JP2010027923A - 半導体光素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】 p型ドーパントの拡散を防止可能な半導体光素子を提供する。
【解決手段】 半導体光素子は、p型半導体基板、メサ構造部、半絶縁性半導体埋込層、及び、拡散防止層を備えている。メサ構造部は、p型半導体基板の上に設けられている。また、メサ構造部は、p型半導体基板の上に積層されたp型クラッド層、活性層、及びn型クラッド層を含んでいる。半絶縁性半導体埋込層には、Feがドープされている。半絶縁性半導体埋込層は、上記積層の方向に交差する方向においてメサ構造部の両側に設けられている。拡散防止層は、p型ドーパントの拡散を防止するための層である。拡散防止層は、p型半導体基板とメサ構造部の間、及び、p型半導体基板と半絶縁性半導体埋込層との間に設けられている。
【選択図】 図1
【解決手段】 半導体光素子は、p型半導体基板、メサ構造部、半絶縁性半導体埋込層、及び、拡散防止層を備えている。メサ構造部は、p型半導体基板の上に設けられている。また、メサ構造部は、p型半導体基板の上に積層されたp型クラッド層、活性層、及びn型クラッド層を含んでいる。半絶縁性半導体埋込層には、Feがドープされている。半絶縁性半導体埋込層は、上記積層の方向に交差する方向においてメサ構造部の両側に設けられている。拡散防止層は、p型ドーパントの拡散を防止するための層である。拡散防止層は、p型半導体基板とメサ構造部の間、及び、p型半導体基板と半絶縁性半導体埋込層との間に設けられている。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体光素子に関するものである。
半導体光素子には、特許文献1に開示されたものがある。特許文献1に開示の半導体光素子は、n型InP基板、メサ構造部、Feドープの半絶縁性のInP電流阻止層、及び、拡散防止層を備えている。メサ構造部は、n型InP基板上に設けられており、当該n型InP基板上に順に積層されたn型クラッド層、活性領域、Znドープのp型クラッド層を有している。半絶縁性InP電流阻止層は、メサ構造部の両側に設けられている。半絶縁性InP電流阻止層により、半絶縁性InP電流阻止層へのリーク電流を低減し、メサ構造部に電流を集中させることができる。拡散防止層は、InAlAs及び/又はInGaAsから構成されており、電流阻止層とメサ構造部との間、即ち、メサ構造部の側部に接触するように設けられている。p型クラッド層にドープされたZnは、半絶縁性InP電流阻止層にドープされたFe不純物と相互拡散し易く、メサ構造部においてp型クラッド層と電流阻止層とが直接接触すると、p型クラッド層にドープされたZnが、容易に半絶縁性InP電流阻止層に拡散し、半絶縁性InP電流阻止層の抵抗を下げ、リーク電流を増大させることが知られている。この拡散防止層は、p型クラッド層のZnが、半絶縁性のInP電流阻止層に拡散することを防止している。
特開2001−352131号公報
上述したn型InP基板に代えて、p型InP基板を用いることが考えられる。このような光半導体素子では、p型InP基板上に、p型クラッド層、活性領域、n型クラッド層を有するメサ構造部が形成される。また、メサ構造部の両側に、Feドープの半絶縁性のInP埋込層が形成される。特許文献1の教示によれば、かかるp型InP基板を用いる半導体光素子では、p型クラッド層から半絶縁性の埋込層へのZnの拡散を防止するために、メサ構造の側部に拡散防止層を用いることは可能である。
しかしながら、p型基板を用いた半導体光素子では、p型の不純物としてZn不純物がドープされ、このZn不純物が、活性層や埋め込み層へ拡散し、素子特性への影響が無視できないことが、明らかになった。そこで、p型クラッド層から半絶縁性の埋込層へのZnの拡散を防止することに加えて、更にp型基板からのp型ドーパントの拡散を防止する必要性がある。
本発明は、p型ドーパントの拡散を防止可能な半導体光素子を提供することを目的としている。
本発明の半導体光素子は、p型半導体基板、メサ構造部、半絶縁性半導体埋込層、及び、拡散防止層を備えている。メサ構造部は、p型半導体基板の上に設けられている。また、メサ構造部は、p型半導体基板の上に積層されたIII-V族化合物半導体からなるp型クラッド層、活性領域、及びn型クラッド層を含んでいる。半絶縁性半導体埋込層には、Feがドープされている。半絶縁性半導体埋込層は、上記積層の方向に交差する方向においてメサ構造部の両側に設けられている。拡散防止層は、p型ドーパントの拡散を防止するためのIII-V族化合物半導体からなる層である。拡散防止層は、p型半導体基板とメサ構造部の間、及び、p型半導体基板と半絶縁性半導体埋込層との間に設けられている。
