JP4542127B2 - 光路変換ミラーおよびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光路変換ミラーおよびその製造方法に関し、より詳細には、平面光導波回路内を伝播する導波光の入出力のために使用される光路変換ミラーおよびその製造方法に関する。

光通信、光情報処理の分野においては、平面光導波回路（以下「ＰＬＣ」という）を用いて光機能部品を構成し、集積することが行われている。このような平面光導波回路と受発光素子との間には、平面光導波回路の一領域から光波の一部または全部を取り出して、フォトダイオード（以下「ＰＤ」という）によって受光したり、または半導体レーザダイオード（以下「ＬＤ」という）からの出力光を平面光導波回路に入力させるための結合が必要になる。このような光素子と平面光導波回路との光結合構造は、平面光導波回路の多機能化、高集積化への要求を満たし、任意の位置において任意の向きに形成することができ、他回路への干渉が無いことが求められる。

このような要求を満たす構造として、光路変換ミラーが知られている（例えば、非特許文献１参照）。光路変換ミラーは、光導波路の端部に、光導波路のコアより深いミラー溝が形成され、このミラー溝の内部に硬化させられた液状硬化物質からなるミラー支持体斜面を有している。液状硬化物質とは、供給時には液体であり、紫外線照射、加熱等の処理によって硬化し、固体となる物質である。例えば、紫外線硬化樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化樹脂が知られている。このミラー支持体斜面に、金（Ａｕ）などの反射材が形成されている。

図１に、従来の光路変換ミラーの構造を示す。ＰＬＣ１１には、コアとこれを取り囲むクラッド層とからなる光導波路１２が形成されている。所望の光導波路の端部において、光導波路のコアより深いミラー溝１３を形成する。ミラー溝１３と連接して供給溝１４と液溜め部１５とが設けられている。ミラー溝１３内部には、液状硬化物質に対し高い接触角を呈する高接触角領域１６と、液状硬化物質に対して低い接触角を呈する低接触角領域とが形成されている。液溜め部１５から供給溝１４を介して液状硬化物質が供給されると、液状硬化物質は、低接触角領域であるミラー溝１３の壁面に沿って流れ、４０〜５０度の傾斜角の斜面を形成する。液状硬化物質を硬化させ、光導波路１２からの出射光があたる斜面の一部をミラー支持体斜面１７とする。ミラー支持体斜面１７に、Ａｕを蒸着するなど反射材１８を形成することにより、光導波路１２からの出射光を基板上方または下方に変換する光路変換ミラーを得ることができる。

図２に、従来の光路変換ミラーを用いたモニタ回路を示す。モニタ回路は、４チャネルの光信号をモニタ用の受光素子に分岐する。ＰＬＣ２１には、入力光導波路２２の光信号を、出力導波路２３とモニタ用光導波路２４に分岐するタップ回路２５が形成されている。モニタ用光導波路２４の端部には、図１に示した光路変換ミラー２６が設けられている。モニタ用光導波路２４から出射された光信号は、光路変換ミラー２６により、紙面上方に光路が変換され、ＰＬＣ２１に結合されているＰＤアレイに入射される。図１に示した光路変換ミラー２６は、出力導波路２３の間に配置することができるので、モニタ回路の小型化を図ることができる。

図２に示したモニタ回路は、光路変換ミラー２６のそれぞれに、液状硬化物質を供給する液溜め部を有している。一方、特許文献１には、共通の液溜め部から各光路変換ミラーのミラー溝まで、一連の供給溝を介して、液状硬化物質を供給する方法が記載されている。しかしながら、この方法は、光導波路で囲まれた領域に光路変換ミラーを形成することができないので、回路レイアウトが限定されてしまう。

特開平１１−８４１８３号公報 H. Yanazaki, et. al., "Integration of Micro-Mirror Array in Silica-based Planar Lightwave circuit," OECC 2006 Technical Digest, 5B1-2, 2006 H. Terui and K. Shuto, "Novel Micromirror for Vertical Optical Path Conversion Formed in Silica-Based PLC Using Wettability Control of Resin," J. of Lightwave Technol., Vol.16, no.9, pp. 1631-1639, 1998

