JP2010062332A - 電力用半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】オン抵抗の増加を抑制しノイズ低減が可能なスーパージャンクション構造を有する電力用半導体装置を提供する。
【解決手段】n+型ドレイン層11上のn型ドリフト層12、n型ドリフト層12中に膜面に沿って周期的配置の柱状のp型ドリフト層14、n+型ドレイン層11の下側接続のドレイン電極29、n型ドリフト層12の表面領域に選択的配設のp型ドリフト層14と接続のp型ベース層15、p型ベース層15の表面に選択的配設のn+型ソース層16、n+型ソース層16の表面に接したソース電極26、p型ベース層15の表面に選択的配設のp+型バックゲート層17、p+型バックゲート層17の表面に接したバックゲート電極27、p型ベース層15及びp型ベース層15の間のn型ドリフト層12上にゲート絶縁膜21を介して配設のゲート電極25、及び一端がソース電極26に、他端がバックゲート電極27に接続の抵抗33を有する。
【選択図】図2
【解決手段】n+型ドレイン層11上のn型ドリフト層12、n型ドリフト層12中に膜面に沿って周期的配置の柱状のp型ドリフト層14、n+型ドレイン層11の下側接続のドレイン電極29、n型ドリフト層12の表面領域に選択的配設のp型ドリフト層14と接続のp型ベース層15、p型ベース層15の表面に選択的配設のn+型ソース層16、n+型ソース層16の表面に接したソース電極26、p型ベース層15の表面に選択的配設のp+型バックゲート層17、p+型バックゲート層17の表面に接したバックゲート電極27、p型ベース層15及びp型ベース層15の間のn型ドリフト層12上にゲート絶縁膜21を介して配設のゲート電極25、及び一端がソース電極26に、他端がバックゲート電極27に接続の抵抗33を有する。
【選択図】図2
Description
本発明は、スーパージャンクション構造のMOSFETを用いた電力用半導体装置に関する。
電力制御用のMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)は、例えば、半導体基板の表面にゲートを有し、表面に垂直な方向に電流を流す構造(縦型)をとることが多く、スィッチング素子等として用いられる。
電力制御用の縦型のMOSFETにおいて、オン抵抗は、伝導層(ドリフト層)の電気抵抗に大きく依存するが、耐圧が必要なために、ドリフト層の不純物濃度を上げることに制限がある。このトレードオフの関係を改善するために、ドリフト層をスーパージャンクション構造とする技術が知られている。
また、スーパージャンクション構造も含めて、MOSFET等の電界効果トランジスタは、ドレインとソースを逆にした逆トランジスタ動作(逆モード動作)を行うことが可能で、同期整流やアナログスィッチ等において、この特性が利用されている。逆モード動作を利用しようとする場合、例えば、スーパージャンクション構造のMOSFETのバックゲート電極(p型ベース層)は、n+ソース層にソース電極で接続されており(例えば、特許文献1参照。)、短冊状のn型ドリフト層とp型ベース層等で形成される内蔵ダイオードをオンさせることになる。
開示されたこの電力用半導体装置は、内蔵ダイオードをオンさせることが前提にあり、ドレイン側にn−型ドリフト層を挿入して、スーパージャンクション構造の内蔵ダイオードが、オン状態からオフ状態へ移る逆回復特性時の電流波形を滑らかなリカバリ波形にすることにより、サージ電圧によるノイズを抑制することができるとされている。しかしながら、n−型ドリフト層を挿入することにより、オン抵抗が高くなるという問題を有している。
特開2003−101022号公報
本発明は、オン抵抗の増加を抑制しノイズ低減が可能なスーパージャンクション構造を有する電力用半導体装置を提供する。
