JP4462028B2 - 光導波路の製造方法及びそれに用いる露光マスク - Google Patents
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上述したように、前記コアの前記光入出射面を斜面形状に形成するためにダイシングブレードを用いた場合、切断の工程が増え、また切断時の公差も懸念される。また、メッキによって形成する場合は、精度良く所望の形状を形成するのが難しく、更に形状を自由に変更することができない。
従来例による製造方法では、図11(a)に示すように、前記コアに対応するパターン開口57において、光入出射面51、52が直線的に配置されかつ高集積化されている場合においても、図11(b)に示すように、A断面における深さD1とD2が揃わない場合がある。
本実施の形態では、図3(a)に示すように、第1の実施の形態及び第2の実施の形態を組み合わせた構造となっている。即ち、前記コアが複数隣接して配列され、かつその配列方向において、前記コアの光入出射面が千鳥配置となるよう、主パターン開口7が形成されたグレートーンマスク6において、この配列方向における主パターン開口7間に、ダミーパターン開口8が形成され、前記配列方向における主パターン開口7及びダミーパターン開口8を含む各パターン開口間の間隔が均一化されていると共に、最外周に配された主パターン開口7の更に外周にもダミーパターン開口8が形成されている。このとき、ダミーパターン開口8は、両端部が矩形となる設計である以外は、前記コアと同様の形状が成形できるパターンである。即ち、ダミーパターン開口8の透過率は、主パターン開口7の端部ミラー面以外の箇所と同じ透過率である。
図5及び図6は、本発明の第2の製造方法について説明する模式図である。
6…露光マスク(グレートーンマスク)、7…主パターン開口、
8…ダミーパターン開口、9…感光材、10…成形型、11…ダミーコア、
12…パターン開口、13…マスク
Claims (5)
- 光入出射面が長さ方向の端面に斜面形状に形成されたコアと、クラッドとからなる光導波路を製造するに際し、前記コアの成形に用いる型材上の感光材の露光にグレートーンマスクを用い、このグレートーンマスクにおいて前記コアに対応する長手状の複数の主パターン開口を長さ方向と直交する方向に隣接して配列し、この配列方向における少なくとも前記主パターン開口間に、長さ方向の端面が前記斜面形状に成形されないダミーコア成形用のダミーパターン開口を形成し、これによって前記配列方向における前記主パターン開口及び前記ダミーパターン開口を含む各パターン開口間の間隔を均一化し、この状態で前記グレートーンマスクを用いて前記感光材を露光し、この露光された感光材の現像で得られた感光材マスクを用いてその下部の前記型材をエッチングして成形型を作製し、この成形型を用いて前記コアを成形する、光導波路の製造方法。
- 前記主パターン開口を前記配列方向において、前記長さ方向に千鳥配置するか或いはずらして配置する、請求項1に記載した光導波路の製造方法。
- 前記現像によって前記コアに対応した凹凸断面形状に前記感光材マスクを作製し、前記型材をエッチングして作製した成形型にコア材を充填し、これを剥離して前記コアを成形する、請求項1に記載した光導波路の製造方法。
- 光入出射面が長さ方向の端面に斜面形状に形成されたコアを成形するための感光材の露光に用いるグレートーンマスクからなり、前記コアに対応する長手状の複数の主パターン開口が長さ方向と直交する方向に隣接して配列され、この配列方向における少なくとも前記主パターン開口間に、長さ方向の端面が前記斜面形状に成形されないダミーコア成形用のダミーパターン開口が形成され、これによって前記配列方向における前記主パターン開口及び前記ダミーパターン開口を含む各パターン開口間の間隔が均一化されている、露光マスク。
- 前記主パターン開口が前記配列方向において、前記長さ方向に千鳥配置されているか或いはずらして配置されている、請求項4に記載した露光マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004365220A JP4462028B2 (ja) | 2004-12-17 | 2004-12-17 | 光導波路の製造方法及びそれに用いる露光マスク |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2006171477A JP2006171477A (ja) | 2006-06-29 |
JP4462028B2 true JP4462028B2 (ja) | 2010-05-12 |
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JP (1) | JP4462028B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5269571B2 (ja) * | 2008-12-12 | 2013-08-21 | 株式会社Adeka | 光導波路の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP2006171477A (ja) | 2006-06-29 |
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RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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