JP2010028073A - フォーカスリング及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プラズマ処理を施す処理室内に配設された電極の周縁部に取り付けられる誘電率が異なった複数の誘電体を積層した多層構造フォーカスリングであって、誘電率が低い低誘電率誘電体6aを電極5側に配置し、誘電率が低誘電率誘電体6aの誘電率以上で、かつ、低誘電率誘電体6aよりも耐プラズマ性が高い耐プラズマ性誘電体6bを処理室の処理空間側に配置する。
【選択図】図2
Description
図1は、この発明の第1の実施形態に係るプラズマ処理装置の一例を概略的に示す断面図である。
図3Aは第2の実施形態に係るフォーカスリングの一例を示した斜視図、図3Bは図3A中の3B−3B線に沿う断面図である。
図6は第3の実施形態に係るフォーカスリングの一例を示した断面図、図7は第3の実施形態に係るフォーカスリングの他例を示した断面図である。
図9は第4の実施形態に係るフォーカスリングの一例を示した断面図である。
図10は第5の実施形態に係るフォーカスリングの一例を示した断面図、図11は第5の実施形態に係るフォーカスリングの他例を示した断面図である。
上記実施形態においては、低誘電率誘電体6aを基材5側に配置し、耐プラズマ性誘電体6bを処理チャンバ2の処理空間側に配置することで、図12に示すように、基材5の凸部5aの底面47から垂直方向への電界Evの影響を弱めることができ、高周波電界に対するシールド性を向上させることができる。しかしながら、シールド性を高めて、垂直方向への電界Evを弱めた結果、逆に凸部5aの側面45から斜め方向への電界Eiが強くなり、フォーカスリング6に局所的な削れ、例えば、図12中、参照符号67に示すように、斜め方向への電界Eiが最も強く作用する部分に削れを生じる可能性がある。このような削れを抑制したい場合には、この第6の実施形態に係るフォーカスリングを用いると良い。
耐プラズマ性材料の使用量を最小限にとどめることができ、耐プラズマ性、及び高周波電界に対するシールド性の双方ともが優れるとともに、特に、高周波電界に対するシールド性がさらに向上するフォーカスリングを安価に得ることができる、という利点を得ることができる、
(第7の実施形態)
第7の実施形態は、第6の実施形態と同様に、斜め方向への電界Eiを弱めることが可能なフォーカスリングに関わる。
Claims (13)
- プラズマ処理を施す処理室内に配設された電極の周縁部に取り付けられる誘電率が異なった複数の誘電体を積層した多層構造フォーカスリングであって、
誘電率が低い低誘電率誘電体を前記電極側に配置し、誘電率が前記低誘電率誘電体の誘電率以上で、かつ、前記低誘電率誘電体よりも耐プラズマ性が高い耐プラズマ性誘電体を前記処理室の処理空間側に配置したことを特徴とするフォーカスリング。 - 前記低誘電率誘電体及び前記耐プラズマ性誘電体がそれぞれ複数の分割部材を繋いだ分割型であり、
前記分割部材のつなぎ目の位置が、前記低誘電率誘電体と前記耐プラズマ性誘電体とで異なることを特徴とする請求項1に記載のフォーカスリング。 - 前記電極が凸部と、この凸部の周囲にフランジ部とを有し、
前記低誘電率誘電体が、前記フランジ部の縁の上を覆うことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のフォーカスリング。 - 前記低誘電率誘電体の水平方向の幅が、前記フランジ部の水平方向の幅よりも広く、もしくは狭く、かつ、前記耐プラズマ性誘電体の水平方向の幅よりも狭いことを特徴とする請求項3に記載のフォーカスリング。
- 前記フォーカスリングの外側に絶縁リングを、さらに具備し、
前記フォーカスリングと前記絶縁リングとの境界面が、鍵型あるいは階段状であることを特徴とする請求項1に記載のフォーカスリング。 - 前記絶縁リングが多重構造であることを特徴とする請求項5に記載のフォーカスリング。
- 前記凸部の側面と、前記低誘電率誘電体の、前記凸部側に位置する内側面との間に、誘電体シール部材を、さらに具備することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のフォーカスリング。
- 前記誘電体シール部材の誘電率が、前記耐プラズマ性誘電体の誘電率以下であることを特徴とする請求項7に記載のフォーカスリング。
- 前記誘電体シール部材と前記フランジ部との間に、誘電体スペーサを、さらに具備することを特徴とする請求項7に記載のフォーカスリング。
- 前記誘電体スペーサの誘電率が、前記耐プラズマ性誘電体の誘電率以下であることを特徴とする請求項9に記載のフォーカスリング。
- 前記電極に、高周波が印加されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のフォーカスリング。
- 前記低誘電率誘電体が、多孔質誘電体であることを特徴とする請求項1乃至請求項11いずれか一項に記載のフォーカスリング。
- 被処理体にプラズマ処理を施す処理室と、
前記処理室内に配設された上部電極と、
前記処理室内の、前記上部電極と対向する位置に配設され、請求項1乃至請求項12いずれか一項に記載のフォーカスリングが取り付けられた下部電極と、
を具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
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