本発明の一態様の電力用半導体装置は、第1導電型の第1半導体層と、前記第1半導体層中に膜面に沿う方向に周期的に配置された複数の柱状の第2導電型の第2半導体層と、前記第1半導体層の一方の側の表面に設けられ前記第1半導体層と電気的に接続された第1電極と、前記第1半導体層の他方の側の表面領域に選択的に設けられ前記第2半導体層と接続する複数の第2導電型の第3半導体層と、前記第3半導体層の表面に選択的に設けられた第1導電型の第4半導体層と、前記第3半導体層から離間して、前記第4半導体層の表面に接するように設けられた第2電極と、前記第4半導体層から離間して、前記第3半導体層の表面に接するように設けられた第3電極と、隣接する前記第3半導体層及び隣接する前記第3半導体層の間の前記第1半導体層の上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極とを有する電力用スイッチング素子と、前記第2電極と前記第3電極との間に接続され、前記第3電極の電圧が前記第2電極の電圧を超えないように維持する電圧調整手段とを備えていることを特徴とする。
本発明によれば、オン抵抗の増加を抑制しノイズ低減が可能なスーパージャンクション構造を有する電力用半導体装置を提供することができる。
発明者等は、スーパージャンクション構造のMOSFET(以下、SJ−MOSFETという)は、スーパージャンクション構造を有しない通常の縦型のMOSFETと比較して、内蔵ダイオードがより小さい電流でオンすることに気が付いた。つまり、SJ−MOSFETは、以下のような構造的な特徴を有していることによる。
図1(a)に示すように、比較例としてのSJ−MOSFET101は、例えば、n+型ドレイン層11の一方の側に接してn型ドリフト層12、n型ドリフト層12中に膜面に沿う方向に周期的に配置された複数の柱状のp型ドリフト層14、n+型ドレイン層11の他方の側に接続されたドレイン電極29、n型ドリフト層12のn+型ドレイン層11とは反対側の表面領域に選択的に設けられp型ドリフト層14と接続する複数のp型ベース層15、p型ベース層15の表面に選択的に設けられたn+型ソース層16、n+型ソース層16及びp型ベース層15の表面に接するように設けられたソース電極26、及び隣接するp型ベース層15及びp型ベース層15の間のn型ドリフト層12の上にゲート絶縁膜21を介して設けられたゲート電極25を備えている。SJ−MOSFET101は、バックゲートとソースとをソース電極26で接続して、見かけ上3端子の素子として構成されている。
図1(b)に示すように、内蔵ダイオードDbは、p型ベース層15及びp型ドリフト層14とn型ドリフト層12との境界のpn接合である。ドレイン電極29とソース電極26との間のドレイン電流(Id)の経路にそった、内蔵ダイオードDbと並列となる主な抵抗は、ドレイン電極29側から、バルク抵抗Rb、ジャンクションFET(以下、JFETという)抵抗Rj、チャネル抵抗Rcである。ドレイン電流の流れる経路に沿った最もドレイン側の内蔵ダイオードDbは、n+型ドレイン層11に近接して対面するp型ドリフト層14の端部にあり、逆モードで、すなわち内蔵ダイオードDbがオンする方向に、ドレイン電流(負値)が流れたとき、この端部の内蔵ダイオードDbが最も高い電位差となり、最初にオンすることになる。
ドレイン電流がドレイン電極29からソース電極26へ流れる通常モードの場合、内蔵ダイオードDbがオンすることはない。一方、ドレイン電流が逆に流れる逆モードの場合、ドレイン電流(Id、負値)、及び、抵抗値を符号と同じ記号で表した合計の抵抗(Rc+Rj+Rb)から、内蔵ダイオードDbの端子間には、Vd=|Id|×(Rc+Rj+Rb)の電圧が印加される。そして、p型ベース層15に接近するほどバルク抵抗Rbは小さくなるので、内蔵ダイオードDbがオンするドレイン電流の絶対値は高くなる。p型ベース層15とn型ドリフト層12との境界に存在する内蔵ダイオードDbは、他の内蔵ダイオードDbに比較して、ドレイン電流Idの絶対値がより高いときにオンすることになる。すなわち、p型ドリフト層14がない通常の縦型のMOSFETに比較して、SJ−MOSFET101は、内蔵ダイオードDbがより小さいドレイン電流の絶対値(|Id|)でオンすることになる。
それ故に、SJ−MOSFETにおいては、内蔵ダイオードDbを低ノイズ状態に維持する対策が、ドレイン電流Idの絶対値が小さい場合から必要となることを把握して、本発明に至っている。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。以下に示す図では、同一の構成要素には同一の符号を付している。
本発明の実施例1に係る電力用半導体装置について、図2及び図3を参照しながら説明する。図2は電力用半導体装置を構成するSJ−MOSFETの構造を模式的に示す図で、図2(a)は断面図、図2(b)は断面図に電流路を加えた図である。図3は電力用半導体装置の回路構成を模式的に示す図で、図3(a)は回路図、図3(b)は図3(a)のSJ−MOSFETのソースとドレインが導通状態にあるときの等価回路図である。以下の説明では、ゲート電極が形成されたSJ−MOSFETの表面側を上とする。
図2(a)に示すように、電力用スイッチング素子であるSJ−MOSFET10は、n+型ドレイン層11の一方の側(上側)に接した第1導電型の第1半導体層であるn型ドリフト層12と、n型ドリフト層12中に膜面に沿う方向に周期的に配置された複数の柱状の第2導電型の第2半導体層であるp型ドリフト層14と、n+型ドレイン層11の他方の側(下側)に接続されたドレイン電極29と、n型ドリフト層12の上側の表面領域に選択的に設けられp型ドリフト層14と接続する複数の第3半導体層であるp型ベース層15と、p型ベース層15の表面に選択的に設けられた第4半導体層であるn+型ソース層16と、n+型ソース層16の表面に接するように設けられた第2電極であるソース電極26と、p型ベース層15の表面に選択的に設けられたp+型バックゲート層17と、p+型バックゲート層17の表面に接するように設けられた第3電極であるバックゲート電極27と、隣接するp型ベース層15及びp型ベース層15の間のn型ドリフト層12の上にゲート絶縁膜21を介して設けられたゲート電極25とを有する。なお、SJ−MOSFET10の表面の絶縁膜または保護膜等は省略されている。
SJ−MOSFET10は、ゲート電極25、ソース電極26、及びドレイン電極29の他に、バックゲート電極27を互いに独立して有している。つまり、SJ−MOSFET10は、上述のSJ−MOSFET101とは異なり、n+型ソース層16とp+型バックゲート層17(または、p型ベース層15)とが、ソース電極26で共通に接続されることはないし、また、バックゲート電極27で共通に接続されることもない。なお、p+型バックゲート層17は、必ずしも設ける必要はなく、その場合、バックゲート電極27は、p型ベース層15に接続される。
p型ドリフト層14は、上端がSJ−MOSFET10の表面側のp型ベース層15に接続され、下端が裏面側のn+型ドレイン層11に近接する位置まで伸長するように配設されている。なお、p型ドリフト層14の下端は、SJ−MOSFET10に要求される特性に応じて、下端をn+型ドレイン層11中の任意の位置にあってもよいし、また、n+型ドレイン層11に接する位置にあってもよい。
図2(b)に示すように、ドレイン電極29とソース電極26との間のドレイン電流(Id)の経路は、ドレインDからソースSを結ぶ線で模式的に示される。つまり、ドレイン電極29側から、n+型ドレイン層11、n型ドリフト層12、p型ベース層15、及びn+型ソース層16を経由してソース電極26に達している。上述の比較例のSJ−MOSFET101と同様に、ドレイン電流経路には、ドレイン電極29側から、直列に、主なものとして、バルク抵抗Rb、JFET抵抗Rj、チャネル抵抗Rcがある。他に、各層と層との間の接触抵抗、層を構成する材料に依存する抵抗等が存在するが省略されている。
また、p型ベース層15またはp型ドリフト層14とn型ドリフト層12との境界にpn接合を有する内蔵ダイオードDbが存在している。バックゲート電極27とドレイン電極29との間の内蔵ダイオード電流経路は、バックゲートBGからドレインDを結ぶ線で模式的に示される。つまり、バックゲート電極27から、p+型バックゲート層17、p型ベース層15、p型ドリフト層14、n型ドリフト層12、及びn+型ドレイン層11を経由してドレイン電極29に達している。なお、p型ドリフト層14を経由しない場合もある。
図2(b)示す内蔵ダイオードDbは、上述の比較例のSJ−MOSFET101において、ドレイン電流の絶対値が最も小さいときにオンする内蔵ダイオードの位置に対応させてある。つまり、内蔵ダイオードDbは、p型ドリフト層14のn+型ドレイン層11に対向する位置とn型ドリフト層12との境界に形成される場合である。
図3(a)に示すように、電力用半導体装置1は、一端がSJ−MOSFET10のソースSに接続され、他端がSJ−MOSFET10のバックゲートBGに接続された電圧調整手段である抵抗33を有している。
図3(b)に示すように、SJ−MOSFET10のソースSとドレインDが導通状態にあるとき、上述のように、ソースSとドレインDとの間に、チャネル抵抗Rc、JFET抵抗Rj、及びバルク抵抗Rbが直列に入り、バックゲートBGからドレインDへの間に、順方向の内蔵ダイオードDbが接続されている。ソースSとバックゲートBGとの間に、抵抗33が接続されている。ソースSは、例えば、ソース側端子31に引き出されている。
SJ−MOSFET10と抵抗33とは、同一の半導体基板上にモノリシックに形成することが可能である。また、抵抗33は、SJ−MOSFET10の形成された半導体基板とは別の半導体基板上に形成された後、接続されても良いし、外付けのディスクリート部品としてSJ−MOSFET10に接続されても良い。
次に、電力用半導体装置1の動作について説明する。SJ−MOSFET10は、ゲートに閾値以上の電圧が印加されると、上述のように、ソースSとドレインDとの間が導通状態になり、通常モード及び逆モードの両モードで電流を流すことが可能である。
SJ−MOSFET10は、通常モードの場合、抵抗33には電流が流れないので、内蔵ダイオードDbのアノードからバックゲートBG及びソースSまでの間の電位差は0Vを維持する。
逆モードの場合、内蔵ダイオードDbの順方向の立ち上がり電圧(Vf)を超えないときは、抵抗33には電流が流れないので、内蔵ダイオードDbのアノードからバックゲートBG及びソースSまでの間の電位差は0Vに維持される。
一方、内蔵ダイオードDbの順方向の立ち上がり電圧(Vf1)を超えたときは、つまり、逆方向のドレイン電流が増加すると、内蔵ダイオードDbの順方向に電流が流れ始める。p型ドリフト層14の先端に位置する内蔵ダイオードDbがオンを始めて、逆方向のドレイン電流の増加に連れて、p型ベース層15に位置する内蔵ダイオードDbもオン状態となる。内蔵ダイオードDbのアノードの電位は、ソースSに対して低く、n型ドリフト層12またはn+型ドレイン層11に対して、Vf1だけ高く維持される。このとき、内蔵ダイオードDbの順方向の電流は、抵抗33の値により制御される。抵抗33は、内蔵ダイオードDbの順方向の電流が、接続回路(図示略)へ不都合を与えない程度の値、つまり、スィッチング時のノイズが接続回路へ影響しない程度の値に設定される。
なお、SJ−MOSFET10は、バックゲート電圧が負電圧方向にシフトすると等価的にゲート閾値電圧は正電圧方向にシフトする。ただし、バックゲート電圧は、その電圧の1/2乗でゲート閾値電圧に影響を与えることが知られているが、ゲート・ソース間電圧が充分高い状態で使用される電力用半導体装置1のSJ−MOSFET10は、大きな問題になることは少ない。
上述したように、電力用半導体装置1は、一端がスーパージャンクション構造のSJ−MOSFET10のソースSに接続され、他端がSJ−MOSFET10のバックゲートBGに接続された抵抗33を有している。その結果、内蔵ダイオードDbを順方向に流れる電流は抑制される。つまり、オン状態からオフ状態へ移る逆回復特性時の電流変化を小さくできるので、サージ電圧が小さくなり、ノイズを抑制することが可能となる。お、抵抗33の値は、接続される回路に合わせて、適するものとすることにより、ノイズをより少ない状態に抑制することが可能となる。
SJ−MOSFET10は、n型ドリフト層12とn+型ドレイン層11との間に、逆回復特性がソフトなリカバリ波形とするためのn−型ドリフト層を挿入する必要がない。その結果、SJ−MOSFET10は、オン抵抗の増加を抑制することが可能であり、電力用半導体装置1は、高耐圧、低オン抵抗というスーパージャンクション構造の特徴に加えて、ノイズの発生が抑制されるので、応用範囲が広く、使い勝手が良いものとなる。
