JP2010033310A - タッチパネルおよび表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】表面に生じる凹凸を小さくすることの可能なタッチパネルおよびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】接着層40の上面側の配線層13A,13Bの両側面に沿ってスペーサ層14が設けられると共に、接着層40の下面側の配線層23A,23Bの両側面に沿ってスペーサ層24が設けられている。製造過程において、接着層40がスペーサ層14,24の脇にはみ出して透明基板11,21や抵抗膜12,22に接触することがない程度に、スペーサ層14,24の幅が規定されている。
【選択図】図2

Description

本発明は、指やペンなどの検出対象物の表示面上の位置を検出するタッチパネルおよびそれを備えた表示装置に関する。
従来から、指やペンなどの検出対象物が表示装置の表示面に接触した位置を検出する技術が知られている。その中でも代表的で一般に広く普及している技術として、タッチパネルを備えた表示装置が挙げられる。このタッチパネルも種々のタイプのものが存在するが、一般に普及しているものとして抵抗膜方式が挙げられる。この方式では、パネル表面が、例えば、互いに対向するガラスとフィルムとの間に非常に小さなスペーサを挟み込んだ積層構造となっており、ガラスおよびフィルムの互いに向かい合う面に、透明な電極格子が設けられている。そして、指やペンでフィルムの表面に接触することで、フィルムがたわみ、フィルム面の透明電極とガラス面の透明電極とが互いに接触し、電流が流れるので、ガラス面、フィルム面それぞれの透明電極の抵抗による分圧比を測定することで、指やペンの位置を検出することができる。したがって、このようなタッチパネルを用いることで、ユーザは直感的に操作することが可能である。
図9は、上記した抵抗膜方式のタッチパネルの概略構成を斜視的に表したものである。図10は、図9のタッチパネルを分解して表したものである。このタッチパネルは、例えば、所定の間隙を介して対向配置された一対の表側基板110および裏側基板120を備えている。一対の上側基板110および下側基板120の間には、フレキシブルプリント配線板(FPC)130と接着層140が設けられている。
上側基板110は、指やペンなどが接触する接触面110Aとなる透明基板111を有している。透明基板111のうち接触面110Aとは反対側の面(下面)には、抵抗膜112が設けられている。透明基板111の下面のうち抵抗膜112の周囲に、抵抗膜112に連結されると共に電気的に接続された帯状の配線層113A,113Bが設けられている。これら配線層113A,113Bの一端が、FPC130の端部130Aとの対向領域に設けられており、FPC130の電極(図示せず)と接触している。
下側基板120は、指やペンなどで上側基板110を接触した際に抵抗膜112が接触する抵抗膜122(後述)を支持する透明基板121を有している。透明基板121のうち上側基板110との対向面(上面)であって、かつ抵抗膜112との対向領域には、上記した抵抗膜122が設けられており、透明基板121の上面のうち抵抗膜122の周囲に、抵抗膜122に連結された帯状の配線層123A,123Bが設けられている。これら配線層123A,123Bの一端が、FPC130の端部130Aとの対向領域に設けられており、FPC130の電極と接触している。
接着層140は、抵抗膜112との対向領域に開口140Aを有する環形状となっており、透明基板111上の配線層113A,113Bと、透明基板121上の配線層123A,123Bとの間に配置されている。これにより、接着層140は、配線層113A,113Bと配線層123A,123Bとを互いに絶縁分離しつつ、上側基板110と下側基板120とを互いに接着している。この接着層140は、FPC130との対応領域に切り欠き140Bを有しており、厚さ方向から見てFPC130と重なり合わないようになっている。接着層140は、例えば、両面テープなどによって構成されている。
なお、抵抗膜方式のタッチパネルの一般的な構成については、例えば、以下に示した特許文献1などにも記載されている。
特開2002−182854号公報
