JP2010066779A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光入出射面2、3が斜面形状に形成されたコア4と、クラッド5とからなる光導波路1を製造するに際し、コア4の成形に用いる感光材の露光に用いられるマスク13において、コア4に対応する矩形パターン開口12を複数隣接して配列し、感光材に対してマスク13の露光位置をコア4の長さ方向に移動しながら露光を複数回積算して光入出射面の斜面形状に対応した露光パターンとし、この多重露光された感光材の現像で得られた感光材マスクを用いてその下部の型材をエッチングして成形型を作製し、この成形型を用いてコアを成形する、光導波路の製造方法。
【選択図】 図5
Description
また、前記グレートーンマスクにおいて、前記配列方向における前記主パターン開口間に、前記ダミーパターン開口を形成し、これによって配列方向における前記主パターン開口及び前記ダミーパターン開口を含む各パターン開口間の間隔を均一化しているので、前記コアを狭ピッチに集積しても、精度の良い高集積な光導波路をリソグラフィ技術で製造することができる。
上述したように、前記コアの前記光入出射面を斜面形状に形成するためにダイシングブレードを用いた場合、切断の工程が増え、また切断時の公差も懸念される。また、メッキによって形成する場合は、精度良く所望の形状を形成するのが難しく、更に形状を自由に変更することができない。
従来例による製造方法では、図11(a)に示すように、前記コアに対応するパターン開口57において、光入出射面51、52が直線的に配置されかつ高集積化されている場合においても、図11(b)に示すように、A断面における深さD1とD2が揃わない場合がある。
本実施の形態では、図3(a)に示すように、第1の実施の形態及び第2の実施の形態を組み合わせた構造となっている。即ち、前記コアが複数隣接して配列され、かつその配列方向において、前記コアの光入出射面が千鳥配置となるよう、主パターン開口7が形成されたグレートーンマスク6において、この配列方向における主パターン開口7間に、ダミーパターン開口8が形成され、前記配列方向における主パターン開口7及びダミーパターン開口8を含む各パターン開口間の間隔が均一化されていると共に、最外周に配された主パターン開口7の更に外周にもダミーパターン開口8が形成されている。このとき、ダミーパターン開口8は、両端部が矩形となる設計である以外は、前記コアと同様の形状が成形できるパターンである。即ち、ダミーパターン開口8の透過率は、主パターン開口7の端部ミラー面以外の箇所と同じ透過率である。
図5及び図6は、本発明の第2の製造方法について説明する模式図である。
6…露光マスク(グレートーンマスク)、7…主パターン開口、
8…ダミーパターン開口、9…感光材、10…成形型、11…ダミーコア、
12…パターン開口、13…マスク
Claims (5)
- 光入出射面が長手方向の端面に斜面形状に形成されたコアと、クラッドとからなる光導波路を製造するに際し、前記コアの成形に用いる型材上の感光材の露光にマスクを用い、このマスクにおいて前記コアに対応する矩形パターン開口を長さ方向と直交する方向に複数隣接して配列し、前記感光材に対して前記マスクの露光位置を、前記コアの長さ方向に移動しながら露光を複数回積算して前記光入出射面の斜面形状に対応した露光パターンとし、この多重露光された感光材の現像で得られた感光材マスクを用いてその下部の前記型材をエッチングして成形型を作製し、この成形型を用いて前記コアを成形する、光導波路の製造方法。
- 前記マスクの前記矩形パターン開口を前記配列方向において、前記コアの長さ方向にずらして配置する、請求項1に記載した光導波路の製造方法。
- 前記現像によって前記コアに対応した凹凸断面形状に前記感光材マスクを作製し、前記型材をエッチングして作製した成形型にコア材を充填し、これを剥離して前記コアを成形する、請求項1に記載した光導波路の製造方法。
- 前記マスクの前記矩形パターン開口の幅を前記コアの幅と同等とし、前記矩形パターン開口の長さを前記コアの長さから光入射部又は光出射部の長さを引いた大きさとする、請求項1に記載した光導波路の製造方法。
- 前記感光材に対して前記マスクを前記コアの長さ方向に移動させて多重露光するに際し、前記コアの光入射部又は光出射部の長さを露光回数で割った値ずつ移動させて露光する、請求項1に記載した光導波路の製造方法。
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Citations (6)
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---|---|---|---|---|
JP2002311273A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Toppan Printing Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2003084152A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-19 | Ngk Insulators Ltd | 光デバイス |
JP2004069806A (ja) * | 2002-08-02 | 2004-03-04 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
WO2004027472A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | 光導波路及びその製造方法 |
JP2004101678A (ja) * | 2002-09-06 | 2004-04-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | マイクロミラー及びその製造方法 |
JP2004133300A (ja) * | 2002-10-11 | 2004-04-30 | Sony Corp | 導波路用金型および導波路の製造方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002311273A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Toppan Printing Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2003084152A (ja) * | 2001-09-07 | 2003-03-19 | Ngk Insulators Ltd | 光デバイス |
JP2004069806A (ja) * | 2002-08-02 | 2004-03-04 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2004101678A (ja) * | 2002-09-06 | 2004-04-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | マイクロミラー及びその製造方法 |
WO2004027472A1 (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | 光導波路及びその製造方法 |
JP2004133300A (ja) * | 2002-10-11 | 2004-04-30 | Sony Corp | 導波路用金型および導波路の製造方法 |
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