また、比較のためのSJ−MOSFET101は、通常の縦型のMOSFETに対して、バルク抵抗Rbが大きく関与して、逆モードのより小さなドレイン電流でオンすることになり、逆回復特性時の電流変化が問題であった。本実施例のSJ−MOSFET10は、上述のように、内蔵ダイオードDbを順方向に流れる電流値を低減可能なので、スーパージャンクション構造のより小さなドレイン電流でオンする問題は、同時に解消される。
本発明の実施例2に係る電力用半導体装置について、図4を参照しながら説明する。図4は電力用半導体装置の回路構成を模式的に示す図で、図4(a)は回路図、図4(b)は図4(a)のSJ−MOSFETのソースとドレインが導通状態にあるときの等価回路図である。実施例1の電力用半導体装置1とは、抵抗33に並列にショットキバリアダイオード(以下、SBDという)を追加したことが異なる。なお、実施例1と同一構成部分には同一の符号を付して、その説明は省略する。
図4に示すように、電力用半導体装置2は、実施例1の電力用半導体装置1において、抵抗33に並列に、カソードがSJ−MOSFET10のソースSに接続され、アノードがSJ−MOSFET10のバックゲートBGに接続されたSBD35を有している。なお、SBD35を、同様な極性を有するpn接合ダイオードに代えることは可能である。
SJ−MOSFET10とSBD35とは、同一の半導体基板上にモノリシックに形成することが可能である。また、SBD35は、SJ−MOSFET10の形成された半導体基板とは別の半導体基板上に形成された後、接続されても良いし、外付けのディスクリート部品としてSJ−MOSFET10に接続されても良い。
次に、電力用半導体装置2の動作について説明する。SJ−MOSFET10は、通常モードの場合、SBD35には電流が流れず、内蔵ダイオードDbのアノード、すなわち、バックゲートBG、p型ベース層15、及びp型ドリフト層14、の電位をソースSに対してSBD35の順方向の立ち上がり電圧(Vf2)を超えないように維持し、一方、並列の抵抗33には電流が流れず、内蔵ダイオードDbのアノードからバックゲートBG及びソースSまでの間の電位差は0Vに維持されるので、結局、バックゲートBG及びソースSまでの間の電位差は0Vとなる。そして、通常モードでドレインの電圧が過大となった場合、SBD35があることによって、内蔵ダイオードDbに印加される電圧は低く抑えられる。
逆モードの場合、SBD35は、逆バイアスとなるのでオンすることはない。従って、電力用半導体装置2は、実施例1の電力用半導体装置1と同様な動作となる。
上述したように、電力用半導体装置2は、実施例1の電力用半導体装置1に加えて、抵抗33に並列に、SBD35が接続された構成を有している。その結果、電力用半導体装置2は、電力用半導体装置1が有する効果を同様に有している。更に、電力用半導体装置2は、通常モードでドレインの電圧が過大となった場合、SBD35によって内蔵ダイオードDbに印加される電圧が低く抑えられ、アバランシェ降伏等で内蔵ダイオードDbに降伏電流が流れるのを抑えることが可能となる。
本発明の実施例3に係る電力用半導体装置について、図5を参照しながら説明する。図5は電力用半導体装置の回路構成を模式的に示す図で、図5(a)は回路図、図5(b)は図5(a)のSJ−MOSFETのソースとドレインが導通状態にあるときの等価回路図である。実施例1の電力用半導体装置1とは、抵抗33に並列にn型MOSFET(以下、n−MOSFETという)を追加したことが異なる。なお、実施例1及び実施例2と同一構成部分には同一の符号を付して、その説明は省略する。
図5に示すように、電力用半導体装置3は、実施例1の電力用半導体装置1において、抵抗33に並列に、ソースがSJ−MOSFET10のバックゲートBGに接続され、ドレインがSJ−MOSFET10のソースSに接続されたn−MOSFET37を有している。n−MOSFET37のゲートは、制御端子(図示略)に接続されている。なお、制御端子は、例えば、SJ−MOSFET10の動作が、通常モードか逆モードかを判断して、通常モードの場合正電圧を出力し、逆モードの場合0Vを出力する制御回路(図示略)に接続される。
