10に導光されるパルス状のレーザ光は、特定の周波数域のレーザ光となり、この特定周波数域のレーザ光Laが光ファイバFB3に射出される。ここで、回転多面鏡68が矢印Rl方向に等速で回転しているため、再び光ファイバFB11に入射される光の波長λは、時間の経過に伴って一定の周期で変化する。これにより、光ファイバFB3に射出されるレーザ光Laの周波数も、時間の経過に伴った一定の周期で変化する。光源ユニット12は、このような構成であり、波長掃引されたレーザ光Laを光ファイバFB3側に出射する。
次に、分岐合波部14は、例えば2×2の光ファイバカプラで構成されており、光ファイバFB2、光ファイバFB3、光ファイバFB4、光ファイバFB5とそれぞれ光学的に接続されている。分岐合波部14は、光源ユニット12から光ファイバFB3を介して入射した光Laを測定光L1と参照光L2とに分割し、測定光L1を光ファイバFB2に入射させ、参照光L2を光ファイバFB5に入射させる。さらに、分岐合波部14は、光ファイバFB5に入射され、後述の光路長調整部26により周波数シフトおよび光路長の変更が施された後に光ファイバFB5を戻り、分岐合波部14に入射した参照光L2と、後述の光プローブ16で取得され、光ファイバFB2から分岐合波部14に入射した測定対象Sからの戻り光L3とを合波し、光ファイバFB4に射出する。
光プローブ16は、ロータリジョイント18を介して、光ファイバFB2と接続されており、光ファイバFB2から、ロータリジョイント18を介して、光ファイバFB1に測定光L1が入射され、入射された測定光L1を光ファイバFB1によって伝送して測定対象Sに照射し、測定対象Sからの戻り光L3を取得し、取得した戻り光L3を光ファイバFB1によって伝送して、ロータリジョイント18を介して、光ファイバFB2に出射するものである。
図5に示すように、光プローブ16は、プローブ外筒70と、キャップ72と、光ファイバFB1と、バネ74と、固定部材76と、光学レンズ78とを備える。
プローブ外筒(シース)70は、可撓性を有する筒状の部材であり、測定光L1および戻り光L3が透過する材料からなっている。なお、プローブ外筒70は、測定光L1および戻り光L3が通過する先端(ロータリジョイント18と反対側の光ファイバFB1の先端、以下、プローブ外筒70の先端という)側の一部が全周にわたって光を透過する材料(透明な材料)で形成されていればよい。キャップ72は、プローブ外筒70の先端に設けられ、プローブ外筒70の先端を閉塞している。
光ファイバFB1は線状部材であり、プローブ外筒70内にプローブ外筒70に沿って収容されており、光ファイバFB2からロータリジョイント18を介して出射された測定光L1を光学レンズ78まで導波するとともに、測定光L1を測定対象Sに照射して光学レンズ78で取得した測定対象Sからの戻り光L3をロータリジョイント18まで導波し、光ファイバFB2に入射する。ここで、光ファイバFB1と光ファイバFB2とは、ロータリジョイント18によって接続されており、光ファイバFB1の回転が光ファイバFB2に伝達しない状態で、光学的に接続されている。また、光ファイバFB1は、プローブ外筒70に対して回転自在な状態で配置されている。
バネ74は、光ファイバFB1の外周に固定されている。また、光ファイバFB1およびバネ74は、ロータリジョイント18に接続されている。
光学レンズ78は、光ファイバFB1の測定側先端(ロータリジョイント18と反対側の光ファイバFB1の先端)に配置されており、先端部が、光ファイバFB1から射出された測定光L1を測定対象Sに対し集光するために略球状の形状で形成されている。
光学レンズ78は、光ファイバFB1から出射した測定光L1を測定対象Sに対し照射し、測定対象Sからの戻り光L3を集光し、光ファイバFB1に入射する。
固定部材76は、光ファイバFB1と光学レンズ78との接続部の外周に配置されており、光学レンズ78を光ファイバFB1の端部に固定する。ここで、固定部材76による光ファイバFB1と光学レンズ78の固定方法は、特に限定されず、接着剤により、固定部材76と光ファイバFB1および光学レンズ78を接着させて固定させても、ボルト等を用い機械的構造で固定してもよい。なお、固定部材76は、ジルコニアフェルールやメタルフェルールなど光ファイバの固定や保持や保護のために用いられるものであれば、如何なるものを用いても良い。