本半導体光素子によれば、p半導体基板から半絶縁性埋込層へのp型ドーパントの直接的な拡散が防止される。また、p型半導体基板とp型クラッド層との間のドーパントの濃度差に起因するp半導体基板からのp型クラッド層を経由するp型ドーパントの拡散が防止される。
また、拡散防止層は、AlInAs半導体材料からなり、その厚みが、100nm以下であることが好ましい。拡散防止層がメサ構造部とp型半導体基板との間に介在することによって抵抗値が増加することがある。この構成の半導体光素子によれば、拡散防止層を100nm以下とすることによって、半導体光素子の抵抗値を抑えることが可能となる。
また、拡散防止層に、p型半導体基板内のp型ドーパントの濃度より低い濃度で、当該p型ドーパントがドープされていることが好適である。このような濃度でp型ドーパントを拡散防止層に含めることによって、拡散防止層の機能、即ち、p型半導体基板からのp型ドーパントの拡散を防止するという機能を実現しつつ、半導体光素子の抵抗値の抑制を実現することが可能となる。
また、本発明の半導体光素子は、半絶縁性半導体埋込層と拡散防止層との間に、p型半導体基板から半絶縁性半導体埋込層へのホールの流入を防止するためのn型のホール流入防止層を更に備えることが好適である。
以上説明したように、本発明によれば、p型半導体基板からのp型ドーパントの拡散を防止可能な半導体光素子が提供される。
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
図1は、一実施形態に係る半導体光素子の断面図である。図1に示す半導体光素子10は、半導体基板12、メサ構造部14、半導体埋込層16、及び、拡散防止層18を備えている。
半導体基板12は、p型のドーパントが高濃度にドープされたp型半導体基板である。本例では、半導体基板12は、3×1018cm−3の濃度でZnがドープされたInP基板である。半導体基板12の厚みは、例えば、100μmである。
メサ構造部14は、半導体基板12の一方の主面の側に設けられている。メサ構造部14は、p型クラッド層20、活性領域22、及び、n型クラッド層24を含んでいる。p型クラッド層20、活性領域22、及び、n型クラッド層24は、半導体基板12の一方の主面の上に、順に積層されている。
p型クラッド層20は、p型のドーパントがドープされた半導体層である。本例では、p型クラッド層20は、8×1017cm−3の濃度でZnがドープされたInP半導体層である。p型クラッド層20の厚みは、例えば、0.5μmである。
活性領域22は、注入される電流により光を発生する領域である。本例では、活性領域22は、多重量子井戸−分離閉じ込め構造(MQW−SCH)を有している。即ち、本例の活性領域22は、活性層22aと、当該活性層22aの上下に設けられた上部SCH層22b及び下部SCH層22cを含んでいる。
活性層22aは、例えば、ノンドープのAlGaInAsから構成され、その発光波長は、1.3μmである。また、活性層22aの厚みは、例えば、0.14μmである。上部SCH層22b及び下部SCH層22cは、例えば、ノンドープのAlGaInAsから構成されており、これらの厚みは、例えば、40nmである。
n型クラッド層24は、n型のドーパントがドープされた半導体層である。本例では、n型クラッド層24は、8×1017cm−3の濃度でSiがドープされたInP半導体層である。n型クラッド層24の厚みは、例えば、1.5μmである。
本例のメサ構造部14は、コンタクト層26を更に含んでいる。コンタクト層26は、n型クラッド層24上に形成されている。コンタクト層26は、例えば、1×1019cm−3の濃度でSiがドープされたInGaAsP半導体層であり、後述する上部電極層とのオーミック接触を提供している。コンタクト層26の厚みは、例えば、0.5μmである。
半導体埋込層16は、このメサ構造部14の両側に設けられている。即ち、半導体埋込層16は、メサ構造部14の各層の積層方向に交差する方向において当該メサ構造部14の両側に設けられている。半導体埋込層16は、半絶縁性の半導体層であり、例えば、Feが2×1018cm−3の濃度でドープされたInP半導体層である。
