JP2010044233A - 塗布、現像方法及び塗布、現像装置。 - Google Patents
塗布、現像方法及び塗布、現像装置。 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ウエハWの表面にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、その後レジスト膜が形成されたウエハWの表面を露光して、この露光処理されたウエハWの表面に、酸性アルコールLを供給して、当該表面に形成されているレジスト膜の低分子層の一部を溶解し、さらに、その後行われる現像処理に用いられる現像液に対する当該低分子層の溶解性を高める。
【選択図】図7
Description
レジスト膜が形成された基板の表面を露光する工程と、
露光処理された基板の表面に、アルコールを供給して、当該表面を洗浄する洗浄工程と、
その後、基板の表面に現像液を供給して、レジストパターンを形成する現像工程と、を備えたことを特徴とする。
また、前記アルコールは酸と混合されて供給されることを特徴とする。
前記洗浄工程は、前記加熱工程の前に行われることを特徴とする構成としてもよく。
また、露光された基板を現像工程の前に加熱処理する加熱工程を含み、
前記洗浄工程は、前記加熱工程の後に行われることを特徴とする構成としてもよい。
基板保持部とこの基板保持部に保持された基板の表面を洗浄するためにアルコールを吐出する洗浄ノズルとを有する洗浄モジュールと、
露光された基板に対して現像モジュールにて現像が行なわれる前に前記洗浄モジュールにて洗浄を行うように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
また、前記塗布、現像装置は、前記洗浄ノズルからアルコールを酸に混合した薬液を前記基板の表面に吐出するための薬液供給系を備えたことを特徴とする構成としてもよい。
また、前記塗布、現像装置は、露光された基板を現像する前に加熱処理する加熱モジュールを備え、
前記制御部は、露光された基板に対して、前記加熱モジュールに搬入する前に洗浄モジュールにて洗浄を行なうように制御信号を出力することを特徴とする構成としてもよく。
前記制御部は、露光された基板に対して、前記加熱モジュールにて加熱処理された後に洗浄モジュールにて洗浄を行なうように制御信号を出力することを特徴とする構成としてもよい。
また、前記塗布、現像装置の前記洗浄モジュールにおける基板保持部は、現像モジュールにおける基板保持部を兼用していることを特徴とする構成としてもよい。
[酸性アルコールLによる処理が行われていないウエハW]
図12(a)は、現像後にリンスAでウエハWを洗浄したものであり、黒点で表される現像欠陥の数は58464個であった。図12(b)は、現像後にリンスBでウエハWを洗浄したものであり、現像欠陥は3844個であった。このことより、リンスBの現像欠陥の除去効率は約93%であることが分かる。
[酸性アルコールLによる処理が行われたウエハW]
図12(c)は現像後にリンスAでウエハWを洗浄したものであり、現像欠陥は26816個であった。図12(a)との現像欠陥の差は約21000個であり、大幅に欠陥が改善されている。また、図12(d)は現像後にリンスBでウエハWを洗浄したものであり、現像欠陥は644個であった。図12(b)との現像欠陥の差は約3000個であり、欠陥数が改善されていることが分かる。また、リンスBによる現像欠陥の除去効率は約98%であり、現像前にウエハWが酸性アルコールLによる処理が行われることにより除去効率が上昇していることが分かる。
R レジスト
P 不溶解成分
L 酸性アルコール
COT レジスト塗布モジュール
PEV 加熱モジュール
DEV 現像モジュール
3 薬液リンスモジュール
41 薬液ノズル
51 酸性アルコール貯留タンク
71 酸性溶液貯留タンク
Claims (9)
- 基板の表面にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する工程と、
レジスト膜が形成された基板の表面を露光する工程と、
露光処理された基板の表面に、アルコールを供給して、当該表面を洗浄する洗浄工程と、
その後、基板の表面に現像液を供給して、レジストパターンを形成する現像工程と、を備えたことを特徴とする塗布、現像方法。 - 前記アルコールは酸と混合されて供給されることを特徴とする請求項1に記載の塗布、現像方法。
- 露光された基板を現像工程の前に加熱処理する加熱工程を含み、
前記洗浄工程は、前記加熱工程の前に行われることを特徴とする請求項1または2に記載の塗布、現像方法。 - 露光された基板を現像工程の前に加熱処理する加熱工程を含み、
前記洗浄工程は、前記加熱工程の後に行われることを特徴とする請求項1または2に記載の塗布、現像方法。 - 基板の表面にレジスト液を塗布する塗布モジュールと、レジスト膜が形成され、露光された基板を現像する現像モジュールと、を備えた塗布、現像装置において、
基板保持部とこの基板保持部に保持された基板の表面を洗浄するためにアルコールを吐出する洗浄ノズルとを有する洗浄モジュールと、
露光された基板に対して現像モジュールにて現像が行なわれる前に前記洗浄モジュールにて洗浄を行うように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - 前記洗浄ノズルからアルコールを酸に混合した薬液を前記基板の表面に吐出するための薬液供給系を備えたことを特徴とする請求項5に記載の塗布、現像装置。
- 露光された基板を現像する前に加熱処理する加熱モジュールを備え、
前記制御部は、露光された基板に対して、前記加熱モジュールに搬入する前に洗浄モジュールにて洗浄を行なうように制御信号を出力することを特徴とする請求項5または6に記載の塗布、現像装置。 - 露光された基板を現像する前に加熱処理する加熱モジュールを備え、
前記制御部は、露光された基板に対して、前記加熱モジュールにて加熱処理された後に洗浄モジュールにて洗浄を行なうように制御信号を出力することを特徴とする請求項5または6に記載の塗布、現像装置。 - 前記洗浄モジュールにおける基板保持部は、現像モジュールにおける基板保持部を兼用していることを特徴とする請求項5または6に記載の塗布、現像装置。
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2008
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