また、上述したように、光ファイバFB1およびバネ74は、ロータリジョイント18の回転スリーブ46に接続されており、回転スリーブ46によって光ファイバFB1およびバネ74を回転させることで、光学レンズ78をプローブ外筒71に対し、矢印R2方向に回転させる。また、ロータリジョイント18は、回転エンコーダ(不図示)を備え、回転エンコーダからの信号に基づいて光学レンズ78の位置情報(角度情報)から測定光L1の照射位置を検出する。つまり、回転している光学レンズ78の回転方向における基準位置に対する角度を検出して、測定位置を検出する。
光プローブ16は、以上のような構成であり、ロータリジョイント18により光ファイバFB1およびバネ74が、図5中矢印R2方向に回転されることで、光学レンズ78から射出される測定光L1を測定対象Sに対し、矢印R2方向(プローブ外筒70の円周方向)に対し走査しながら照射し、戻り光L3を取得する。これにより、プローブ外筒70の円周方向の全周において、測定対象Sを反射した戻り光L3を取得することができる。
図1の光路長調整部26は、光ファイバFB5の参照光L2の出射側(すなわち、光ファイバFB5の分岐合波部14とは反対側の端部)に配置されている。光路長調整部26は、光ファイバFB5から射出された光を平行光にする第1光学レンズ80と、第1光学レンズ80で平行光にされた光を集光する第2光学レンズ82と、第2光学レンズ82で集光された光を反射する反射ミラー84と、第2光学レンズ82および反射ミラー84を支持する基台86と、基台86を光軸方向に平行な方向に移動させるミラー移動機構88とを有し、第1光学レンズ80と第2光学レンズ82との距離を変化させることで参照光L2の光路長を調整する。
第1光学レンズ80は、光ファイバFB5のコアから射出された参照光L2を平行光にするとともに、反射ミラー84で反射された参照光L2を光ファイバFB5のコアに集光する。また、第2光学レンズ82は、第1光学レンズ80により平行光にされた参照光L2を反射ミラー84上に集光するとともに、反射ミラー84により反射された参照光L2を平行光にする。このように、第1光学レンズ80と第2光学レンズ82とにより共焦点光学系が形成されている。
さらに、反射ミラー84は、第2光学レンズ82で集光される光の焦点に配置されており、第2光学レンズ82で集光された参照光L2を反射する。これにより、光ファイバFB5から射出した参照光L2は、第1光学レンズ80により平行光になり、第2光学レンズ82により反射ミラー84上に集光される。その後、反射ミラー84により反射された参照光L2は、第2光学レンズ82により平行光になり、第1光学レンズ80により光ファイバFP5のコアに集光される。
また、基台86は、第2光学レンズ82と反射ミラー84とを固定し、ミラー移動機構88は、基台86を第1光学レンズ80の光軸方向(図1矢印A方向)に移動させる。ミラー移動機構88で、基台86を矢印A方向に移動させることで、第1光学レンズ80と第2光学レンズ82との距離を変更することができ、参照光L2の光路長を調整することができる。
干渉光検出部20は、光ファイバFB4と接続されており、分岐合波部14で参照光L2と戻り光L3とを合波して生成された干渉光L4を干渉信号として検出する。ここで、光断層画像化装置10は、光ファイバFB3から光ファイバFB6にレーザ光Laを分岐する光ファイバカプラ28と、光ファイバカプラ28から分岐させた光ファイバFB6に設けられ、分岐されたレーザ光Laの光強度を検出する検出部30aと、光ファイバFB4の光路上に干渉光L4の光強度を検出する検出部30bとを有する。干渉光検出部20は、検出部30aおよび検出部30bの検出結果に基づいて、光ファイバFB4から検出する干渉光L4の光強度のバランスを調整する。
処理部22は、干渉光検出部20で検出した干渉信号から、測定位置における光プローブ16と測定対象Sとの接触している領域、より正確には、光プローブ16のプローブ外筒70の表面と測定対象Sの表面とが接触しているとみなせる領域を検出し、さらに、干渉光検出部20で検出した干渉信号から、断層画像を取得する。
図6に示すように、処理部22は、干渉信号取得部90と、A/D変換部92と、接触領域検出部94と、断層情報生成部96と、画質補正部98とを有する。
