JP2009103757A - 光路変換ミラーおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】平面光導波回路に形成された光路変換ミラーは、光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面と、該壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部とに接して設けられ、液状硬化物質を硬化させることにより形成されたミラー支持体と、前記ミラー溝に連接して、前記液状硬化物質を供給するための供給溝と、前記ミラー支持体に接して形成され、前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体と、前記供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域を備えた。
【選択図】図4
Description
図4に、本発明の第1の実施形態にかかる光路変換ミラーを用いたモニタ回路を示す。図5に、第1の実施形態にかかる光路変換ミラーの断面を示す。図4に示したB−B’の断面図である。モニタ回路は、4チャネルの光信号をモニタ用の受光素子に分岐する。PLC41には、入力光導波路42の光信号を、出力導波路43とモニタ用光導波路44に分岐するタップ回路45が形成されている。モニタ用光導波路44の端部には、図1に示した光路変換ミラー46が設けられている。さらに、光路変換ミラー46の各ミラー溝53に、液状硬化物質を供給する液溜め領域47が、PLC41の上部クラッド層の上に配置されている。液溜め領域47は、複数の光路変換ミラー46の供給溝54の一部に跨がるように形成されている。光路変換ミラー46は、250μmピッチの出力導波路43の間に配置されている。
図7に、本発明の第2の実施形態にかかる光路変換ミラーの構造を示す。第1の実施形態との相違点は、液溜め領域47の外周枠55a,55bが、凸形状の樹脂により形成されている点である。本実施形態では、感光性のエポキシ樹脂を用いて外周枠55a,55bを形成する。最初に、PLC41のエポキシ樹脂を、PLC41の上部クラッド層の上に30μm厚で塗布する。フォトリソグラフィーにより、液溜め領域47の壁となる凸形状のパターンを形成する。図5において、外周枠55a,55bの幅は150μm、間隔は500μmである。外周枠55a,55bの高さは、ミラー溝に供給する液状硬化物質の容量により決定すればよい。
12 光導波路
13,53 ミラー溝
14,54 供給溝
15 液溜め部
16,56 高接触角領域
17,57 ミラー支持体斜面
18 反射材
22,42 入力光導波路
23,43 出力導波路
24,44 モニタ用光導波路
25,45 タップ回路
26,46 光路変換ミラー
47 液溜め領域
55 外周枠
Claims (6)
- 基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーであって、
前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、
前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面と、該壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部とに接して設けられ、液状硬化物質を硬化させることにより形成されたミラー支持体と、
前記ミラー溝に連接して、前記液状硬化物質を供給するための供給溝と、
前記ミラー支持体に接して形成され、前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体とを備え、
前記供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域をさらに備えたことを特徴とする光路変換ミラー。 - 前記液溜め領域は、前記平面光導波回路に形成された複数の供給溝に跨って形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光路変換ミラー。
- 前記液溜め領域は、前記液状硬化物質に対する濡れ性が、前記上部クラッドより悪い材料を用いた外周枠によって画定されていることを特徴とする請求項1および2に記載の光路変換ミラー。
- 前記液溜め領域は、前記上部クラッド表面に形成された凸形状の樹脂からなる外周枠で画定されていることを特徴とする請求項1および2に記載の光路変換ミラー。
- 基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーの作製方法であって、
前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、該ミラー溝に連接して液状硬化物質を供給するための供給溝とを形成する第1の工程と、
前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部に、前記液状硬化物質を硬化させることにより形成するミラー支持体を画定するための撥水処理と、前記供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域を画定するための撥水処理とを行う第2の工程と、
前記ミラー溝の前記撥水処理されていない底面と前記ミラー溝の壁面とに挟まれた部位に前記液状硬化物質を供給し、前記ミラー支持体となる傾斜面を形成する第3の工程と、
前記液状硬化物質を硬化させる第4の工程と、
前記ミラー支持体に接して形成され、前記前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体を形成する第5の工程と
を備えたことを特徴とする光路変換ミラーの製造方法。 - 基板上に形成され、下部クラッド、コアおよび上部クラッドからなる光導波路を含む平面光導波回路に形成された光路変換ミラーの作製方法であって、
前記光導波路の端部に、前記上部クラッドの上面から少なくともコアよりも深く掘り込まれたミラー溝と、該ミラー溝に連接して液状硬化物質を供給するための供給溝とを形成する第1の工程と、
前記光導波路の端部と対向する前記ミラー溝の壁面に接する前記ミラー溝の底面の一部に、前記液状硬化物質を硬化させることにより形成するミラー支持体を画定するための撥水処理を行う第2の工程と、
前記供給溝の一部を含む前記上部クラッドの表面に形成され、前記液状硬化物質を供給するための液溜め領域から、前記ミラー溝の前記撥水処理されていない底面と前記ミラー溝の壁面とに挟まれた部位に前記液状硬化物質を供給し、前記ミラー支持体となる傾斜面を形成する第3の工程と、
前記液状硬化物質を硬化させる第4の工程と、
前記ミラー支持体に接して形成され、前記前記光導波路の光路を前記基板上方または下方に変換する反射体を形成する第5の工程と
を備えたことを特徴とする光路変換ミラーの製造方法。
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WO2012014764A1 (ja) * | 2010-07-26 | 2012-02-02 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学素子の製造方法、光学素子及び光アシスト磁気記録ヘッド並びに磁気記録装置 |
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JP2007170918A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光導波路型デバイス、温度計測装置および温度計測方法 |
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