JP2003163254A - ウェーハ試験用ウェーハハンドリング装置および方法 - Google Patents
ウェーハ試験用ウェーハハンドリング装置および方法Info
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェーハ試験におけるウェーハのハンドリン
グを容易にする。 【解決手段】 ウェーハハンドリング装置は、選択され
たウェーハを試験するための測定設備（４１０，４２
０，４３０，４４０，４５０，４６０）と固定型ウェー
ハ保管システム（３００）とを備える。固定型ウェーハ
保管システム（３００）は、ウェーハを保管するための
バッファ（３１０）と、選択されたウェーハをバッファ
（３１０）とウェーハ輸送手段（３３０）との間で移送
するための搭載／取出しステーション（３２０）とを備
える。ウェーハ輸送手段は、搭載／取出しステーション
（３２０）と測定設備（４１０，４２０，４３０，４４
０，４５０，４６０）との間で選択されたウェーハを移
送するために提供される。
グを容易にする。 【解決手段】 ウェーハハンドリング装置は、選択され
たウェーハを試験するための測定設備（４１０，４２
０，４３０，４４０，４５０，４６０）と固定型ウェー
ハ保管システム（３００）とを備える。固定型ウェーハ
保管システム（３００）は、ウェーハを保管するための
バッファ（３１０）と、選択されたウェーハをバッファ
（３１０）とウェーハ輸送手段（３３０）との間で移送
するための搭載／取出しステーション（３２０）とを備
える。ウェーハ輸送手段は、搭載／取出しステーション
（３２０）と測定設備（４１０，４２０，４３０，４４
０，４５０，４６０）との間で選択されたウェーハを移
送するために提供される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に半導体生産
の分野に関し、より詳細にはウェーハを試験するための
ウェーハハンドリング装置およびその方法に関する。
の分野に関し、より詳細にはウェーハを試験するための
ウェーハハンドリング装置およびその方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハあるいは他の同様な基板
は、一般に、前記ウェーハをある種の処理手段から別の
処理手段に移送することを伴う、多くの処理工程を経
る。例えば、ウェーハ成長室中においてある処理を受け
たウェーハは、クリーニングおよび乾燥のための別の処
理手段に移送され、次に、それらのウェーハは付加的な
処理工程の異なる処理手段に移送されなければならない
ことがある。多くの場合、異なる処理工程間においてウ
ェーハを保管する必要がある。高品質基準を保証するた
めに、異なる処理工程間において対照標準ウェーハおよ
び監視用ウェーハ（モニターウェーハ）を試験すること
が必要である。しかしながら、これらの試験を行なうの
は複雑であり費用が掛かる。これは、例えば、通常、試
験されるべきウェーハが、それらが保管されている多数
のポッドにわたって分散されているという事実による。
したがって、それぞれの測定設備、あるいは測定設備を
形成する単一試験ステーション同士の間において、試験
されるべきウェーハを輸送するのは論理的に難しい。
は、一般に、前記ウェーハをある種の処理手段から別の
処理手段に移送することを伴う、多くの処理工程を経
る。例えば、ウェーハ成長室中においてある処理を受け
たウェーハは、クリーニングおよび乾燥のための別の処
理手段に移送され、次に、それらのウェーハは付加的な
処理工程の異なる処理手段に移送されなければならない
ことがある。多くの場合、異なる処理工程間においてウ
ェーハを保管する必要がある。高品質基準を保証するた
めに、異なる処理工程間において対照標準ウェーハおよ
び監視用ウェーハ（モニターウェーハ）を試験すること
が必要である。しかしながら、これらの試験を行なうの
は複雑であり費用が掛かる。これは、例えば、通常、試
験されるべきウェーハが、それらが保管されている多数
のポッドにわたって分散されているという事実による。
したがって、それぞれの測定設備、あるいは測定設備を
形成する単一試験ステーション同士の間において、試験
されるべきウェーハを輸送するのは論理的に難しい。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、選択された
ウェーハ、特に対照標準ウェーハおよび監視用ウェーハ