ところで、図10で例示したタッチパネルは、上側基板110および下側基板120でFPC130の端部130Aおよび接着層140を挟み込んだ状態で、上側基板110および下側基板120を積層方向から押圧することにより形成される。ここで、接着層140は、上述したように、配線層113A,113Bと配線層123A,123Bとの間に配置されているので、製造過程において、上側基板110および下側基板120を積層方向から押圧した際に、上側基板110の接触面110Aに、配線層113A,113Bに沿って凹凸が生じてしまう。その結果、接触面110A全体をデバイスの筐体の一部として用いた場合に、筐体表面のフラット感が損なわれてしまうという問題があった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、表面に生じる凹凸を小さくすることの可能なタッチパネルおよびそれを備えた表示装置を提供することにある。
本発明のタッチパネルは、離間して対向配置された第1透明基板および第2透明基板を備えている。本発明のタッチパネルでは、第1透明基板のうち第2透明基板との対向面に第1配線層が設けられており、少なくとも第1配線層の両側面に沿って第1スペーサ層が設けられている。一方、第2透明基板のうち第1透明基板との対向面には第2配線層が設けられており、少なくとも第2配線層の両側面に沿って第2スペーサ層が設けられている。第1透明基板および第2透明基板の間隙には、接着層およびフレキシブルプリント配線板が設けられている。接着層は、第1配線層、第2配線層、第1スペーサ層および第2スペーサ層との対向領域内に設けられており、フレキシブルプリント配線板は、第1配線層、第2配線層、第1スペーサ層および第2スペーサ層との対向領域のうち、接着層の未形成領域の少なくとも一部を含む領域に設けられている。
本発明の表示装置は、画像表示面を有する表示パネルと、画像表示面上に配置された上記タッチパネルとを備えている。
本発明のタッチパネルおよび表示装置では、接着層の上面側に設けられた第1配線層の両側面に沿って第1スペーサ層が設けられると共に、接着層の下面側に設けられた第2配線層の両側面に沿って第2スペーサ層が設けられている。これにより、製造過程において、第1透明基板および第2透明基板を積層方向から押圧した際に、接着層が、第1スペーサ層の脇にはみ出して第1透明基板に接触したり、第2スペーサ層の脇にはみ出して第2透明基板に接触したりすることがない。これにより、第1透明基板および第2透明基板の少なくとも一方が可撓性を有している場合に、可撓性を有する透明基板が接着層に引っ張れられて、撓むのを防止することができる。
本発明のタッチパネルおよび表示装置によれば、接着層の上面側に設けられた第1配線層の両側面に沿って第1スペーサ層を設けると共に、接着層の下面側に設けられた第2配線層の両側面に沿って第2スペーサ層を設けるようにしたので、製造過程において、第1透明基板および第2透明基板の少なくとも一方が可撓性を有している場合に、可撓性を有する透明基板が接着層に引っ張れられて、撓むのを防止することができる。これにより、接着層が、第1配線層の脇にはみ出して第1透明基板に接触したり、第2配線層の脇にはみ出して第2透明基板に接触したりしている場合と比べて、タッチパネルの表面に生じる凹凸を小さくすることができる。その結果、透明基板の上面全体をデバイスの筐体の一部として用いた場合であっても、筐体表面のフラット感が損なわれる虞がない。
以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、単に実施の形態という。)について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係るタッチパネル1の概略構成を斜視的に表したものである。図2は、図1のタッチパネル1を分解して表したものである。図3(A)は、図2のタッチパネル1の外縁のA−A矢視方向の断面構成を表したものである。図3(B)は、図2のタッチパネル1の外縁のB−B矢視方向の断面構成を表したものである。図4(A)は、図2のタッチパネル1の外縁のC−C矢視方向の断面構成を表したものである。図4(B)は、図2のタッチパネル1の外縁のD−D矢視方向の断面構成を表したものである。
