JP2010045349A - プローブ試験および選別装置 - Google Patents

プローブ試験および選別装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010045349A
JP2010045349A JP2009179530A JP2009179530A JP2010045349A JP 2010045349 A JP2010045349 A JP 2010045349A JP 2009179530 A JP2009179530 A JP 2009179530A JP 2009179530 A JP2009179530 A JP 2009179530A JP 2010045349 A JP2010045349 A JP 2010045349A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sorting
test
wafer ring
probe
zone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009179530A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5008700B2 (ja
Inventor
Ijo Bo
維如 茫
Hsueh Hung Lin
學宏 林
Eikin Ryu
永欽 劉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MJC Probe Inc
Original Assignee
MJC Probe Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MJC Probe Inc filed Critical MJC Probe Inc
Publication of JP2010045349A publication Critical patent/JP2010045349A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5008700B2 publication Critical patent/JP5008700B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67271Sorting devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68721Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by edge clamping, e.g. clamping ring

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】半導体製造工程の後工程においてのプローブ試験および選別工程を統合した装置を提供する。
【解決手段】試験区26を有し、試験区26はプローブ試験装置を有し、プローブ試験装置はウェハーリング上のチップに試験を行なう。試験済みのウェハーリングは搬送装置22によって試験区26から選別区24に搬送される。選別区24は選別装置を有し、選別装置は試験結果に基づいてウェハーリング上のチップを複数の選別容器中に分配する。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体設備に関し、詳しくは、プローブ試験および選別を統合した設備に関するものである。
従来の半導体製造工程の後工程(Back−end)において、プローバ(Prober)および選別機(Sorter)は分離している。加工後のウェハーはブルーテープ(Blue tape)に貼り付けられ、かつ複数のチップに分割される。ブルーテープは、ウェハーリング(wafer ring)に固定され、かつ引っ張られて複数のチップを分離させる。ウェハーリングは手動または自動輸送工程によってプローバへ搬送され、プローバはウェハーリング上のチップに電気的試験を行う。試験が完了したウェハーリングは人力方式によって選別機へ搬送される。選別機は試験結果に基づいてウェハーリング上のチップを選別容器(bin)にグレードの順に分配する。製造工程全体にあわせるため、ウェハーリングをプローバから選別機まで搬送するまでは数日もかかる。この間に引っ張られたブルーテープは徐々に収縮し、チップの分布位置が変わってしまうため、選別の際に位置の誤りが起こりやすくなる。また、人力方式によってウェハーリングをプローバから選別機まで搬送するステップは人為的ミスが起こりやすいため、製造過程の信頼性に影響をあたえてしまう。
早期から現在に至るまで、製造工程の統合こそが半導体製造工程のうちの重要な展開方向である。関連のある製造工程を同じシステム内に統合すれば、ウェハーを迅速に処理することが可能であるため、処理速度を高めることが可能となる。真空環境においてウェハーを自動輸送すれば、ウェハーを空気中に露出させることを避け、良質の度合を高めることが可能である。設備を統合すれば設備の占有面積を減少させることが可能である。製造工程を統合すれば処理過程の質及び量を高め、コストを削減することが可能なだけでなく、統合後のプロセスによって後工程においてウェハーを人力で搬送する必要がなくなり、人為的ミスを解消することが可能である。
前述した問題に対し、図1に示すプローブ試験および選別を統合した装置が提出された。プローブ試験および選別装置10が起動されると、ウェハーリングはウェハーリング保管区14に搬送され、そののち移動装置102はウェハーリングからチップを取り上げ、搬送区16に送り、プローバ試験装置12は搬送区16内のチップに電気的試験を行う。試験が完了した後、移動装置104は試験結果に基づいて搬送区16から試験済みのチップを選別容器保管区18中の選別容器に選別する。最後に、試験済みのチップは選別容器保管区18から送出される。このような装置は従来のプローブ試験および選別工程を統合したが、実際に使用してみると、処理速度が遅すぎ、経済効果があまりないため、半導体製造業者は依然としてプローバと選別機を別々に採用する方式を維持する。
本発明の主な目的は、半導体製造工程の後工程においてのプローブ試験および選別工程を統合した装置を提供することである。
本発明によるプローブ試験および選別装置は、試験区を有し、試験区はプローブ試験装置を有し、プローブ試験装置はウェハーリング上のチップに試験を行なう。試験済みのウェハーリングは搬送装置によって試験区から選別区に搬送される。選別区は選別装置を有し、選別装置は試験結果に基づいてウェハーリング上のチップを複数の選別容器中に分配する。