本半導体光素子10では、拡散防止層18が、半導体基板12と半導体埋込層16の間、及び、半導体基板12とメサ構造部14との間に形成されている。即ち、拡散防止層18は半導体基板12の一方の主面上に形成されており、この拡散防止層18上に、メサ構造部14及び半導体埋込層16が形成されている。
拡散防止層18は、半導体基板12からp型ドーパント(Zn)が拡散することを防止するための半導体層である。具体的には、拡散防止層18は、半導体基板12からp型ドーパントが半導体埋込層16に直接拡散することを防止する。また、拡散防止層18は、半導体基板12とp型クラッド層20の間のp型ドーパントの濃度差に起因して、半導体基板12からp型ドーパントが、p型クラッド層20を介して、半導体埋込層16に拡散すること、また、活性領域22に拡散することを防止している。
拡散防止層18は、例えば、AlInAs又はInGaAsから構成し得る。拡散防止層18の厚みは、20〜100nmの範囲にあることが好ましい。これは、AlInAsといった材料から構成される拡散防止層18は、半導体光素子10の抵抗値を上昇させるからである。AlInAs半導体層が、メサ構造部と半導体埋込層との間に形成された場合は、AlInAs半導体層による抵抗増大は、埋め込み層へのリーク電流をより低減するので、より好適に機能する。しかし、本実施形態においては、拡散防止層18が半導体基板12の一方の主面上に形成され、この拡散防止層18上に、メサ構造部14が形成されているので、このAlInAs半導体層を形成したことによる素子抵抗の増大による素子特性への影響を無視することができない。一例を示すと、AlInAs/InPの価電子帯バンドオフセットは100meV程度であり、したがって、拡散防止層18は、半導体光素子10の抵抗値を上昇させ、しきい値電流の増大、発光効率の低下等の特性の劣化を生じることが考えられる。よって、拡散防止層18の厚みは、100nm以下であることが好ましい。ここで、拡散防止層を有していない半導体光素子の抵抗値は、6.5Ωであるのに対して、厚みが100nmのAlInAs拡散防止層18を有する半導体光素子10の抵抗値は7.7Ωである。したがって、100nm以下の拡散防止層18であれば、抵抗値の上昇の影響は少ない。また、本願発明者は、20nmの厚みを有する拡散防止層を含む半導体光素子10を作成した結果、半導体基板12からのp型ドーパントの拡散は十分に防止されることを、確認している。
拡散防止層18は、半導体基板12のp型ドーパントの濃度よりも低い濃度で、p型ドーパントを含んでいることも好ましい。例えば、拡散防止層18には、5×1017〜3×1018cm−3の濃度で、p型ドーパント(Zn)をドープすることができる。拡散防止層18にp型ドーパントを導入することで、半導体基板12からのp型ドーパントの拡散を防止しつつ、半導体光素子10の抵抗値の上昇を抑制することが可能となる。
また、半導体光素子10は、絶縁層28、下部電極30、及び上部電極32を更に備えている。絶縁層28は、半導体埋込層16上に形成されており、コンタクト層26上に開口を提供している。絶縁層28は、例えば、SiO2又はSiNといった材料から構成された層である。上部電極32は、絶縁層28上に形成されており、また、絶縁層28に形成された開口を介してコンタクト層26上に形成されている。また、下部電極30は、半導体基板12の他方の主面上に形成されている。
かかる構成を有する半導体光素子10は、拡散防止層18により半導体基板12からのp型ドーパントの拡散を防止できるので、半導体埋込層16の電流ブロック機能の低下を防止することができる。したがって、半導体光素子10は、高温特性、高出力特性に優れている。
以下、半導体光素子10の製造方法について説明する。図2は、一実施形態に係る半導体光素子の製造方法を示す図である。図2は、半導体光素子の製造方法における各工程で製造される生産物の断面を示している。
図2の(a)に示すように、本製造方法では、まず、半導体基板12の上に、拡散防止層18、p型クラッド層20、活性領域22、n型クラッド層24、及び、コンタクト層26が順に成長される。これら各層は、例えば、MOVPE法を用いて成長させることが可能である。なお、活性層22a以外の各層は、半導体基板12の材料、例えば、InPに、格子整合させる。ここで、拡散防止層18は実質的に平坦な基板12の主面上に、略一面にわたって形成されるので、その形成は容易である。
次に、図2の(b)に示すように、コンタクト層26上に、SiO2等の絶縁膜が形成され、当該絶縁膜をマスクとして反応性イオンエッチング(RIE)によりメサ構造部14が形成される。なお、図2の(b)に示すように、本例の製造方法では、拡散防止層18が露出する前に、RIEによるエッチングが停止されている。