本実施の形態のタッチパネル1は、例えば液晶パネルや有機ELパネル等を備えた表示装置の上に重ねて画面入力表示装置として用いられ、指やペンなどでタッチパネル1の表面を押すことにより表示装置の表示画面上の表示の選択等を直接行うものである。なお、タッチパネルの種類には、抵抗膜方式や静電容量方式などがあるが、本実施形態では、本発明を抵抗膜方式のタッチパネルに適用した場合を例示して説明する。
タッチパネル1は、例えば、図1、図2に示したように、離間して対向配置された一対の上側基板10および下側基板20を備えている。一対の上側基板10および下側基板20の間には、フレキシブルプリント配線板(FPC)30と接着層40が設けられている。
上側基板10は、指やペンなどが接触する接触面10Aとなる透明基板11(第1透明基板)を有している。透明基板11のうち接触面10Aとは反対側の面(下面)には、抵抗膜12が設けられている。透明基板11の下面のうち抵抗膜12の外縁上には、例えば、図2、図3(A),(B)、図4(A),(B)に示したように、帯状の配線層13A,13B(第1配線層)と、スペーサ層14(第1スペーサ層)が設けられている。配線層13Aは、抵抗膜12の一端に連結されると共に電気的に接続されており、例えば、図2に示したように、T字型となっている。配線層13Bは、抵抗膜12の他端に連結されると共に電気的に接続されており、例えば、図2に示したように、U字型となっている。スペーサ層14は、配線層13A,13Bの酸化を防止すると共に、接着層40の接着面を平坦化するものである。スペーサ層14は、接着層40との対向領域のうち配線層13A,13Bの非形成領域を含む領域に形成されており、例えば、図2に示したように、環状の形状となっている。また、スペーサ層14は、少なくとも配線層13A,13Bの両側面に沿って形成されており、例えば、図2に示したように、配線層13A,13Bの側面全体をほとんど覆っている。スペーサ層14は、例えば、図2、図3(A),(B)、図4(A),(B)に示したように、配線層13A,13Bの側面に接していてもよいが、配線層13A,13Bの側面とわずかな間隙を介して配置されていてもよい。また、スペーサ層14は、例えば、図3(A),(B)、図4(A),(B)に示したように、配線層13A,13Bの厚さと同じ厚さとなっていることが好ましいが、配線層13A,13Bの厚さと若干異なっていてもよい。配線層13A,13Bおよびスペーサ層14の一端が、例えば、図5に示したように、透明基板11の下面の一の端縁であって、かつFPC30の端部30Aとの対向領域に設けられており、FPC30の異方性導電膜38(後述)と接触していてもよい。なお、図5は、タッチパネル1のうちFPC30の端部30A近傍の断面構成を拡大して表したものである。
ここで、透明基板11は、例えば、軟質なポリエチレンテレフタレート(PET)などの可撓性透明樹脂によって構成されており、可撓性を有している。抵抗膜12は、例えば、酸化インジウムスズ(ITO;Indium Tin Oxide)などからなる。配線層13A,13Bは、例えば、銀(Ag)などからなる。スペーサ層14は、例えば、エポキシアクリレート等の高分子樹脂などからなる。
下側基板20は、指やペンなどで上側基板10を接触した際に抵抗膜12が接触する抵抗膜22(後述)を支持する透明基板21(第2透明基板)を有している。透明基板21のうち上側基板10との対向面(上面)であって、かつ抵抗膜12との対向領域には、例えば、図2に示したように、上記した抵抗膜22が設けられている。透明基板21の上面のうち抵抗膜22の外縁上には、例えば、図2、図3(A),(B)、図4(A),(B)に示したように、帯状の配線層23A,23B(第2配線層)と、スペーサ層24(第2スペーサ層)が設けられている。配線層23Aは、抵抗膜22の一端に連結されると共に電気的に接続されており、例えば、図2に示したように、L字型に近い形状となっている。配線層23Bは、抵抗膜22の他端に連結されると共に電気的に接続されており、例えば、図2に示したように、L字を表裏反対にした形に近い形状となっている。スペーサ層24は、接着層40との対向領域のうち配線層23A,23Bの非形成領域を含む領域に形成されており、例えば、図2に示したように、環状の形状となっている。また、スペーサ層24は、少なくとも配線層23A,23Bの両側面に沿って形成されており、例えば、図2に示したように、配線層23A,23Bの側面全体をほとんど覆っている。