SJ−MOSFET10とn−MOSFET37とは、同一の半導体基板上にモノリシックに形成することが可能である。また、n−MOSFET37は、SJ−MOSFET10の形成された半導体基板とは別の半導体基板上に形成された後、接続されても良いし、外付けのディスクリート部品としてSJ−MOSFET10に接続されても良い。
次に、電力用半導体装置3の動作について説明する。SJ−MOSFET10は、通常モードの場合、n−MOSFET37のゲートに正電圧を印加して、ソース・ドレイン間をオン状態にして、SJ−MOSFET10のバックゲートBGの電位をSJ−MOSFET10のソースSの電位とほぼ等しくする。
逆モードの場合、n−MOSFET37のゲート電圧を下げて、ソース・ドレイン間をオフ状態にして、SJ−MOSFET10のバックゲートBGを抵抗33で決まる高インピーダンス状態に置く。
上述したように、電力用半導体装置3は、実施例1の電力用半導体装置1に加えて、抵抗33に並列に、n−MOSFET37のソース・ドレイン間が接続された構成を有している。その結果、電力用半導体装置3は、電力用半導体装置1が有する効果を同様に有している。更に、電力用半導体装置3は、通常モードの場合、バックゲートBGの電位が、ソースSの電位とほとんど同じとなり、より安定した動作が維持される。
本発明の実施例4に係る電力用半導体装置について、図6を参照しながら説明する。図6は電力用半導体装置の回路構成を模式的に示す図で、図6(a)は回路図、図6(b)は図6(a)のSJ−MOSFETのソースとドレインが導通状態にあるときの等価回路図である。実施例3の電力用半導体装置3とは、n型MOSFETをp型MOSFETに置き換えたことが異なる。なお、実施例1乃至実施例3と同一構成部分には同一の符号を付して、その説明は省略する。
図6に示すように、電力用半導体装置4は、実施例1の電力用半導体装置1において、抵抗33に並列に、ドレインがSJ−MOSFET10のバックゲートBGに接続され、ソースがSJ−MOSFET10のソースSに接続されたp−MOSFET38を有している。p−MOSFET38のゲートは、制御端子(図示略)に接続されている。なお、制御端子は、例えば、SJ−MOSFET10の動作が、通常モードか逆モードかを判断して、通常モードの場合負電圧を出力し、逆モードの場合0Vを出力する制御回路(図示略)に接続される。
SJ−MOSFET10とp−MOSFET37とは、同一の半導体基板上にモノリシックに形成することが可能である。また、p−MOSFET37は、SJ−MOSFET10の形成された半導体基板とは別の半導体基板上に形成された後、接続されても良いし、外付けのディスクリート部品としてSJ−MOSFET10に接続されても良い。
次に、電力用半導体装置4の動作について説明する。SJ−MOSFET10は、通常モードの場合、p−MOSFET37のゲートに負電圧を印加して、ソース・ドレイン間をオン状態にして、SJ−MOSFET10のバックゲートBGの電位をSJ−MOSFET10のソースSの電位とほぼ等しくする。
逆モードの場合、p−MOSFET37のゲート電圧を上げて、ソース・ドレイン間をオフ状態にして、SJ−MOSFET10のバックゲートBGを抵抗33で決まる高インピーダンス状態に置く。
上述したように、電力用半導体装置4は、実施例3の電力用半導体装置3のn型MOSFETをp型MOSFETに置き換えた構成を有している。その結果、電力用半導体装置4は、電力用半導体装置3が有する効果を同様に有している。
以上、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々変形して実施することができる。
例えば、実施例では、電力用半導体装置はSJ−MOSFETを有する構成の例を示したが、SJ−MOSFETをスーパージャンクション構造でない通常のMOSFETに置き換えることは可能である。
また、実施例では、抵抗等の電圧調整手段はSJ−MOSFETのソースとバックゲートにそれぞれの端子が接続される例を示したが、電圧調整手段は、一端が、例えば、ショットキバリアダイオード等を介してソースに接続されることは可能である。
本発明は、以下の付記に記載されるような構成が考えられる。
(付記1) 第1導電型の第1半導体層と、前記第1半導体層中に膜面に沿う方向に周期的に配置された複数の柱状の第2導電型の第2半導体層と、前記第1半導体層の一方の側の表面に設けられ前記第1半導体層と電気的に接続された第1電極と、前記第1半導体層の他方の側の表面領域に選択的に設けられ前記第2半導体層と接続する複数の第2導電型の第3半導体層と、前記第3半導体層の表面に選択的に設けられた第1導電型の第4半導体層と、前記第3半導体層から離間して、前記第4半導体層の表面に接するように設けられた第2電極と、前記第4半導体層から離間して、前記第3半導体層の表面に接するように設けられた第3電極と、隣接する前記第3半導体層及び隣接する前記第3半導体層の間の前記第1半導体層の上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極とを有する電力用スイッチング素子と、前記第2電極と前記第3電極との間に接続され、前記第3電極の電圧が前記第2電極の電圧を超えないように維持する電圧調整手段とを備えている電力用半導体装置。
(付記1) 第1導電型の第1半導体層と、前記第1半導体層中に膜面に沿う方向に周期的に配置された複数の柱状の第2導電型の第2半導体層と、前記第1半導体層の一方の側の表面に設けられ前記第1半導体層と電気的に接続された第1電極と、前記第1半導体層の他方の側の表面領域に選択的に設けられ前記第2半導体層と接続する複数の第2導電型の第3半導体層と、前記第3半導体層の表面に選択的に設けられた第1導電型の第4半導体層と、前記第3半導体層から離間して、前記第4半導体層の表面に接するように設けられた第2電極と、前記第4半導体層から離間して、前記第3半導体層の表面に接するように設けられた第3電極と、隣接する前記第3半導体層及び隣接する前記第3半導体層の間の前記第1半導体層の上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極とを有する電力用スイッチング素子と、前記第2電極と前記第3電極との間に接続され、前記第3電極の電圧が前記第2電極の電圧を超えないように維持する電圧調整手段とを備えている電力用半導体装置。
(付記2) 前記電力用スイッチング素子と電圧調整手段とは、同一半導体基板上にモノリシックに形成されている付記1に記載の電力用半導体装置。
(付記3) カソードを前記第2電極に接続し、アノードを前記電圧調整手段に接続したショットキバリアダイオードが更に追加されている付記1に記載の電力用半導体装置。
1、2、3、4 電力用半導体装置
10、101 SJ−MOSFET
11 n+型ドレイン層
12 n型ドリフト層
14 p型ドリフト層
15 p型ベース層
16 n+型ソース層
17 p+型バックゲート層
21 ゲート絶縁膜
25 ゲート電極
26 ソース電極
27 バックゲート電極
29 ドレイン電極
31 ソース側端子
33 抵抗
35 SBD(ショットキバリアダイオード)
37 n−MOSFET
38 p−MOSFET
D ドレイン
G ゲート
S ソース
BG バックゲート
Db 内蔵ダイオード
Rb バルク抵抗
Rc チャネル抵抗
Rj JFET抵抗
10、101 SJ−MOSFET
11 n+型ドレイン層
12 n型ドリフト層
14 p型ドリフト層
15 p型ベース層
16 n+型ソース層
17 p+型バックゲート層
21 ゲート絶縁膜
25 ゲート電極
26 ソース電極
27 バックゲート電極
29 ドレイン電極
31 ソース側端子
33 抵抗
35 SBD(ショットキバリアダイオード)
37 n−MOSFET
38 p−MOSFET
D ドレイン
G ゲート
S ソース
BG バックゲート
Db 内蔵ダイオード
Rb バルク抵抗
Rc チャネル抵抗
Rj JFET抵抗
Claims (5)
- 第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層中に膜面に沿う方向に周期的に配置された複数の柱状の第2導電型の第2半導体層と、
前記第1半導体層の一方の側の表面に設けられ前記第1半導体層と電気的に接続された第1電極と、
前記第1半導体層の他方の側の表面領域に選択的に設けられ前記第2半導体層と接続する複数の第2導電型の第3半導体層と、
前記第3半導体層の表面に選択的に設けられた第1導電型の第4半導体層と、
前記第3半導体層から離間して、前記第4半導体層の表面に接するように設けられた第2電極と、
前記第4半導体層から離間して、前記第3半導体層の表面に接するように設けられた第3電極と、
隣接する前記第3半導体層及び隣接する前記第3半導体層の間の前記第1半導体層の上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、
を有する電力用スイッチング素子と、
前記第2電極と前記第3電極との間に接続され、前記第3電極の電圧が前記第2電極の電圧を超えないように維持する電圧調整手段と、
を備えていることを特徴とする電力用半導体装置。 - 前記電圧調整手段は、抵抗であることを特徴とする請求項1に記載の電力用半導体装置。
- 前記電圧調整手段は、カソードが前記第2電極に接続され、アノードが前記第3電極に接続されたショットキバリアダイオード、及び、前記ショットキバリアダイオードに並列に接続された抵抗であることを特徴とする請求項1に記載の電力用半導体装置。
- 前記電圧調整手段は、抵抗及びドレイン−ソース間を前記抵抗に対して並列に接続したFETであることを特徴とする請求項1に記載の電力用半導体装置。
- 前記FETは、nチャネル型MOSFETまたはpチャネル型MOSFETであることを特徴とする請求項4に記載の電力用半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008226419A JP2010062332A (ja) | 2008-09-03 | 2008-09-03 | 電力用半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008226419A JP2010062332A (ja) | 2008-09-03 | 2008-09-03 | 電力用半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010062332A true JP2010062332A (ja) | 2010-03-18 |
Family
ID=42188820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008226419A Pending JP2010062332A (ja) | 2008-09-03 | 2008-09-03 | 電力用半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010062332A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012164078A (ja) * | 2011-02-04 | 2012-08-30 | Seiko Instruments Inc | ボルテージレギュレータ |
US9349853B2 (en) | 2014-03-17 | 2016-05-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor transistor device |
-
2008
- 2008-09-03 JP JP2008226419A patent/JP2010062332A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012164078A (ja) * | 2011-02-04 | 2012-08-30 | Seiko Instruments Inc | ボルテージレギュレータ |
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