を試験するための物流に関する労力を低減するウェーハ
ハンドリング装置およびウェーハ試験方法を提供するこ
とを目的とする
ウェーハ、特に対照標準ウェーハおよび監視用ウェーハ
を試験するための物流に関する労力を低減するウェーハ
ハンドリング装置およびウェーハ試験方法を提供するこ
とを目的とする
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、請求項１に記載の発明は、ウェーハハンドリング
装置であって、選択されたウェーハを試験するための測
定設備と、固定型ウェーハ保管システムとを備え、前記
固定型ウェーハ保管システムは複数のウェーハを保管す
るためのバッファと、前記バッファとウェーハ輸送手段
との間で前記選択されたウェーハを移動させるための少
なくとも１つの搭載／取出しステーションを有し、前記
ウェーハ輸送手段は、前記選択されたウェーハのうちの
少なくとも１つを前記搭載／取出しステーションと前記
測定設備の間で移送するために備えられていることを要
旨とする。
めに、請求項１に記載の発明は、ウェーハハンドリング
装置であって、選択されたウェーハを試験するための測
定設備と、固定型ウェーハ保管システムとを備え、前記
固定型ウェーハ保管システムは複数のウェーハを保管す
るためのバッファと、前記バッファとウェーハ輸送手段
との間で前記選択されたウェーハを移動させるための少
なくとも１つの搭載／取出しステーションを有し、前記
ウェーハ輸送手段は、前記選択されたウェーハのうちの
少なくとも１つを前記搭載／取出しステーションと前記
測定設備の間で移送するために備えられていることを要
旨とする。
【０００５】請求項２に記載の発明は、ウェーハを試験
する方法であって、ａ）静止保管システムに保管された
複数のウェーハから試験されるべきウェーハを選択する
ことと、ｂ）前記試験されるべきウェーハのうちの少な
くとも一部を前記静止保管システムから搭載／取出しス
テーションを経由してウェーハ輸送手段へ移動させるこ
とと、ｃ）前記ウェーハ輸送手段によって、前記験され
るべきウェーハのうちの少なくとも一部を測定設備に移
送することと、少なくとも１つの試験工程を行なうこと
とからなることを要旨とする。
する方法であって、ａ）静止保管システムに保管された
複数のウェーハから試験されるべきウェーハを選択する
ことと、ｂ）前記試験されるべきウェーハのうちの少な
くとも一部を前記静止保管システムから搭載／取出しス
テーションを経由してウェーハ輸送手段へ移動させるこ
とと、ｃ）前記ウェーハ輸送手段によって、前記験され
るべきウェーハのうちの少なくとも一部を測定設備に移
送することと、少なくとも１つの試験工程を行なうこと
とからなることを要旨とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明によるウェーハハンドリン
グ装置は、選択されたウェーハを試験するための測定設
備４１０，４２０，４３０，４４０，４５０，４６０
と、固定型ウェーハ保管システム３００とを備え、前記
固定型ウェーハ保管システム３００は複数のウェーハを
保管するためのバッファ３１０と、前記バッファ３１０
とウェーハ輸送手段３３０との間で前記選択されたウェ
ーハを移動させるための少なくとも１つの搭載／取出し
ステーション３２０とを備える。前記ウェーハ輸送手段
は、少なくとも１つの前記選択されたウェーハを前記搭
載／取出しステーション３２０と前記測定設備４１０，
４２０，４３０，４４０，４５０，４６０の間で移送す
るために備えられる。
グ装置は、選択されたウェーハを試験するための測定設
備４１０，４２０，４３０，４４０，４５０，４６０
と、固定型ウェーハ保管システム３００とを備え、前記
固定型ウェーハ保管システム３００は複数のウェーハを
保管するためのバッファ３１０と、前記バッファ３１０
とウェーハ輸送手段３３０との間で前記選択されたウェ
ーハを移動させるための少なくとも１つの搭載／取出し
ステーション３２０とを備える。前記ウェーハ輸送手段
は、少なくとも１つの前記選択されたウェーハを前記搭
載／取出しステーション３２０と前記測定設備４１０，
４２０，４３０，４４０，４５０，４６０の間で移送す
るために備えられる。
【０００７】本発明はさらにウェーハを試験する方法を
提供する。該方法は、ａ）静止保管システム３００に保
管された複数のウェーハから試験されるべきウェーハを
選択することと、ｂ）前記試験されるべきウェーハのう
ちの少なくとも一部を前記静止保管システム３００から
搭載／取出しステーション３２０を経由してウェーハ輸
送手段３３０へ移動させることと、ｃ）前記ウェーハ輸
送手段３３０によって前記験されるべきウェーハ少なく
とも一部を測定設備４１０，４２０，４３０，４４０，
４５０，４６０に移送することと、少なくとも１つの試
験工程を行なうこととからなる。
提供する。該方法は、ａ）静止保管システム３００に保
管された複数のウェーハから試験されるべきウェーハを
選択することと、ｂ）前記試験されるべきウェーハのう
ちの少なくとも一部を前記静止保管システム３００から
搭載／取出しステーション３２０を経由してウェーハ輸
送手段３３０へ移動させることと、ｃ）前記ウェーハ輸
送手段３３０によって前記験されるべきウェーハ少なく
とも一部を測定設備４１０，４２０，４３０，４４０，
４５０，４６０に移送することと、少なくとも１つの試
験工程を行なうこととからなる。
【０００８】本発明によるウェーハハンドリング装置お
よびウェーハ試験方法の双方によれば、試験されるべき
ウェーハを実際の保管場所から測定設備まで輸送するた
めの物流的な労力が低減され得るので、必要なウェーハ
試験をより容易に行なうことができる。
よびウェーハ試験方法の双方によれば、試験されるべき
ウェーハを実際の保管場所から測定設備まで輸送するた
めの物流的な労力が低減され得るので、必要なウェーハ
試験をより容易に行なうことができる。
【０００９】図１は、本発明によるウェーハハンドリン
グ装置の概略平面図を示す。符号３００で示した静止保
管システムは、数千個のウェーハ、例えば１０００個、
５０００個または１００００個のウェーハを保管するた
めのバッファ３１０を備える。好ましくは、ウェーハは
前記バッファ３１０においてポッド内に保管される。こ
れらのポッドは、例えば当業界において公知であるＦＯ
ＵＰ（正面開口一体型ポッド）またはＳＭＩＦ（標準的
な機械的インターフェース）ボックスであってよい。静
止保管システム３００はさらに搭載／取出しステーショ
ン３２０を備える。例えば、試験が必要なウェーハへの
迅速なアクセスを提供するために、静止保管システム３
００は複数の単体ウェーハおよび／またはロット単位の
ウェーハを追跡（トラッキング）可能であることが好ま
しい。図１の実施形態では、ウェーハ輸送手段はロボッ
ト３３０によって具体化されている。これらの少なくと
も１つのロボット３３０は、少なくとも１つの試験が必
要なウェーハを移送するために、搭載／取出しステーシ
ョン３２０と相互に作用することが可能である。ロボッ
ト３３０は、測定設備へ、またその測定設備の各単一ス
テーション間において試験されるべきウェーハを輸送す
る。図１によると、この測定設備は以下のステーショ
ン、すなわち、粒子監視ステーション４１０、応力試験
ステーション４２０、厚さ試験ステーション４３０、蛍
光Ｘ線分析ステーションおよび原子力顕微鏡ステーショ
ン４４０、オリエンタおよびマップステーション４５
０、およびオペークフィルム厚試験ステーション４６０
を備える。試験ステーション４１０，４２０，４３０は
第１のグループ４８０を形成し、試験ステーション４４
０，４５０，４６０は第２のグループ４９０を形成して
いる。好ましくは、異なる試験ステーションによって形
成されたグループは互いに隣接して配置される。
グ装置の概略平面図を示す。符号３００で示した静止保
管システムは、数千個のウェーハ、例えば１０００個、
５０００個または１００００個のウェーハを保管するた
めのバッファ３１０を備える。好ましくは、ウェーハは
前記バッファ３１０においてポッド内に保管される。こ
れらのポッドは、例えば当業界において公知であるＦＯ
ＵＰ（正面開口一体型ポッド）またはＳＭＩＦ（標準的
な機械的インターフェース）ボックスであってよい。静
止保管システム３００はさらに搭載／取出しステーショ
ン３２０を備える。例えば、試験が必要なウェーハへの
迅速なアクセスを提供するために、静止保管システム３
００は複数の単体ウェーハおよび／またはロット単位の
ウェーハを追跡（トラッキング）可能であることが好ま
しい。図１の実施形態では、ウェーハ輸送手段はロボッ
ト３３０によって具体化されている。これらの少なくと
も１つのロボット３３０は、少なくとも１つの試験が必
要なウェーハを移送するために、搭載／取出しステーシ