また、上述した従来の光路変換ミラーにおいては、以下のような問題があった。第１の問題は、ミラー形状の安定性である。図３に、従来の光路変換ミラーの断面を示す。図２に示したＡ−Ａ’の断面図である。ミラー溝１３内で液状硬化物質により形成されるミラー支持体斜面１７の角度は、液溜め部１５に充填される液状硬化物質の量で決まる内圧と表面張力のバランスとで決まる。図２のモニタ回路を例にすると、光路変換ミラーが２５０μｍピッチの光導波路の間に配置されるとすると、液溜め部の大きさは、幅１５０μｍ、長さ６００μｍ、深さ５０μｍとなる。このとき、液状硬化物質の容量は、約５ｎｌと非常に微少な量となる。従って、液溜め表面が凹状の場合はミラー形状も同様に凹形状に歪んでしまう。精度良く液溜め部に液状硬化物質を充填することは難しく、各々の液溜め部において液状硬化物質の充填具合が変わるので、光路変換ミラー毎にミラーの角度にばらつきが発生する。

このミラー角度の不安定性は、とりわけ光路変換ミラーを高密度に配置し、集積度の高い光回路を実現しようとする場合に大きな障害となる。つまり、各ミラー角度のばらつきは、そのまま光路変換時の角度ずれに大きく影響する。図２に示したモニタ回路の場合、光路変換ミラー上に結合されているＰＤアレイとの間で、受光感度の劣化、個々のＰＤの間の受信感度のばらつきが発生したり、隣接チャンネルへの漏れ込みによりクロストークが劣化する。

第２の問題は、生産性の低下である。光路変換ミラー毎に個別の液溜めが設置されているため、ミラーの数だけ液状硬化物質を充填する工程が必要となり、量産性にかける問題があった。

非特許文献２には、液状硬化物質をＰＬＣの上部クラッド層の表面に滴下、供給し、そこから光路変換ミラーのミラー溝に供給する方法が開示されている。この方法は、液状硬化物質を１度だけ供給すればよいので生産性が高い。また、この方法によれば、液状硬化物質を比較的大きな面積に滴下して、液状硬化物質の表面をなだらかに、すなわち曲率半径を大きくすることができる。従って、ミラー溝に形成されるミラー支持体斜面も平坦となり、各ミラー角度のばらつきを抑えることができる。しかしながら、上部クラッド層の表面に滴下するので、液状硬化物質が濡れ広がることから、供給領域として数ｍｍ角以上の面積を予め見込んでおく必要があった。さらに、広がった液状硬化物質がミラー溝に流入してしまうと、ミラー支持体斜面を形成することができないので、ミラー溝と供給領域との間に、数ｍｍ〜１０ｍｍ程度の流路を設けなければならなかった。従って、光路変換ミラー自体は小さくても、液状硬化物質の供給のために広い領域を必要とするために、回路の小型化、高集積化が達成できないという問題もあった。

本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、複数のミラーに対して一体形成が可能であり、高精度かつ生産性の高い光路変換ミラーおよびその製造方法を提供することにある。

本発明は、このような目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーであって、前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面と、該壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部とに接して設けられ、液状硬化物質を硬化させることにより形成されたミラー支持体と、前記ミラー溝に連接して、前記液状硬化物質を供給するための供給溝と、前記ミラー支持体に接して形成され、前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体とを備え、前記平面光導波回路に形成された複数の供給溝に跨って、各々の供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域であって、前記平面光導波回路の１または複数の光導波路に跨って形成されている液溜め領域をさらに備えたことを特徴とする。

前記液溜め領域は、前記液状硬化物質に対する濡れ性が、前記上部クラッドより悪い材料を用いた外周枠によって画定されている。他の実施態様では、前記液溜め領域は、前記上部クラッド表面に形成された凸形状の樹脂からなる外周枠で画定されている。

請求項３に記載の発明は、基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーの作製方法であって、前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、該ミラー溝に連接して液状硬化物質を供給するための供給溝とを形成する第１の工程と、前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部に、前記液状硬化物質を硬化させることにより形成するミラー支持体を画定するための撥水処理と、前記平面光導波回路に形成された複数の供給溝に跨って、各々の供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域であって、前記平面光導波回路の１または複数の光導波路に跨って形成されている液溜め領域を画定するための撥水処理とを行う第２の工程と、前記液溜め領域から、前記ミラー溝の前記撥水処理されていない底面と前記ミラー溝の壁面とに挟まれた部位に前記液状硬化物質を供給し、前記ミラー支持体となる傾斜面を形成する第３の工程と、前記液状硬化物質を硬化させる第４の工程と、前記ミラー支持体に接して形成され、前記前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体を形成する第５の工程とを備えたことを特徴とする。