次いで、図2の(c)に示すように、RIEエッチング後に残されたメサ構造部14の両側のp型クラッド層20が、ウェットエッチングにより除去され、拡散防止層18が露出される。ウェットエッチングには、p型クラッド層20を選択的にエッチングするエッチャントを用いることができる。したがって、ウェットエッチングによれば、メサ構造部14の高さのウェハ面内の均一性を高めることができる。かかるエッチャントとしては、例えば、HCl:H3PO4:CH3COOH 溶液を用いることが可能である。なお、メサ構造部14を形成するためのエッチングには、ウェットエッチングを用いずに、RIEエッチングのみを用いてもよい。
次いで、本例の製造方法では、図2の(d)に示すように、メサ構造部14の両側に半導体埋込層16が埋め込まれる。そして、図2の(e)に示すように、絶縁層28が形成され、コンタクト層26上において絶縁層28に開口が形成される。
最後に、図2の(f)に示すように、半導体基板12の他方の主面に下部電極30が形成され、絶縁層28上及びコンタクト層26上に上部電極32が形成される。以上の工程を経て、半導体光素子10が形成される。
以下、本発明の別の実施形態に係る半導体光素子について説明する。図3は、別の実施形態に係る半導体光素子の断面図である。図3に示す半導体光素子10Bは、拡散防止層18と半導体埋込層16との間に、ホール流入防止層34を備えている点において、半導体光素子10と異なっている。
ホール流入防止層34は、n型の半導体層であり、例えば、Siが8×1017cm−3の濃度でドープされたInP半導体層である。ホール流入防止層34の厚みは、例えば、0.1μmである。
このホール流入防止層34は、半導体基板12から半導体埋込層16へのホールの流入を防止する機能を有している。したがって、ホール流入防止層34によって、半導体光素子10Bの高温特性、及び、高出力特性が向上される。
ホール流入防止層34は、メサ構造部14の形成(図2の(c)を参照)の後に、露出している拡散防止層18上に成長させることが可能である。なお、このホール流入防止層34は、活性領域22には接触させないように形成されることが必要である。
以上、本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はこれら実施の形態に限定されるものでない。例えば、半導体光素子の各層の材料、ドーパントの材料、各層の厚みは、当業者であれば、適宜選択可能である。
10,10B…半導体光素子、12…半導体基板、14…メサ構造部、16…半導体埋込層、18…拡散防止層、20…p型クラッド層、22…活性領域、24…n型クラッド層、26…コンタクト層、28…絶縁層、30…下部電極、32…上部電極、34…ホール流入防止層。
Claims (4)
- p型半導体基板と、
前記p型半導体基板の上に設けられたメサ構造部であって、前記p型半導体基板の上に積層されたIII-V族化合物半導体からなるp型クラッド層、活性領域、及びn型クラッド層を含む、該メサ構造部と、
前記積層の方向に交差する方向において前記メサ構造部の両側に設けられたFeドープの半絶縁性半導体埋込層と、
p型ドーパントの拡散を防止するためのIII-V族化合物半導体からなる拡散防止層であって、前記p型半導体基板と前記メサ構造部の間、及び、前記p型半導体基板と前記半絶縁性半導体埋込層との間に設けられた該拡散防止層と、
を備える、半導体光素子。 - 前記拡散防止層は、AlInAs半導体材料からなり、その厚みが、100nm以下である、請求項1に記載の半導体光素子。
- 前記拡散防止層に、前記p型半導体基板内のp型ドーパントの濃度より低い濃度で、該p型ドーパントがドープされている、請求項1又は2に記載の半導体光素子。
- 前記半絶縁性半導体埋込層と前記拡散防止層との間に、前記p型半導体基板から前記半絶縁性半導体埋込層へのホールの流入を防止するn型のホール流入防止層を更に備える、請求項1〜3の何れか一項に記載の半導体光素子。
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JP2018006590A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 日本電信電話株式会社 | 光半導体素子 |
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