ョン３２０と相互に作用することが可能である。ロボッ
ト３３０は、測定設備へ、またその測定設備の各単一ス
テーション間において試験されるべきウェーハを輸送す
る。図１によると、この測定設備は以下のステーショ
ン、すなわち、粒子監視ステーション４１０、応力試験
ステーション４２０、厚さ試験ステーション４３０、蛍
光Ｘ線分析ステーションおよび原子力顕微鏡ステーショ
ン４４０、オリエンタおよびマップステーション４５
０、およびオペークフィルム厚試験ステーション４６０
を備える。試験ステーション４１０，４２０，４３０は
第１のグループ４８０を形成し、試験ステーション４４
０，４５０，４６０は第２のグループ４９０を形成して
いる。好ましくは、異なる試験ステーションによって形
成されたグループは互いに隣接して配置される。
【００１０】グループ４８０，４９０の各々には、対応
する試験ステーション間においてウェーハを移送するた
めのロボット３３０が割り当てられる。異なる試験工程
の間において１つ以上のウェーハを保管するために、中
間保管手段４７０が備えられる。図１に示される実施形
態によると、これらの中間保管手段４７０はポッド４７
０によって具体化されている。図１によるウェーハハン
ドリング装置は、測定用の単体ウェーハまたはウェーハ
群のより最適なハンドリング、および試験用、キャリブ
レーション用、対照基準用ウェーハのより最適な保管を
提供する。更に、図１による実施形態は、異なる測定工
程を通過する単体ウェーハのより最適な経路設定を提供
する。
する試験ステーション間においてウェーハを移送するた
めのロボット３３０が割り当てられる。異なる試験工程
の間において１つ以上のウェーハを保管するために、中
間保管手段４７０が備えられる。図１に示される実施形
態によると、これらの中間保管手段４７０はポッド４７
０によって具体化されている。図１によるウェーハハン
ドリング装置は、測定用の単体ウェーハまたはウェーハ
群のより最適なハンドリング、および試験用、キャリブ
レーション用、対照基準用ウェーハのより最適な保管を
提供する。更に、図１による実施形態は、異なる測定工
程を通過する単体ウェーハのより最適な経路設定を提供
する。
【００１１】本発明について特定の構造、装置および方
法の点から記載したが、当業者であれば、本願の記載に
基づいて、本発明は単にそのような例に制限されるもの
ではなく、本発明の全範囲は特許請求の範囲によって適
切に決定されるものであることを理解するであろう。
法の点から記載したが、当業者であれば、本願の記載に
基づいて、本発明は単にそのような例に制限されるもの
ではなく、本発明の全範囲は特許請求の範囲によって適
切に決定されるものであることを理解するであろう。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、半導体の製造において
ウェーハを試験する際に、ウェーハのより容易なハンド
リングが可能となる。
ウェーハを試験する際に、ウェーハのより容易なハンド
リングが可能となる。
【図１】 本発明によるウェーハハンドリング装置の概
略平面図。
略平面図。
３００…固定型ウェーハ保管システム、３３０…ウェー
ハ輸送手段、３１０…バッファ、３２０…搭載／取出し
ステーション、４１０，４２０，４３０，４４０，４５
０，４６０…測定設備。
ハ輸送手段、３１０…バッファ、３２０…搭載／取出し
ステーション、４１０，４２０，４３０，４４０，４５
０，４６０…測定設備。
フロントページの続き
(72)発明者 イラジ シャーバンディ
アメリカ合衆国 78664 テキサス州 ラ
ウンド ロック グレン ドライブ 210
(72)発明者 ディルク アダーホルト
ドイツ連邦共和国 01097 ドレスデン
ヨハン―メイヤー―シュトラーセ 12
(72)発明者 ペギー ジョン
ドイツ連邦共和国 01109 ドレスデン
ゲーテシュトラーセ 22
(72)発明者 ラルフ ツェドリッツ
ドイツ連邦共和国 01129 ドレスデン
ボリバーシュトラーセ 15
Ｆターム(参考） 4M106 AA01 AA20 BA10 BA11 DG01
DG05 DG28 DH03 DH60
5F031 CA02 CA11 DA08 DA17 EA14
FA01 FA07 FA09 FA14 FA15
MA04 MA09 MA33 PA02
Claims (2)
- 【請求項１】 選択されたウェーハを試験するための測
定設備と、固定型ウェーハ保管システムとを備え、前記