干渉信号取得部90は、干渉光検出部20で検出された干渉信号を取得し、さらに、ロータリジョイント18で検出された測定位置の情報、具体的には、回転方向における光学レンズ78の位置情報から検出された測定位置の位置情報を取得し、干渉信号と測定位置の位置情報を対応付ける。対応付けられた干渉信号は、A/D変換部92に送られる。A/D変換部92は、アナログ信号として出力されている干渉信号をデジタル信号に変換する。デジタル変換された干渉信号は、接触領域検出部94および断層情報生成部96に送られる。
接触領域検出部94は、デジタル信号に変換された干渉信号をFFT(高速フーリエ変換)にかけ干渉信号の周波数成分と強度との関係を取得し、検出した周波数成分と強度との関係の周波数成分と、深さ方向(回転中心から離れる方向)とを対応付けることで、深さ方向と強度との関係の情報を取得する。接触領域検出部94は、深さ方向と強度との関係の情報から、測定光L1が透過する位置におけるプローブ外筒70の表面の位置および測定光L1が透過する位置におけるプローブ外筒70と測定対象Sとの接触領域を検出する。
このようにして接触領域検出部94によって検出されたプローブ外筒70と測定対象Sとの接触領域は、断層情報生成部96に送られる。断層情報生成部96は、周波数成分と強度との関係の情報を処理することで深さ方向の断層画像を取得する。ここで、断層情報生成部96は、接触領域検出部94から送られた接触領域情報から、接触領域と判断された位置情報の干渉信号のみの断層画像を取得し、接触領域以外の位置情報の干渉信号は断層画像の取得を行わず、つまりFFTやFFTをかけた結果からの画像取得処理を行わず、マスク処理をする。
次に、断層情報生成部96における画像の生成について簡単に説明する。測定光L1が測定対象Sに照射されたとき、測定対象Sの各深さからの戻り光L3と参照光L2とがいろいろな光路長差をもって干渉し合う際の各光路長差1に対する干渉縞の光強度をS(l)とすると、干渉光検出部20において検出される干渉信号の光強度I(k)は
で表される。ここでkは波数、lは光路長差である。上式は波数k=ω/cを変数とする光周波数領域のインターフェログラムとして与えられていると考えることができる。このため、断層情報生成部96において、干渉光検出部20で検出したスペクトル干渉縞に高速フーリエ変換を施し、干渉光L4の光強度S(1)を決定することにより、測定対象Sの測定開始位置からの距離情報と反射強度情報とを取得し、断層画像を生成することができる。
画質補正部98は、断層情報生成部96により生成された断層画像に対し、対数変換、ラジアル変換を施し、光学レンズ78の回転中心を中心とした円形の画像とする。さらに、画質補正部98は、断層画像に対し、鮮鋭化処理、平滑化処理等を施すことにより画質を補正する。画質補正部98は、画質補正が施された断層画像を表示部24に送信する。ここで、断層画像の送信タイミングは特に限定されず、1ラインの処理が終わる毎に表示部24に送信し、1ライン毎に書き換えて表示させてもよく、全ラインの処理(つまり、光学レンズを1周させて取得した画像の処置)が終了し1枚の円形の断層画像を形成した段階で送信してもよい。
図1の表示部24は、CRTや液晶表示装置等であり、画質補正部98から送信された断層画像を表示する。操作制御部32は、キーボード、マウス等の入力手段と、入力された情報に基づいて各種条件を管理する制御手段とを有し、処理部22および表示部24に接続されている。操作制御部32は、入力手段からの入力されたオペレータの指示に基づいて、処理部22の上述した閥値や各種処理条件等の入力、設定、変更や、表示部24の表示設定の変更等を行う。なお、操作制御部32は、操作画面を表示部24に表示させてもよいし、別途表示部を設けて、操作画面を表示させてもよい。また、操作制御部32で、光源ユニット12、ロータリジョイント18、干渉光検出部20、光路長調整部26ならびに検出部30aおよび30bの動作制御や、各種条件の設定を行うようにしてもよい。
次に、上記の如く構成された光断層画像化装置10において、測定対象Sを測定した干渉光および干渉信号の取得方法について説明する。
まず、ミラー移動機構88で基台86を矢印A方向に移動させることにより、測定可能領域内に測定対象Sが位置するように光路長を調整し、設定する。その後、光源ユニット12からレーザ光Laを射出する。射出されたレーザ光Laは、分岐合波部14により測定光L1と参照光L2とに分割される。この測定光L1は、光ファイバFB2、本発明のロータリジョイント18および光プローブ16(光ファイバFB1)を導波されて、測定対象Sに照射される。
この時、本発明のロータリジョイント18によって、光プローブ16内の光ファイバFB1および光学レンズ78は回転される。すなわち、ロータリジョイント18のモータ36が駆動され、回転軸36aが回転し、その先端に取り付けられた歯車54が回転し、歯車54と螺合する歯車52が回転する。歯車52の回転により、回転スリーブ46の回転を介して、光ファイバFB1が回転する。これにより、光プローブ16内の光ファイバFB1も回転し、その先端に取り付けられた光学レンズ78も回転する。
一方、固定スリーブ38に保持された光ファイバFB2によって光伝送され、光ファイバFB2の端面から射出された測定光L1は、固定スリーブ38に保持されたコリメータレンズ42に入射し、コリメートされる。そして、回転スリーブ46とともに回転する連結部材53に保持されたコリメータレンズ50に入射し、集光された後、光ファイバFB1に入射し、光プローブ16内の光ファイバFB1内に光伝送されて、光学レンズ78内に入射し、光学レンズ78からプローブ外筒70を透過して、測定対象Sに照射される。
この時、ロータリジョイント18によって光プローブ16内の光ファイバFB1および光学レンズ78が回転されるので、体腔などの測定対象Sを全周に亘って測定光L1が照射されることになる。この時、ロータリジョイント18では、ロータリエンコーダ(図示せず)などにより測定対称Sの測定位置の情報を検出する。そして、測定対象Sの各深さ位置で反射された光が、戻り光L3として光プローブ16に入射する。この時にも、ロータリジョイント18によって光プローブ16内の光ファイバFB1および光学レンズ78は回転されているので、測定対象Sの全周からの戻り光L3が、回転中の光学レンズ78に入射することになる。この戻り光L3は、光プローブ16(光ファイバFB1)、ロータリジョイント18および光ファイバFB2を介して分岐合波部14に入射される。
その際、光ファイバFB1の端面から射出された戻り光L3は、回転中の回転スリーブ46に保持されたコリメータレンズ50に入射し、コリメートされた後、静止している固定スリーブ38に保持されたコリメータレンズ42に入射し、集光される。そして、光ファイバFB2の端面に入射し、光ファイバFB2により光伝送されて、分岐合波部14に入射される。
一方、参照光L2は、光ファイバFB5を介して光路長調整部26に入射される。そして、光路長調整部26により光路長が調整された参照光L2が、再び光ファイバFB5を導波し分岐合波部14に入射される。そして、分岐合波部14で測定対象Sからの戻り光L3を光路長調整手段40により光路長が調整された参照光L2と合波する。これにより、戻り光L3と参照光L2との干渉光L4が生成される。生成された干渉光は、干渉光検出部20によって干渉信号として検出される。
干渉光検出部20で検出された干渉信号は、処理部22に送られる。処理部22では、干渉信号取得部90が干渉信号を取得するとともに、ロータリジョイント18で検出された測定位置の情報を取得し、干渉信号と測定位置の位置情報を対応付ける。対応付けられた干渉信号はA/D変換部92でデジタル信号に変換され、接触領域検出部94および断層情報精生成部96に送られる。接触領域検出部94では、プローブ外筒70と測定対象Sとの接触領域が検出され、検出されたプローブ外筒70と測定対象Sとの接触領域の情報は、断層情報生成部96に送られる。断層情報生成部96では、デジタル信号に変換された干渉信号をFFTにかけて取得した周波数成分と強度との関係の情報を、接触領域検出部94から送られた接触領域情報から、接触領域と判断された位置情報の干渉信号のみについて処理することにより、接触領域についての深さ方向の断層画像を取得する。断層情報生成部96で取得された断層画像は、画質補正部98に送られる。画質補正部98では、断層情報生成部96で生成された断層画像に対し、対数変換やラジアル変換が施され、光学レンズ78の回転中心を中心とした円形の断層画像とされるとともに、鮮鋭化処理や平滑化処理等が施され、画質が補正される。画質補正部98で画質補正が施された断層画像は、表示部24に送信される。表示部24では、画質補正部98から送信された画質補正後の断層画像が表示される。