スペーサ層24は、例えば、図2、図3(A),(B)、図4(A),(B)に示したように、配線層23A,23Bの側面に接していてもよいが、配線層23A,23Bの側面とわずかな間隙を介して配置されていてもよい。また、スペーサ層24は、例えば、図3(A),(B)、図4(A),(B)に示したように、配線層23A,23Bの厚さと同じ厚さとなっていることが好ましいが、配線層23A,23Bの厚さと若干異なっていてもよい。配線層23A,23Bおよびスペーサ層24の一端が、例えば、図5に示したように、透明基板21の上面の一の端縁であって、かつFPC30の端部30Aとの対向領域に設けられており、FPC30の異方性導電膜39(後述)と接触していてもよい。
ここで、透明基板21は、例えば、軟質なポリエチレンテレフタレート(PET)などの可撓性透明樹脂、アクリル板などの硬質透明樹脂材、または硬質な透明ガラスなどによって構成されている。なお、透明基板21が可撓性透明樹脂によって構成されている場合には、透明基板21は可撓性を有している。抵抗膜22は、例えば、酸化インジウムスズ(ITO;Indium Tin Oxide)などからなる。配線層23A,23Bは、例えば、銀(Ag)などからなる。スペーサ層24は、例えば、エポキシアクリレート等の高分子樹脂などからなる。
接着層40は、抵抗膜12,22との対向領域内に開口40Aを有する環形状となっており、抵抗膜12,22の外縁に沿って形成されている。接着層40は、少なくとも配線層13A,13B,23A,23Bとの対向領域に形成されており、例えば、配線層13Aおよびスペーサ層14との対向領域内、配線層13Bおよびスペーサ層14との対向領域内、配線層23Aおよびスペーサ層24との対向領域内、および配線層3Bおよびスペーサ層24との対向領域内に形成されている。これにより、接着層40は、配線層13A,13Bと配線層23A,23Bとを互いに絶縁分離しつつ、上側基板10と下側基板20とを互いに接着している。この接着層40は、FPC30との対応領域に切り欠き40Bを有しており、厚さ方向から見てFPC30と重なり合わないようになっている。接着層40は、例えば、両面テープなどによって構成されている。
FPC30は、図2、図5に示したように、一の方向に延在する帯状のベースフィルム31を有している。このベースフィルム31は、図2に示したように、当該ベースフィルム31の延在方向において互いに対向する一対の端部30A,30Bを有している。端部30Aは、例えば、ベースフィルム31の中央部分の幅よりも広い幅となっており、一対の透明基板11,21に挟まれている。他方、端部30Bは、例えば、端部30Aと同様、ベースフィルム31の中央部分の幅よりも広い幅となっており、タッチパネル1からの出力信号を処理するデバイス(図示せず)に接続可能となっている。ベースフィルム31は、例えば、ポリイミドなどからなる。
ベースフィルム31の下側基板20側の表面には、例えば、銅箔などからなる配線層33が4つ設けられている。4つの配線層33は、ベースフィルム31の下側基板20側の表面に接して形成されており、互いに同一面内に形成されている。また、4つの配線層33は、端部30Aから、端部30Bにかけて線状に形成されている。さらに、4つの配線層33のうち端部30A側の端部がパッド形状となっており、4つの配線層33のうち端部30A側の端部以外の部分が、4つの配線層33のうち端部30A側の端部の幅と比べて若干、狭い幅で形成されている。
ベースフィルム31の上側基板10側の表面には、例えば、銅箔などからなる配線層32が4つ設けられている。4つの配線層32は、ベースフィルム31の上側基板10側の表面に接して形成されており、互いに同一面内に形成されている。また、4つの配線層32のうち端部30A側の端部がパッド形状となっている。従って、本実施の形態のFPC30には、導体パターンを両面に形成した両面構造のフレキシブル基板が用いられている。