請求項４に記載の発明は、基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーの作製方法であって、前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、該ミラー溝に連接して液状硬化物質を供給するための供給溝とを形成する第１の工程と、前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部に、前記液状硬化物質を硬化させることにより形成するミラー支持体を画定するための撥水処理を行う第２の工程と、前記平面光導波回路に形成された複数の供給溝に跨って、各々の供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域であって、前記平面光導波回路の１または複数の光導波路に跨って形成されている液溜め領域を画定するために、前記上部クラッド表面に凸形状の樹脂からなる外周枠を形成する第３の工程と、前記液溜め領域から、前記ミラー溝の前記撥水処理されていない底面と前記ミラー溝の壁面とに挟まれた部位に前記液状硬化物質を供給し、前記ミラー支持体となる傾斜面を形成する第４の工程と、前記液状硬化物質を硬化させる第５の工程と、前記ミラー支持体に接して形成され、前記前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体を形成する第６の工程とを備えたことを特徴とする。

以上説明したように、本発明によれば、供給溝の一部を含む上部クラッドの表面に形成され、液状硬化物質を供給するための液溜め領域を備えたので、複数の光路変換ミラーに対して一体形成が可能となる。また、液溜め領域から複数のミラー溝に一括して液状硬化物質を供給するので、高精度かつ生産性の高い光路変換ミラーを作製することが可能となる。

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。本実施形態では、石英系のＰＬＣを用い、ＰＬＣ上部に結合されたＰＤアレイに向けて光路を変換する光路変換ミラーを想定して説明を行う。この構成は、単に説明を容易にするためのものであって、本発明はこれに限定するものではない。

（第１の実施形態）
図４に、本発明の第１の実施形態にかかる光路変換ミラーを用いたモニタ回路を示す。図５に、第１の実施形態にかかる光路変換ミラーの断面を示す。図４に示したＢ−Ｂ’の断面図である。モニタ回路は、４チャネルの光信号をモニタ用の受光素子に分岐する。ＰＬＣ４１には、入力光導波路４２の光信号を、出力導波路４３とモニタ用光導波路４４に分岐するタップ回路４５が形成されている。モニタ用光導波路４４の端部には、図１に示した光路変換ミラー４６が設けられている。さらに、光路変換ミラー４６の各ミラー溝５３に、液状硬化物質を供給する液溜め領域４７が、ＰＬＣ４１の上部クラッド層の上に配置されている。液溜め領域４７は、複数の光路変換ミラー４６の供給溝５４の一部に跨がるように形成されている。光路変換ミラー４６は、２５０μｍピッチの出力導波路４３の間に配置されている。

入力光導波路４２に入力された光信号は、タップ回路４５により、９０％のパワーが出力導波路４３に出力され、１０％のパワーがモニタ用光導波路４４に出力される。モニタ用光導波路４４の出力は、光路変換ミラー４６によりＰＬＣ４１の基板垂直上方に、光路が変換される。光路変換ミラー４６の上部には４チャネルのモニタ用のＰＤアレイが実装されており、光パワーのモニタを行う。

なお、本実施形態ではチャネル数が４個であるが、本発明はこれに限定するものではなく、レイアウトの変更によりチャネル数は容易に拡大することが可能である。また、ＰＬＣ４１の前段に可変光減衰器（ＶＯＡ）、後段にアレイ導波路回折格子（ＡＷＧ）が集積された複合光集積回路に対しても、基本的に同じレイアウトで光路変換ミラーを作製することができる。

このような光路変換ミラー付き平面光導波回路は以下の方法で作製した。（１）通常の石英系光導波路の作製工程と同様に、Ｓｉ基板上に３０μｍ厚の下部クラッド層、７μｍ厚のコア層を火炎堆積法によって形成する。（２）フォトリソグラフィーとドライエッチングによって、所望の光導波路形状にコアを加工する。（３）３０μｍ厚の上部クラッド層を堆積する。

次に、（４）フォトリソグラフィーとドライエッチングによって、幅１００μｍ、長さ２００μｍ、深さ５０μｍのミラー溝５３、および、これに連接する幅４０μｍ、長さ１ｍｍの液状硬化物質の供給溝５４を形成する。（５）ミラー溝５３の底面に、液状硬化物質の濡れ性を制御するため、液状硬化物質に対し高い接触角を呈する高接触角領域５６を形成する。具体的には、感光性を有するフッ素樹脂系の撥水剤を一面にスピンコートし、フォトリソグラフィーにより撥水性のパターンを形成する。（６）このとき、上部クラッド層表面に形成する液溜め領域４７の外周枠５５ａ，５５ｂも同時に形成する。すなわち、液状硬化物質に対する濡れ性が、上部クラッド層より悪い材料により液溜め領域４７を画定する。図５において、外周枠５５ａ，５５ｂの幅は１５０μｍ、間隔は５００μｍである。このように、光路変換ミラー４６は、液溜め領域４７を含めても極めて小型のミラーを形成することができ、全体の長さを１ｍｍ以下に抑えることも可能である。さらに、液溜め領域４７の外周枠５５ａ，５５ｂを撥水性のパターンで形成しているので、ミラー溝５３の底面の高接触角領域５６を形成する工程において同時に形成することができる。