次に本発明のロータリジョイント18の作用について説明する。
ロータリジョイント18には、シャッタ部材56が設けられており、光プローブ16(すなわち回転側光ファイバFB1)を取り外した際にシャッタ部材56のシャッタ57が連動し、図3(a)に示すように開口を完全に閉塞するようになっている。したがって、測定光L1が漏れることを防止することができ、安全性を高めることができる。また、開口が完全に閉塞されているので、光路内に塵埃が入り込むことを防止することができる。したがって、光路内に塵埃が入り込んだ時のように、光伝達機能が低下したり、反射損失が増大したりし、光断層画像の劣化を生じることを防止することができる。
また、プローブ16をロータリジョイント18に連結した際、シャッタ部材56のシャッタ57が連動し、図3(b)に示すように開口が形成される。これにより、光路を確保することができるので、測定光L1や戻り光L3を確実に伝達することができる。
このように本実施の形態によれば、光路上にシャッタ部材56が設けられ、回転側光ファイバFB1の端部を取り外した際にシャッタ部材56によって光路を遮断することができるので、光が外部に漏れることを防止できるとともに、塵埃が光路内に入り込むことを防止できる。
なお、上述した実施形態では、シャッタ部材56のドク58を連結部材53のシャフト59に係合させるようにしたが、係合する構成や機構はこれに限定するものではない。
また、シャッタ部材56のシャッタ57を閉じる方向に付勢するようにしてもよい。たとえば、図4に示す連結部材53において、シャフト59を一本にするとともに、図3のシャッタ部材56の内部にスプリングバネ(不図示)を設けてシャッタ57が閉じる方向に付勢させる。これにより、連結部材53(回転側光ファイバFB1)をロータリジョイント18から取り外した際に、シャッタ57が自動的に閉じられる。
また、上述した実施形態は、虹彩絞り機構を利用したシャッタ部材56を用いたが、光路上の開口を開閉する構成であればよく、たとえば、ギロチン式のシャッタ機構を用いてもよい。
また、図7(a)に示すように、回転スリーブ46内に遮光板61を揺動自在に設けることによってシャッタ部材としてもよい。この場合、遮光板61は、連結部材53(回転側ファイバFB1)を連結する側の反対側に揺動するようにするとよい。これにより、連結部材53を押し込むことによって自動的に遮光板61を光路上から退避させることができる。また、遮光板61は、自重またはスプリング等の付勢手段によって元の閉止位置に戻るようにするとよい。これにより、連結部材53を取り外すことによって自動的に遮光板61を光路上に配置し、閉塞することができる。
また、シャッタ部材は、図7(b)に示すように、遮光板61をスライドさせる構造であってもよい。
なお、上述した図1に示す光断層画像化装置10では、一体化された分岐合波部14によって、光源ユニット12から射出された光Laを測定光L1と参照光L2に分岐し、かつ、被検体である測定対象からの戻り光L3と参照光L2を合波して干渉光L4を生成しているが、本発明はこれに限定されず、分岐部と合波部と別々に設け、分岐部で射出光Laから測定光L1と参照光L2とへの分岐を行い、測定対象からの戻り光L3と参照光L2との合波および干渉光L4の生成を行うようにしても良い。
図8は、他の実施形態の光断層画像化装置の概略断面図である。なお、同図に示す光断層画像化装置10aは、図1に示す光断層画像化装置10と同様に、本発明に係るロータリジョイント18を適用することができる。
図8に示す光断層画像化装置10aは、図1に示す光断層画像化装置10と比較して、図1の装置本体11内に分岐合波部14および光ファイバカプラ28が設けられているのに対して、図8の装置本体11a内には分岐部14a、合波部14b、光サーキュレータ25a,25bおよび偏波コントローラ27a,27bが設けられている点で相違している。なお、同様の構成を有するものは、同一の番号を付して、その説明を省略する。
同図に示す光断層画像化装置10aは、光源ユニット12と、光源ユニット12から射出された光Laを測定光L1と参照光L2に分岐する分岐部14aと、被検体である測定対象からの戻り光L3と参照光L2aを合波して干渉光L4a,L4bを生成する合波部14bと、合波部14bで生成された干渉光L4a,L4bに基づいて干渉信号を検出する干渉光検出部20と、干渉信号を処理して光断層画像を取得する処理部22と、光断層画像を表示する表示部24とを備える装置本体11aと、装置本体11aの分岐部14aで分岐された測定光L1を測定対象まで導波するとともに測定対象からの戻り光L3を導波する回転側光ファイバFR1を備える光プローブ16と、測定光L1を回転側光ファイバFB1まで導波するとともに回転側光ファイバFB1によって導波された戻り光L3を導波する固定側光ファイバFB2と、回転側光ファイバFB1を固定側光ファイバFB2に対して回転自在に接続し、測定光L1および戻り光L3を伝送するロータリジョイント18とを有する。
また、光断層画像化装置10aは、装置本体11aに、さらに、参照光L2の光路長を調整する光路長調整部26と、参照光L2の偏波方向を回転させる偏波コントローラ27a、戻り光L3の偏波方向を回転させる偏波コントローラ27bと、分岐部14aから導波される参照光L2を光路長調整部26に導波すると共に、光路長調整部26から導披きれる光路長調整済参照光L2aを偏波コントローラ27aに導波するサーキュレータ25aと、分岐部14aから導波される測定光L1をロータリジョイント18に導波すると共に、ロータリジョイント18から導波される戻り光L3を偏波コントローラ27bに導波するサーキュレータ25bと、合波部14bで生成された第1干渉光L4aを検出する第1検出部30aと合波部14bで生成された第2干渉光L4bを検出する第2検出部30bと、処理部22や表示部24等への各種条件の入力、設定の変更等を行う操作制御部32とを有する。
ここで、分岐部14a、合波部14b、干渉光検出部20、サーキュレータ25a、25b、光路長調整部26、偏波コントローラ27a、27b、および検出部30a、30b、ならびに上述した光ファイバFB(FB1〜FB8)などは、干渉計を構成する。
分岐部14aは、例えば、2×2の光ファイバカプラで構成されており、それぞれ、光ファイバFB3、FB2aおよびFB5aと光学的に接続されている。
分岐部14aは、光源ユニット12から光ファイバFB3を介して入射した光Laを測定光L1と参照光L2とに分割し、測定光L1を光ファイバFB2aを介して光サーキュレータ25bに入射させ、参照光L2を光ファイバFB5aを介して光サーキュレータ25aに入射させる。
合波部14bは、例えば2×2の光ファイバカプラで構成されており、それぞれ、光ファイバFB4a、FB4b、FB7およびFB8と光学的に接続されている。合波部14bは、偏波コントローラ27aから光ファイバFB7を介して入射された参照光L2aと偏波コントローラ27bから光ファイバFB8を介して入射された戻り光L3を合波して第1干渉光L4aおよび第2干渉光L4bを生成し、第1干渉光L4aを光ファイバFB4aを介して第1検出部30aに入射させ、第2干渉光L4bを光ファイバFB4bを介して第2検出部30bに入射させる。
光サーキュレータ25aは、光ファイバFB5、FB5aおよびFB7と接続されており、所定の光ファイバから導波された光を所定の光ファイバに伝送する。具体的には、光サーキュレータ25aは、分岐部14aから光ファイバFB5aを介して導波される参照光L2を光ファイバFB5に伝送し、光路長調整部26に導波すると共に、光路長調整部26で光路長が調整されて反射され、光ファイバFB5を介して導波される参照光L2aを光ファイバFB7に伝送し、偏波コントローラ27aに導波する。
光サーキュレータ25bは、光ファイバFB2、FB2aおよびFB8と接続されており、所定の光ファイバから導波された光を所定の光ファイバに伝送する。具体的には、光サーキュレータ25bは、分岐部14aから光ファイバFB2aを介して導波される測定光L1を光ファイバFB2に伝送してロータリジョイント18に導波すると共に、ロータリジョイント18から光ファイバFB2を介して導波される戻り光L3を光ファイバ8に伝送して偏波コントローラ27bに導波する。
偏波コントローラ27aは、光ファイバFB7に光学的に接続され、参照光L2aの偏波方向を回転させる。また、偏波コントローラ27bは、光ファイバFB8に光学的に接続され、戻り光L3の偏波方向を回転させる。ここで、偏波コントローラ27aおよび27bとしては、たとえば特開2001−264246号公報等の公知の技術を用いることができる。
偏波コントローラ27aおよび27bによって、合波部14bで合波する前に、戻り光L3と参照光L2aのそれぞれの偏波方向を調整することにより、合波部14bにおいては、偏波方向が一致するように調整された戻り光L3と参照光L2aとを合波することができるので、断層画像をより鮮明にすることができる。ここで、偏波コントローラ27aおよび27bは、操作部により医師等が操作できるようにすることが好ましい。
干渉光検出部20は、光ファイバFB4aおよびFB4bを介してそれぞれ検出部30aおよび30bと接続されており、第1検出部30aを通過した第1干渉光L4aと第2検出部30bを通過した第2干渉光L4bとの差分から干渉信号を検出(もしくは生成)する。具体的には、干渉光検出部20は、干渉光を光電変換して検出するフォトダイオード等の検出部と検出部で検出した値から差分を検出する差分アンプとからなっており、検出部で第1干渉光L4a、第2干渉光L4bを光電変換し、検出した値を差分アンプ73に入力し、差分アンプ73で差分を増幅することで干渉信号を生成する。
このように、第1干渉光L4aと第2干渉光L4bの2つの干渉光をバランス検波することにより、干渉信号を増幅して出力しながら干渉信号以外の同相光雑音が除去することができ、断層画像の画質の向上を図ることができる。
また、干渉光検出部20は、検出器30aおよび検出部30bの検出結果に基づいて、検出する第1干渉光L4aおよび第2干渉光L4bの光強度のバランスを調整する。このように、検出部30aおよび検出部30bの検出結果に基づいて、第1干渉光L4aと第2干渉光L4bとの光強度のバランスを調整、具体的には、強度を50:50とすることで、ホワイトノイズ成分を少なくし、S/N比を高くすることができる。
以上に説明したように、図8に示す光断層画像化装置10aも、図1に示す光断層画像化装置10と同様に、効率よく分解能の高い、測定対象の光断層画像を取得することができる。
また、上述した光断層画像化装置10および10aは、SS-OCT(swept source-OCT)計測法により、測定対象との接触領域を検出し、測定対象の断層画像を取得しているが、本発明はこれに限定されず、他のOCT計測法を適用するものであっても良い。適用可能な他のOCT計測法として、例えば、SD-OCT(spectral domain-OCT)計測法、TD-OCT(time domain-OCT)計測法などをあげることができる。
以上、本発明に係るロータリジョイントおよびこれを用いる光断層画像化装置について種々の実施形態を揚げて詳細に説明したが、本発明は、以上の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよい。
例えば、上述した実施形態では、ロータリジョイント18の固定スリーブ38や回転スリーブ46を一体として構成しているが、回転側光ファイバFB1と回転側コリメータレンズ50とからなる回転側光伝送系を一体とし、固定側光ファイバFB2と固定側コリメータレンズ42とからなる固定側光伝送系を一体として構成し、回転側光伝送系を固定側光伝送系に対して回転自在に支持してもよい。
10,10a…光断層画像化装置、11,11a…装置本体、12…光源ユニット、14…分岐合波部、14a…分岐部、14b…合成部、16…光プローブ、18,18a…ロータリジョイント、20…干渉光検出部、22…処理部、24…表示部、25a,25b…光サーキュレータ、26…光路長調整部、27a,27b…偏波コントローラ、28…光ファイバカプラ、30a,30b…検出部、32…操作部、34…筐体、36…モータ、38…固定スリーブ、42,50…コリメータレンズ、44…軸受け、46…回転スリーブ、52,54…歯車(ギア)、56…シャッタ部材、57…シャッタ、58…ドク、59…シャフト、60…半導体光増幅器、62…光分岐器、64…コリメータレンズ、66…回折格子素子、67…光学系、68…回転多面鏡(ポリゴンミラー)、70…プローブ外筒、72…キャップ、74…バネ、76…固定部材、78…光学レンズ、80…第1光学レンズ、82…第2光学レンズ、84…反射ミラー、86…基台、88…ミラー移動機構、90…干渉信号取得部、92…A/D変換部、94…接触状態検出部、96…断層情報生成部、FB1,FB2,FB3,FB4,FB5,FB6…光ファイバ