固定型ウェーハ保管システムは複数のウェーハを保管す
るためのバッファと、前記バッファとウェーハ輸送手段
との間で前記選択されたウェーハを移動させるための少
なくとも１つの搭載／取出しステーションを有し、前記
ウェーハ輸送手段は、前記選択されたウェーハのうちの
少なくとも１つを前記搭載／取出しステーションと前記
測定設備の間で移送するために備えられている、ウェー
ハハンドリング装置。 - 【請求項２】 ウェーハを試験する方法であって、 ａ）静止保管システムに保管された複数のウェーハから
試験されるべきウェーハを選択することと、 ｂ）前記試験されるべきウェーハのうちの少なくとも一
部を前記静止保管システムから搭載／取出しステーショ
ンを経由してウェーハ輸送手段へ移動させることと、 ｃ）前記ウェーハ輸送手段によって、前記験されるべき
ウェーハのうちの少なくとも一部を測定設備に移送する
ことと、少なくとも１つの試験工程を行なうこととから
なる方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US10/016638 | 2001-10-30 | ||
| US10/016,638 US20030082031A1 (en) | 2001-10-30 | 2001-10-30 | Wafer handling device and method for testing wafers |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003163254A true JP2003163254A (ja) | 2003-06-06 |
Family
ID=21778166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002315861A Pending JP2003163254A (ja) | 2001-10-30 | 2002-10-30 | ウェーハ試験用ウェーハハンドリング装置および方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20030082031A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003163254A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004007105A1 (en) * | 2002-07-15 | 2004-01-22 | Aviza Technology, Inc. | Apparatus and method for backfilling a semiconductor wafer process chamber |
| WO2006004718A1 (en) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Brooks Automation, Inc. | Non productive wafer buffer module for substrate processing apparatus |
| WO2007107983A2 (en) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Shlomo Shmuelov | Storage and purge system for semiconductor wafers |
| JP4670808B2 (ja) * | 2006-12-22 | 2011-04-13 | ムラテックオートメーション株式会社 | コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ |
-
2001
- 2001-10-30 US US10/016,638 patent/US20030082031A1/en not_active Abandoned
-
2002
- 2002-10-30 JP JP2002315861A patent/JP2003163254A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030082031A1 (en) | 2003-05-01 |
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