続いて、（７）ディスペンサを用いて共通の液溜め領域４７に液状硬化物質を塗布し、全てのミラー支持体斜面５７を一括して形成する。本実施形態では、液状硬化物質として熱硬化型エポキシ樹脂を用いる。（８）液状硬化物質を加熱硬化させた後、反射材であるＡｕを蒸着する。ウエットエッチングによりＡｕのパターン化を行い、光路変換ミラーを完成させる。

なお、本実施形態の製造工程では、濡れ性の制御に感光性を有する撥水剤を用いたが、非感光性の撥水剤を用いてもよい。まず全面に形成した後に不要な部分を除去する工程でも作製可能である。本実施形態では、撥水剤の厚さを１μｍとしたが、撥水剤の液状硬化物質に対する濡れ性によって調節すればよく、例えば、０．１〜３μｍ程度とすることができる。

図６に、第１の実施形態にかかる光路変換ミラーの各ミラー角度のばらつきを評価した結果を示す。図２に示した従来の光路変換ミラー（個別液溜め）と、図４に示した本実施形態の光路変換ミラー（共通液溜め）とを用いて、４０チャンネルのモニタ回路を作製した。モニタ用光導波路から出力された光信号が、ミラーにより反射されて上方に光路が変換される角度を比較したグラフである。紙面上方からミラーを見て、モニタ用光導波路から出力された光信号がミラーに当たる部分を原点とする。モニタ用光導波路の光軸方向をＹ方向、これと垂直な方向をＸ方向と定義する（図６（ｂ））。

ここで、両者のミラー角度のばらつき量を比較すると、従来の個別液溜め構造では±３度程度のばらつきが、本実施形態の共通液溜めでは、ほぼ±１度と大幅に改善され、優位性を裏付ける結果が得られた。連続した単一の液溜め領域から、各ミラー溝に液状硬化物質が供給されるため、全ての光路変換ミラーに対して液状硬化物質の内圧が等しくなる。従って、各光路変換ミラーにおけるミラー角度のばらつきを小さくすることができる。このようにして、ミラー角度の精度が高く、極めて小型で、生産性の高い光路変換ミラーを作製することできる。また、光路変換ミラーの回路レイアウトに限定されることなく、複数のミラーを一括して形成することができる。

（第２の実施形態）
図７に、本発明の第２の実施形態にかかる光路変換ミラーの構造を示す。第１の実施形態との相違点は、液溜め領域４７の外周枠５５ａ，５５ｂが、凸形状の樹脂により形成されている点である。本実施形態では、感光性のエポキシ樹脂を用いて外周枠５５ａ，５５ｂを形成する。最初に、ＰＬＣ４１のエポキシ樹脂を、ＰＬＣ４１の上部クラッド層の上に３０μｍ厚で塗布する。フォトリソグラフィーにより、液溜め領域４７の壁となる凸形状のパターンを形成する。図５において、外周枠５５ａ，５５ｂの幅は１５０μｍ、間隔は５００μｍである。外周枠５５ａ，５５ｂの高さは、ミラー溝に供給する液状硬化物質の容量により決定すればよい。

この液溜め領域４７には、ディスペンサを用いて、液状硬化物質を２０〜５０μｍの厚さとなるように供給する。本実施形態では３０μｍである。このようにして、液溜め領域４７に供給された液状硬化物質が、周囲に広がらないようにする。外周枠５５ａ，５５ｂに用いる樹脂として、感光性のエポキシ樹脂を用いることにより、工程の簡易化が図られるが、これに限定されるものではない。

ここで、液状硬化物質を、外周枠５５ａ，５５ｂで囲まれた液溜め領域４７において、ほぼ平らになるように充填することにより、ミラー支持体斜面５７をほぼ４５度の角度にすることができる。これは、液溜め領域４７がＰＬＣ４１の上部クラッド層の上にあり、光導波路の構造と直接干渉しないので、液溜め領域４７の寸法が、供給溝５４の寸法と比較して格段に大きく設定することができるからである。このため、光路変換ミラー毎に液溜め部を形成していた従来の場合と比較して、液状硬化物質の供給量の要求精度が大幅に緩和できる。従って、本実施形態によれば、高い生産性を確保しながら、高精度の光路変換ミラーを作製することができる。