本発明によるプローブ試験および選別装置は、配置区、試験区、ウェハーリング保管区、搬送装置および選別装置を備える。配置区は試験待ちのウェハーリングを載せるのに用いられる。試験区はプローブ試験装置を有し、プローブ試験装置は試験待ちのウェハーリングに試験を行なう。ウェハーリング保管区は、試験済みのウェハーリングの保管に用いられる。搬送装置は、試験待ちのウェハーリングを配置区から試験区に搬送し、試験を進め、そののち試験済みのウェハーリングをウェハーリング保管区に搬送する。選別装置は、試験結果に基づいて試験済みのウェハーリング上のチップを、ウェハーリング保管区から選別容器保管区内の選別容器に分配する。
本発明によるプローブ試験および選別装置は、さらにチップの外観の検査に用いられる外観検査システムを有する。
本発明によるプローブ試験および選別装置は、さらに自動制御方式によって試験対象物を送入する送入装置を有する。
本発明によるプローブ試験および選別を統合した装置は、プローブ試験と選別工程を統合したため、人為的ミスの発生率を減少させ、良質の度合を向上させ、ウェハーの処理速度を維持することが可能である。
従来のプローブ試験及び選別工程を統合した装置を示す配置図である。 本発明の第一実施形態によるプローブ試験および選別装置を示す配置図である。 図2に示す第一実施形態を示す模式図である。 本発明の第二実施形態によるプローブ試験および選別装置を示す配置図である。 図4に示す第二実施形態を示す模式図である。
図1に示す統合装置は、チッブを一つずつ取って試験を進めるため、処理速度が遅すぎる。それに対し、本発明は、プローブ試験のステップを一次処理に設定することによって処理速度を高める。
(第一実施形態)
図2は、本発明の第一実施形態によるプローブ試験および選別装置を示す配置図である。試験待ちのウェハーリングがプローブ試験および選別装置20に搬入された後、試験区26は試験待ちのウェハーリングに試験を行い、試験が完了した後、搬送装置22は試験済みのウェハーリングを選別区24に搬送し、選別を進め、最後に搬出する。本実施形態はウェハーリングに電気的試験を行なうことである。言い換えれば、試験区26は一次処理によってウェハー全体のチップに電気的試験を行なうため、試験速度を上げることが可能である。試験済みのウェハーリングは直接選別区24に搬送され、選別されるため、ブルーテープの収縮現象を最小限に減少させることが可能である。本実施形態において、搬送装置22は機械アームまたはレールによって構成される。
図3は、設備の実体を示す模式図である。ウェハーリングがプローブ試験および選別装置20に搬入された後、プローブ試験装置262はプローブ試験平台264においてウェハーリングに試験を行い、そののち搬送装置22は、試験済みのウェハーリングをウェハーリング保管平台244に搬送し、続いて選別装置246は選別を行なう。試験済みのウェハーリング上のチップは選別装置246によって選別平台242上の選別容器内にグレードの順に分配される。別の実施形態において、チップの外観に欠陥があるか否かを検査するために、プローブ試験平台、ウェハーリング保管平台または選別平台に外観検査システムに配置することが可能である。
(第二実施形態)
図4は、本発明の第二実施形態によるプローブ試験および選別装置を示す配置図である。ウェハーリングがプローブ試験および選別装置30内の配置区32に搬入された後、搬送装置304は配置区32上のウェハーリングを試験区34に搬送する。試験区34はプローブ試験装置を有し、プローブ試験装置によってウェハーリング上のチップに試験を行う。試験が完了した後、搬送装置304は、試験済みのウェハーリングをウェハーリング保管区36に搬送する。選別装置302は、ウェハーリング保管区36中の試験済みのウェハーリングからチップを取り上げ、試験結果に基づいて選別容器保管区38内の選別容器に分配する。選別工程が完了すると、チップは選別容器保管区38から搬出される。本実施形態において、配置区32は緩衝作用を果たすことが可能である。チップの外観に欠陥があるか否かを検査するために、試験区、ウェハーリング保管区または選別装置に外観検査システムに配置すればこのましい。試験対象物の搬入および搬出方式を多様化することが可能である。例えば、ウェハーリングおよび選別容器の搬入および搬出は配置区内に設計されることが可能であり、選別済みのウェハーリングおよび選別容器は搬送装置304によって配置区へ搬送され、そののち搬出されることが可能である。選別工程が完了した後、搬送装置304によって選別が完了した選別容器を試験区34に搬送し、そののち選別済みのチップにプローブ試験または抜き取り検査を行なうことによってチップ選別の良質の度合を確認し、そして搬送装置304によって良質の度合が低すぎた選別容器をウェハーリング保管区36に搬送し、再び選別工程を行なうことが可能である。別の実施形態は、配置区においてウェハーリングの搬入および搬出を行い、選別容器保管区において選別容器の搬入及び搬出を行なうことが可能である。
図5は、設備の実体を示す模式図である。自動搬入装置308は、プローブ試験および選別装置30の右側に配置され、ウェハーリング306は搬入装置308から配置区32に搬入された後、搬送装置304によって取り上げられ、試験区34に搬送され、試験を受ける。試験済みのウェハーリングは搬送装置304によってウェハーリング保管区36に搬送される。選別装置302は真空吸引力を供給可能なアームによってウェハーリング保管区36中のウェハーリングからチップを取り上げ、続いてチップのグレードによって選別容器保管区38中の選別容器に分配する。本実施形態において、搬送装置304は機械アームである。別の実施形態において、搬送装置304はレールまたは効果が同等の機構から構成することが可能である。
以上、本発明は、上記実施形態になんら限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の形態で実施可能である。
10:プローブ試験および選別装置、 102:移動装置、 104:移動装置、 12:プローブ試験装置、 14:ウェハーリング保管区、 16:搬送区、 18:選別容器保管区、 20:プローブ試験及び選別装置、 22:搬送装置、 24:選別区、 242:選別平台、 244:ウェハーリング保管平台、 246:選別装置、 26:試験区、 262:プローブ試験装置、264:プローブ試験平台、 30:プローブ試験及び選別装置、 302:選別装置、 304:搬送装置、 306:ウェハーリング、 308:搬入装置、 32:配置区、 34:試験区、 36:ウェハーリング保管区、 38:選別容器保管区