さらに、FPC30には、例えば、ベースフィルム31の端部30Aおよび配線層32,33を貫通するスルーホール35が2つ形成されている。4つの配線層33のうち配線層23A,23Bとの対向領域に設けられた2つの配線層(以下、「スルーホール非接触の配線層33」と称する。)は、スルーホール35を避けるようにして端部30Aから端部30Bにかけて延在している。また、4つの配線層33のうち配線層13A,13Bとの対向領域に設けられた2つの配線層(以下、「スルーホール接触の配線層33」と称する。) は、スルーホール35に接して端部30Aから端部30Bにかけて延在している。なお、スルーホール非接触の配線層33の厚さは、例えば、スルーホール接触の配線層33の厚さとほぼ同一となっている。一方、4つの配線層32のうち配線層23A,23Bとの対向領域に設けられた2つの配線層(以下、「スルーホール非接触の配線層32」と称する。)は、スルーホール35を避けるようにして端部30Aに形成されている。また、4つの配線層32のうち配線層13A,13Bとの対向領域に設けられた2つの配線層(以下、「スルーホール接触の配線層32」と称する。) は、スルーホール35に接して形成されている。なお、スルーホール非接触の配線層32の厚さは、例えば、スルーホール接触の配線層32の厚さとほぼ同一となっている。
また、スルーホール35内と、スルーホール接触の配線層32,33のうちスルーホール35近傍の表面上とに、例えば、めっき層34が形成されている。また、スルーホール非接触の配線層32,33のうち端部30Aの表面上に、例えば、めっき層36が形成されている。めっき層36は、例えば、製造過程において、めっき層34を形成する際に同時に一括して形成されるものであり、めっき層36の厚さは、例えば、めっき層34のうち配線層32,33の表面上に形成されている部分の厚さとほぼ同一となっている。めっき層34,36の表面上には、めっき層37が形成されている。
透明基板11のめっき層37側の表面には異方性導電膜38が形成されており、異方性導電膜38が配線層13A,13Bおよびスペーサ層14の端部に接している。一方、透明基板21のめっき層37側の表面には異方性導電膜39が形成されており、異方性導電膜39が配線層23A,23Bおよびスペーサ層24の端部に接している。
ここで、異方性導電膜38,39は、例えば、シート状の異方性導電膜(ACF:Anisotropic conductive film)などにより構成されており、厚さ方向に導電性を有し、かつ厚さと直交する方向に絶縁性を有している。そのため、図5に示したように、異方性導電膜38が配線層13A,13Bに物理的に接していても、異方性導電膜38の面内方向には導通しない。異方性導電膜39についても同様で、異方性導電膜39が配線層23A,23Bに物理的に接していても、異方性導電膜39の面内方向には導通しない。その結果、配線層13Aは異方性導電膜38を介して配線層13Aと対向するめっき層37とだけ電気的に接続され、配線層13Bは異方性導電膜38を介して配線層13Bと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。また、配線層23Aは異方性導電膜39を介して配線層23Aと対向するめっき層37とだけ電気的に接続され、配線層23Bは異方性導電膜39を介して配線層23Bと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。
従って、このタッチパネル1では、透明基板11側の抵抗膜12に連結された2つの配線層13A,13Bがベースフィルム31および配線層32,33に設けられたスルーホール35を介して、スルーホール接触の2つの配線層33に電気的に接続されている。また、透明基板21側の抵抗膜22に連結された2つの配線層23A,23Bがスルーホール35を介さず、異方性導電膜38およびめっき層35,36を介して、スルーホール非接触の2つの配線層33に電気的に接続されている。
なお、図示しないが、異方性導電膜38,39の代わりに、等方性の導電膜を用いてもよい。ただし、その場合には、導電膜の面内方向に導通してしまうので、導電膜を配線層ごとに別体で設けることが必要となる。
また、図2、図5では、配線層13A、13B,23A,23Bのうち異方性導電膜38,39に接する部分が、図のX軸方向において、配線層23A、配線層13A、配線層23B、配線層13Bの順に並んでいるが、それとは異なる順に並んでいてもよい。例えば、配線層13A、13B,23A,23Bのうち異方性導電膜37,38に接する部分が、X軸方向において、配線層23A、配線層23B、配線層13A、配線層13Bの順に並んでいてもよい。
次に、本実施の形態のタッチパネル1の製造方法の一例について説明する。
まず、透明基板11,21の一の面上に、例えばスパッタリング法などの既知の方法でITOからなる抵抗膜12、22をそれぞれ成膜する。その後、透明基板11,21のうち抵抗膜12,22の外縁上に、Agからなる配線層13A,13B,23A,23Bを、スクリーン印刷法などの既知の方法で形成する。続いて、透明基板11,21のうち抵抗膜12,22の外縁上であって、かつ配線層13A,13B,23A,23Bの両側面に隣接して、例えばスクリーン印刷法などの既知の方法でエポキシアクリレート等の高分子樹脂からなるスペーサ層14,24をそれぞれ成膜する。このとき、後述の押圧工程において、接着層40が、スペーサ層14,24の脇にはみ出して透明基板11,21や抵抗膜12,22に接触することがない程度に、スペーサ層14,24の幅が規定されている。このようにして、上側基板10および下側基板20を形成する。
次に、下側基板20を抵抗膜22側が上を向くように載置台に配置し、環状の接着層40を、下側基板20のうち抵抗膜22の外縁上と、配線層23A,23Bおよびスペーサ層24の表面上とに配置する。その後、上側基板10を抵抗膜12側が下を向くようにして、接着層40を介して下側基板20上に配置し、上側基板10と下側基板20とを接着層40によって接着する。このとき、接着層40の上面が配線層13A,13Bおよびスペーサ層14の表面に接するように、上側基板10を下側基板20上に配置する。
次に、FPC30の端部30Aを、接着層40の切り欠き40Bに挿入する。その後、圧着ヘッドによって端部30Aを押圧し、配線層13A,13BおよびACF層(後に異方性導電膜38となる層)と、配線層23A,23BおよびACF層(後に異方性導電膜39となる層)とをそれぞれ圧着接続する。これにより、ACF層が異方性導電膜38,39となるので、配線層13Aが異方性導電膜38を介して配線層13Aと対向するめっき層37とだけ電気的に接続され、配線層13Bが異方性導電膜38を介して配線層13Bと対向するめっき層37とだけ電気的に接続され、配線層23Aが異方性導電膜39を介して配線層23Aと対向するめっき層37とだけ電気的に接続され、配線層23Bが異方性導電膜39を介して配線層23Bと対向するめっき層37とだけ電気的に接続される。このようにして、本実施の形態のタッチパネル1が製造される。
ところで、本実施の形態のタッチパネル1では、接着層40の上面側に設けられた配線層13A,13Bの両側面に沿ってスペーサ層14が設けられると共に、接着層40の下面側に設けられた配線層23A,23Bの両側面に沿ってスペーサ層24が設けられている。また、製造過程において、接着層40がスペーサ層14,24の脇にはみ出して透明基板11,21や抵抗膜12,22に接触することがない程度に、スペーサ層14,24の幅が規定されている。これにより、製造過程において、透明基板11および透明基板21を積層方向から押圧した際に、接着層40が、スペーサ層14,24の脇にはみ出して透明基板11,21や抵抗膜12,22に接触する虞をなくすることができる。その結果、透明基板11,21の少なくとも一方が可撓性を有している場合に、可撓性を有する透明基板が接着層40に引っ張れられて、撓むのを防止することができる。従って、接着層40が、スペーサ層14,24の脇にはみ出して透明基板11,21や抵抗膜12,22に接触している場合と比べて、タッチパネル1の表面に生じる凹凸を小さくすることができるので、透明基板11の上面全体をデバイスの筐体の一部として用いた場合であっても、筐体表面のフラット感が損なわれる虞がない。
[変形例]
上記実施の形態では、接着層40は上側基板10の配線層13A,13Bおよびスペーサ層14と、下側基板20の配線層23A,23Bおよびスペーサ層24とに直接接していたが、例えば、図6(A),(B)、図7(A),(B)に示したように、中間層15,25(第1中間層,第2中間層)を介してこれらの層と密着していてもよい。このようにした場合には、中間層15が配線層13A,13Bとスペーサ層14とのわずかな段差を解消したり、中間層25が配線層23A,23Bとスペーサ層24とのわずかな段差を解消したりすることが可能となるので、接触面10Aをより一層平坦化することができる。
[適用例]
図8は、上記各実施の形態に係るタッチパネル1を表示装置に適用した場合の一適用例を表したものである。図8の表示装置2は、画像表示面3Aを有する表示パネル3(液晶表示パネル、有機ELパネル)と、画像表示面3A上に配置されたタッチパネル1と、表示パネル3の背面に配置されたバックライト4と、これら表示パネル3、タッチパネル1、バックライト4を支持する筐体5とを備えている。本適用例では、上記各実施の形態に係るタッチパネル1が用いられているので、図8に示したように、タッチパネル1を筐体5の凹部5Aに固定し、タッチパネル1の接触面10A全体を筐体5の一部として用いた場合であっても、接触面10Aに凹凸がほとんどないので、筐体表面のフラット感が損なわれる虞がない。
本発明の一実施の形態に係るタッチパネルの斜視図である。 図1のタッチパネルの展開図である。 図2のタッチパネルのA−A,B−B矢視方向の断面図である。 図2のタッチパネルのC−C,D−D矢視方向の断面図である。 図2のタッチパネルのFPC側の端部の断面図である。 図2のタッチパネルの一変形例のA−A,B−B矢視方向の断面図である。 図2のタッチパネルの一変形例のC−C,D−D矢視方向の断面図である。 一適用例に係る表示装置の断面図である。 従来のタッチパネルの断面図である。 図9のタッチパネルの展開図である。
符号の説明
1…タッチパネル、2…表示装置、3…液晶表示パネル、3A…画像表示面、4…バックライト、5…筐体、10…上側基板、10A…接触面、11,21…透明基板、12,22…抵抗膜、13A,13B,23A,23B…配線層、20…下側基板、30…フレキシブルプリント配線板(FPC)、30A,30B…端部、31…ベースフィルム、32,33…配線層、34,36,37…めっき層、35…スルーホール、38,39…異方性導電膜、40…接着層、40A…開口。

Claims (3)

  1. 離間して対向配置された第1透明基板および第2透明基板と、
    前記第1透明基板のうち前記第2透明基板との対向面に設けられた第1配線層と、
    前記第2透明基板のうち前記第1透明基板との対向面に設けられた第2配線層と、
    少なくとも前記第1配線層の両側面に沿って設けられた第1スペーサ層と、
    少なくとも前記第2配線層の両側面に沿って設けられた第2スペーサ層と、
    前記第1透明基板および前記第2透明基板の間隙であって、かつ前記第1配線層、前記第2配線層、前記第1スペーサ層および前記第2スペーサ層との対向領域内に設けられた接着層と、
    前記第1透明基板および前記第2透明基板の間隙であって、かつ前記第1配線層、前記第2配線層、前記第1スペーサ層および前記第2スペーサ層との対向領域のうち前記接着層の未形成領域の少なくとも一部を含む領域に設けられたフレキシブルプリント配線板とを備えたタッチパネル。
  2. 前記第1配線層および前記第1スペーサ層と前記接着層との間に設けられた第1中間層と、
    前記第2配線層および前記第2スペーサ層と前記接着層との間に設けられた第2中間層とを備えた請求項1に記載のタッチパネル。
  3. 画像表示面を有する表示パネルと、
    前記画像表示面上に配置されたタッチパネルと
    を備え、
    前記タッチパネルは、
    離間して対向配置された第1透明基板および第2透明基板と、
    前記第1透明基板のうち前記第2透明基板との対向面に設けられた第1配線層と、
    前記第2透明基板のうち前記第1透明基板との対向面に設けられた第2配線層と、
    少なくとも前記第1配線層の両側面に沿って設けられた第1スペーサ層と、
    少なくとも前記第2配線層の両側面に沿って設けられた第2スペーサ層と、
    前記第1透明基板および前記第2透明基板の間隙であって、かつ前記第1配線層、前記第2配線層、前記第1スペーサ層および前記第2スペーサ層との対向領域内に設けられた接着層と、
    前記第1透明基板および前記第2透明基板の間隙であって、かつ前記第1配線層、前記第2配線層、前記第1スペーサ層および前記第2スペーサ層との対向領域のうち前記接着層の未形成領域の少なくとも一部を含む領域に設けられたフレキシブルプリント配線板とを備えた表示装置。
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