従来の光路変換ミラーの構造を示す斜視図である。 従来の光路変換ミラーを用いたモニタ回路を示す平面図である。 従来の光路変換ミラーの構造を示す断面図である。 本発明の第１の実施形態にかかる光路変換ミラーを用いたモニタ回路を示す平面図である。 第１の実施形態にかかる光路変換ミラーの構造を示す断面図である。 第１の実施形態にかかる光路変換ミラーの各ミラー角度のばらつきを評価した結果を示す図である。 本発明の第２の実施形態にかかる光路変換ミラーの構造を示す断面図である。

符号の説明

１１，２１，４１ ＰＬＣ
１２ 光導波路
１３，５３ ミラー溝
１４，５４ 供給溝
１５ 液溜め部
１６，５６ 高接触角領域
１７，５７ ミラー支持体斜面
１８ 反射材
２２，４２ 入力光導波路
２３，４３ 出力導波路
２４，４４ モニタ用光導波路
２５，４５ タップ回路
２６，４６ 光路変換ミラー
４７ 液溜め領域
５５ 外周枠

Claims (4)

1. 基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーであって、
   前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、
   前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面と、該壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部とに接して設けられ、液状硬化物質を硬化させることにより形成されたミラー支持体と、
   前記ミラー溝に連接して、前記液状硬化物質を供給するための供給溝と、
   前記ミラー支持体に接して形成され、前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体とを備え、
   前記平面光導波回路に形成された複数の供給溝に跨って、各々の供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域であって、前記液状硬化物質に対する濡れ性が、前記上部クラッドより悪い材料を用いた外周枠によって画定され、前記平面光導波回路の１または複数の光導波路に跨って形成されている液溜め領域をさらに備えたことを特徴とする光路変換ミラー。
2. 基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーであって、
   前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、
   前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面と、該壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部とに接して設けられ、液状硬化物質を硬化させることにより形成されたミラー支持体と、
   前記ミラー溝に連接して、前記液状硬化物質を供給するための供給溝と、
   前記ミラー支持体に接して形成され、前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体とを備え、
   前記平面光導波回路に形成された複数の供給溝に跨って、各々の供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域であって、前記上部クラッド表面に形成された凸形状の樹脂からなる外周枠で画定され、前記平面光導波回路の１または複数の光導波路に跨って形成されている液溜め領域をさらに備えたことを特徴とする光路変換ミラー。
3. 基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーの作製方法であって、
   前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、該ミラー溝に連接して液状硬化物質を供給するための供給溝とを形成する第１の工程と、
   前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部に、前記液状硬化物質を硬化させることにより形成するミラー支持体を画定するための撥水処理と、前記平面光導波回路に形成された複数の供給溝に跨って、各々の供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域であって、前記平面光導波回路の１または複数の光導波路に跨って形成されている液溜め領域を画定するための撥水処理とを行う第２の工程と、
   前記液溜め領域から、前記ミラー溝の前記撥水処理されていない底面と前記ミラー溝の壁面とに挟まれた部位に前記液状硬化物質を供給し、前記ミラー支持体となる傾斜面を形成する第３の工程と、
   前記液状硬化物質を硬化させる第４の工程と、
   前記ミラー支持体に接して形成され、前記前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体を形成する第５の工程と
   を備えたことを特徴とする光路変換ミラーの製造方法。
4. 基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーの作製方法であって、
   前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、該ミラー溝に連接して液状硬化物質を供給するための供給溝とを形成する第１の工程と、
   前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部に、前記液状硬化物質を硬化させることにより形成するミラー支持体を画定するための撥水処理を行う第２の工程と、
   前記平面光導波回路に形成された複数の供給溝に跨って、各々の供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域であって、前記平面光導波回路の１または複数の光導波路に跨って形成されている液溜め領域を画定するために、前記上部クラッド表面に凸形状の樹脂からなる外周枠を形成する第３の工程と、
   前記液溜め領域から、前記ミラー溝の前記撥水処理されていない底面と前記ミラー溝の壁面とに挟まれた部位に前記液状硬化物質を供給し、前記ミラー支持体となる傾斜面を形成する第４の工程と、
   前記液状硬化物質を硬化させる第５の工程と、
   前記ミラー支持体に接して形成され、前記前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体を形成する第６の工程と
   を備えたことを特徴とする光路変換ミラーの製造方法。

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