Claims (8)

  1. 試験待ちのウェハーリングを載せるのに用いられる配置区と、
    試験待ちのウェハーリング上のチップに試験を行なうのに用いるプローブ試験装置を有する試験区と、
    試験済みのウェハーリングの保管に用いられるウェハーリング保管区と、
    試験待ちのウェハーリングを配置区から試験区に搬送し、かつ試験済みのウェハーリングをウェハーリング保管区に搬送する搬送装置と、
    試験済みのウェハーリング上のチップを選別し、かつウェハーリング保管区から選別容器保管区内の選別容器に分配する選別装置と、
    を備えることを特徴とするプローブ試験および選別装置。
  2. さらに試験区、選別装置またはウェハーリング保管区のうちの一つに配置される外観検査システムを備えることを特徴とする請求項1に記載のプローブ試験および選別装置。
  3. さらに複数のウェハーリングを収容し、試験待ちのウェハーリングを配置区に自動搬入することができる搬入装置を備えることを特徴とする請求項1に記載のプローブ試験および選別装置。
  4. 選別装置は、真空吸引力を供給可能なアームによってウェハーリング保管区中のウェハーリングからチップを取り上げ、続いてチップのグレードによって選別容器保管区内の選別容器に分配することを特徴とする請求項1に記載のプローブ試験および選別装置。
  5. 搬送装置は、機械アームまたはレールを有することを特徴とする請求項1に記載のプローブ試験および選別装置。
  6. 搬送装置は、選別容器を配置区、試験区、ウェハーリング保管区または選別容器保管区のうちの一つに搬送することを特徴とする請求項1に記載のプローブ試験および選別装置。
  7. 搬送装置は、配置区または選別容器保管区から選別容器を試験区に搬送することを特徴とする請求項1に記載のプローブ試験および選別装置。
  8. 選別容器に載せたチップは、選別装置によって選別され、選別工程が完了したチップであることを特徴とする請求項7に記載のプローブ試験および選別装置。
JP2009179530A 2008-08-15 2009-07-31 プローブ試験および選別装置 Expired - Fee Related JP5008700B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW097131281A TW201007868A (en) 2008-08-15 2008-08-15 Probing and sorting device
TW097131281 2008-08-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010045349A true JP2010045349A (ja) 2010-02-25
JP5008700B2 JP5008700B2 (ja) 2012-08-22

Family

ID=42016448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009179530A Expired - Fee Related JP5008700B2 (ja) 2008-08-15 2009-07-31 プローブ試験および選別装置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5008700B2 (ja)
KR (1) KR101117655B1 (ja)
TW (1) TW201007868A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101707805B1 (ko) * 2015-09-15 2017-02-17 (주) 윈팩 웨이퍼 재구성 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01202832A (ja) * 1988-02-08 1989-08-15 Nec Kyushu Ltd 半導体製造装置のプローバー
JP2000162275A (ja) * 1998-12-01 2000-06-16 Fujitsu Ltd 半導体試験方法及び半導体試験装置
JP2001021617A (ja) * 1999-07-07 2001-01-26 Tesetsuku:Kk 電子部品の搬送方法及び搬送装置
JP2008172203A (ja) * 2007-11-19 2008-07-24 Hitachi High-Technologies Corp 半導体チップの選別装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100274595B1 (ko) * 1997-10-06 2000-12-15 윤종용 반도체 프로브 스테이션, 이의 냉각장치, 이의 냉각방법 그리고 이를 이용한 이디에스 방법
US6781363B2 (en) * 2001-06-21 2004-08-24 Han-Ping Chen Memory sorting method and apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01202832A (ja) * 1988-02-08 1989-08-15 Nec Kyushu Ltd 半導体製造装置のプローバー
JP2000162275A (ja) * 1998-12-01 2000-06-16 Fujitsu Ltd 半導体試験方法及び半導体試験装置
JP2001021617A (ja) * 1999-07-07 2001-01-26 Tesetsuku:Kk 電子部品の搬送方法及び搬送装置
JP2008172203A (ja) * 2007-11-19 2008-07-24 Hitachi High-Technologies Corp 半導体チップの選別装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP5008700B2 (ja) 2012-08-22
TW201007868A (en) 2010-02-16
KR20100021359A (ko) 2010-02-24
KR101117655B1 (ko) 2012-03-20
TWI368966B (ja) 2012-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6523336B2 (ja) 高速度回転ソータ
US8056698B2 (en) Tray handling apparatus and semiconductor device inspecting method using the same
US7151388B2 (en) Method for testing semiconductor devices and an apparatus therefor
TWI480560B (zh) 用於測試電子元件的分選系統及方法
US7268534B2 (en) Sorting handler for burn-in tester
CN101804405B (zh) 包含有双缓冲器的电子器件分选机
JP2921937B2 (ja) Ic検査装置
US20070262769A1 (en) Handler for sorting packaged chips
JP2007033426A (ja) 電子部品テストシステム
JP2002544661A (ja) ウェハの処理装置
KR19980024798A (ko) 반도체 장치운반 및 취급장치와 함께 사용하기 위한 제어시스템
CN105983538B (zh) 一种高产能的测试分选机系统
WO2007046629A1 (en) Semiconductor package sorting method
JP5008700B2 (ja) プローブ試験および選別装置
US6521853B1 (en) Method and apparatus for sorting semiconductor devices
JP3099235B2 (ja) ウエハ検査装置
TW202147975A (zh) 置料裝置及其應用之作業設備
JP2000068296A (ja) ダイボンダ
JPH08184643A (ja) Icテスタ用ハンドラにおける再検査方法
WO2008068798A1 (ja) 電子部品ハンドリング装置、電子部品ハンドリングシステムおよび電子部品試験方法
JPH10340937A (ja) 複合icテストシステム
CN102136440A (zh) 点测及分选装置
JP2003163254A (ja) ウェーハ試験用ウェーハハンドリング装置および方法
TW201629509A (zh) 具轉載台之電子元件測試分類機
TW202333277A (zh) Ic封裝選擇性卸載之系統及方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110805

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111007

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120106

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120112

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120207

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120514

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120529

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5008700

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150608

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees